JPH06144863A - 光ファイバ母材の表面処理方法 - Google Patents
光ファイバ母材の表面処理方法Info
- Publication number
- JPH06144863A JPH06144863A JP29724292A JP29724292A JPH06144863A JP H06144863 A JPH06144863 A JP H06144863A JP 29724292 A JP29724292 A JP 29724292A JP 29724292 A JP29724292 A JP 29724292A JP H06144863 A JPH06144863 A JP H06144863A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- fiber preform
- preform
- sio
- metal alkoxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/01433—Reactant delivery systems for delivering and depositing additional reactants as liquids or solutions, e.g. for solution doping of the porous glass preform
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光ファイバ母材（プリフォーム）製造時にそ
の表面に発生するピンホール、亀裂、剥離等の傷を完全
に除去する。 【構成】 光ファイバ母材をＳｉＯ2 用金属アルコキシ
ド溶液に浸漬し、この光ファイバ母材表面にゲルコーテ
ィング膜を形成して、しかる後、乾燥して加熱固着せし
めて、光ファイバ母材表面にＳｉＯ2 被膜を形成する。
の表面に発生するピンホール、亀裂、剥離等の傷を完全
に除去する。 【構成】 光ファイバ母材をＳｉＯ2 用金属アルコキシ
ド溶液に浸漬し、この光ファイバ母材表面にゲルコーテ
ィング膜を形成して、しかる後、乾燥して加熱固着せし
めて、光ファイバ母材表面にＳｉＯ2 被膜を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバ母材の表面
処理方法に係り、特に光ファイバ母材表面の傷等の欠陥
を容易に除去することのできる光ファイバ母材の表面処
理方法に関する。
処理方法に係り、特に光ファイバ母材表面の傷等の欠陥
を容易に除去することのできる光ファイバ母材の表面処
理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、光ファイバは、従来の銅導体と
比べ物理的な或いは機械的な特性に著しい違いがあるた
め、１次被覆、２次被覆等を施し、光ファイバ心線とし
て機械的な特性、取扱い易さの向上を図っている。この
光ファイバ心線は、予め製造された光ファイバ母材（プ
リフォーム）を光ファイバ線引装置において、電気炉内
で加熱溶融して引き出して紡糸して製造される。
比べ物理的な或いは機械的な特性に著しい違いがあるた
め、１次被覆、２次被覆等を施し、光ファイバ心線とし
て機械的な特性、取扱い易さの向上を図っている。この
光ファイバ心線は、予め製造された光ファイバ母材（プ
リフォーム）を光ファイバ線引装置において、電気炉内
で加熱溶融して引き出して紡糸して製造される。
【０００３】光ファイバ母材の製造方法として、内付け
法（ＭＣＶＤ法）、外付け法（ＯＶＰＯ法）、軸付け法
（ＶＡＤ法）、ハイブリッド法（ＨＶＤ法）等が知られ
ている。このうち、ハイブリッド法は、２段階の工程に
よってコア部材とクラッド部材とから成る光ファイバ母
材を形成する。すなわち、第１工程において、コア部形
成用バ−ナからガラス微粒子を含む火炎を噴射し、石英
棒などから成るタ−ゲットを移動させながら、このタ−
ゲットの軸方向にガラス微粒子を連続して付着堆積させ
てコア部材を形成する。この後、第２工程において、ク
ラッド部形成用のバ−ナからガラス微粒子を含む火炎を
噴射しつつ、前記コア部材を往復動させることにより、
コア部材の軸方向にクラッド部形成用のバ−ナからのガ
ラス微粒子を付着堆積させ、クラッド部材を形成する。
これにより、内側にコア部材、その外側にクラッド部材
が配置された構造の光ファイバ母材が形成される。この
ようにして形成された光ファイバ母材は、次の線引き工
程で紡糸され、所定径の光ファイバ心線となる。
法（ＭＣＶＤ法）、外付け法（ＯＶＰＯ法）、軸付け法
（ＶＡＤ法）、ハイブリッド法（ＨＶＤ法）等が知られ
ている。このうち、ハイブリッド法は、２段階の工程に
よってコア部材とクラッド部材とから成る光ファイバ母
材を形成する。すなわち、第１工程において、コア部形
成用バ−ナからガラス微粒子を含む火炎を噴射し、石英
棒などから成るタ−ゲットを移動させながら、このタ−
ゲットの軸方向にガラス微粒子を連続して付着堆積させ
てコア部材を形成する。この後、第２工程において、ク
ラッド部形成用のバ−ナからガラス微粒子を含む火炎を
噴射しつつ、前記コア部材を往復動させることにより、
コア部材の軸方向にクラッド部形成用のバ−ナからのガ
ラス微粒子を付着堆積させ、クラッド部材を形成する。
これにより、内側にコア部材、その外側にクラッド部材
が配置された構造の光ファイバ母材が形成される。この
ようにして形成された光ファイバ母材は、次の線引き工
程で紡糸され、所定径の光ファイバ心線となる。
【０００４】このような光ファイバ母材は、クラッド部
形成用のバ−ナからのガラス微粒子を付着堆積させてク
ラッド部材を形成して製造されるが、その表面は必ずし
も無傷に仕上がるものではない。光ファイバ母材の表面
は、ピンホール、亀裂、剥離等の欠陥があり、このまま
線引き装置で紡糸して光ファイバ心線を製造すると、光
ファイバ母材の表面のピンホール、亀裂、剥離等の傷が
そのまま光ファイバ心線に現れ、光ファイバ心線の引張
強度が著しく低下してしまう。
形成用のバ−ナからのガラス微粒子を付着堆積させてク
ラッド部材を形成して製造されるが、その表面は必ずし
も無傷に仕上がるものではない。光ファイバ母材の表面
は、ピンホール、亀裂、剥離等の欠陥があり、このまま
線引き装置で紡糸して光ファイバ心線を製造すると、光
ファイバ母材の表面のピンホール、亀裂、剥離等の傷が
そのまま光ファイバ心線に現れ、光ファイバ心線の引張
強度が著しく低下してしまう。
【０００５】そこで従来は、図３に示す如く、線引き前
の光ファイバ母材１００を、５〜３０重量％の濃度のふ
っ酸溶液２００に０．５〜５時間浸漬し、光ファイバ母
材の表面を厚さ０．０５〜２ｍｍ溶解して、化学研磨す
る。さらに、図４に示す如く、ふっ酸溶液で浸漬処理後
の光ファイバ母材１００を酸水素炎３００で、その表面
温度が１５００〜２３００℃になるように１回以上火炎
研磨する。
の光ファイバ母材１００を、５〜３０重量％の濃度のふ
っ酸溶液２００に０．５〜５時間浸漬し、光ファイバ母
材の表面を厚さ０．０５〜２ｍｍ溶解して、化学研磨す
る。さらに、図４に示す如く、ふっ酸溶液で浸漬処理後
の光ファイバ母材１００を酸水素炎３００で、その表面
温度が１５００〜２３００℃になるように１回以上火炎
研磨する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このように従来の光フ
ァイバ母材の表面処理方法にあっては、一次的に、線引
き前の光ファイバ母材の表面を５〜３０％重量％濃度の
ふっ酸溶液に０．５〜５時間浸漬し厚さ０．０５〜２ｍ
ｍ溶解（化学研磨）させることによって光ファイバ母材
の表面に形成されているピンホール、亀裂、剥離等の傷
を除去しようとしている。このように光ファイバ母材を
ふっ酸溶液に浸漬してその表面を溶解することによって
研磨する場合は、光ファイバ母材の表面全体を均一に溶
解することになる。このため、光ファイバ母材の表面に
ピンホール、亀裂、剥離等の傷が形成されている状態
で、光ファイバ母材をふっ酸溶液に浸漬してその表面を
溶解すると、傷のない部分が０．０５〜２ｍｍの厚さ溶
解されるが、ピンホール、亀裂、剥離等の傷の内部にも
ふっ酸溶液が侵入し、傷の内部も傷のない部分同様に溶
解される。したがって、光ファイバ母材の表面を５〜３
０％重量％濃度のふっ酸溶液に０．５〜５時間浸漬して
表面を溶解させて化学研磨しても光ファイバ母材の表面
に形成されているピンホール、亀裂、剥離等の傷を除去
することはできないという問題点を有している。
ァイバ母材の表面処理方法にあっては、一次的に、線引
き前の光ファイバ母材の表面を５〜３０％重量％濃度の
ふっ酸溶液に０．５〜５時間浸漬し厚さ０．０５〜２ｍ
ｍ溶解（化学研磨）させることによって光ファイバ母材
の表面に形成されているピンホール、亀裂、剥離等の傷
を除去しようとしている。このように光ファイバ母材を
ふっ酸溶液に浸漬してその表面を溶解することによって
研磨する場合は、光ファイバ母材の表面全体を均一に溶
解することになる。このため、光ファイバ母材の表面に
ピンホール、亀裂、剥離等の傷が形成されている状態
で、光ファイバ母材をふっ酸溶液に浸漬してその表面を
溶解すると、傷のない部分が０．０５〜２ｍｍの厚さ溶
解されるが、ピンホール、亀裂、剥離等の傷の内部にも
ふっ酸溶液が侵入し、傷の内部も傷のない部分同様に溶
解される。したがって、光ファイバ母材の表面を５〜３
０％重量％濃度のふっ酸溶液に０．５〜５時間浸漬して
表面を溶解させて化学研磨しても光ファイバ母材の表面
に形成されているピンホール、亀裂、剥離等の傷を除去
することはできないという問題点を有している。
【０００７】さらに、従来の光ファイバ母材の表面処理
方法にあっては、二次的に、ふっ酸溶液で浸漬処理後の
光ファイバ母材を酸水素炎で、その表面温度が１５００
〜２３００℃になるように加熱（火炎研磨）することに
よってふっ酸溶液で浸漬処理によって除去できなかった
光ファイバ母材の表面のピンホール、亀裂、剥離等の傷
を除去しようとしている。このように光ファイバ母材の
表面を酸水素炎で加熱溶融することによって研磨する場
合は、光ファイバ母材の表面全体を均一に溶融すること
になる。このため、光ファイバ母材の表面にピンホー
ル、亀裂、剥離等の傷が形成されている状態で、光ファ
イバ母材を加熱溶融すると、ピンホール、亀裂、剥離等
の傷の内部も傷のない部分同様に加熱溶融され、光ファ
イバ母材の表面に形成されているピンホール、亀裂、剥
離等の傷を完全に除去することができないという問題点
を有している。
方法にあっては、二次的に、ふっ酸溶液で浸漬処理後の
光ファイバ母材を酸水素炎で、その表面温度が１５００
〜２３００℃になるように加熱（火炎研磨）することに
よってふっ酸溶液で浸漬処理によって除去できなかった
光ファイバ母材の表面のピンホール、亀裂、剥離等の傷
を除去しようとしている。このように光ファイバ母材の
表面を酸水素炎で加熱溶融することによって研磨する場
合は、光ファイバ母材の表面全体を均一に溶融すること
になる。このため、光ファイバ母材の表面にピンホー
ル、亀裂、剥離等の傷が形成されている状態で、光ファ
イバ母材を加熱溶融すると、ピンホール、亀裂、剥離等
の傷の内部も傷のない部分同様に加熱溶融され、光ファ
イバ母材の表面に形成されているピンホール、亀裂、剥
離等の傷を完全に除去することができないという問題点
を有している。
【０００８】本発明は、光ファイバ母材（プリフォー
ム）製造時にその表面に発生するピンホール、亀裂、剥
離等の傷を完全に除去し、引張強度の高い光ファイバ心
線を製造することのできる光ファイバ母材の表面処理方
法を提供することを目的としている。
ム）製造時にその表面に発生するピンホール、亀裂、剥
離等の傷を完全に除去し、引張強度の高い光ファイバ心
線を製造することのできる光ファイバ母材の表面処理方
法を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、光ファイバ母材の表面処理方法においては、光ファ
イバ母材をＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液に浸漬し前
記光ファイバ母材表面にゲルコーティング膜を形成し、
しかる後乾燥して加熱固着せしめ前記光ファイバ母材表
面にＳｉＯ2 被膜を形成するものである。
に、光ファイバ母材の表面処理方法においては、光ファ
イバ母材をＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液に浸漬し前
記光ファイバ母材表面にゲルコーティング膜を形成し、
しかる後乾燥して加熱固着せしめ前記光ファイバ母材表
面にＳｉＯ2 被膜を形成するものである。
【００１０】
【作用】光ファイバ母材をＳｉＯ2 用金属アルコキシド
溶液に浸漬する。そして、ＳｉＯ2 用金属アルコキシド
溶液に浸漬することにより光ファイバ母材表面にＳｉＯ
2 のゲルコーティング膜を形成する。さらに、このゲル
コーティング膜を常温で乾燥し、しかる後、光ファイバ
母材表面を加熱して固着せしめ光ファイバ母材表面にＳ
ｉＯ2 被膜を形成する。
溶液に浸漬する。そして、ＳｉＯ2 用金属アルコキシド
溶液に浸漬することにより光ファイバ母材表面にＳｉＯ
2 のゲルコーティング膜を形成する。さらに、このゲル
コーティング膜を常温で乾燥し、しかる後、光ファイバ
母材表面を加熱して固着せしめ光ファイバ母材表面にＳ
ｉＯ2 被膜を形成する。
【００１１】このように、光ファイバ母材をＳｉＯ2 用
金属アルコキシド溶液に浸漬し前記光ファイバ母材表面
にゲルコーティング膜を形成し、しかる後乾燥して加熱
固着せしめ前記光ファイバ母材表面にＳｉＯ2 被膜を形
成しているため、光ファイバ母材製造時に、光ファイバ
母材の表面に発生したピンホール、亀裂、剥離等の傷を
光ファイバ母材の表面にコーティングしたＳｉＯ2 によ
って埋め、光ファイバ母材（プリフォーム）製造時にそ
の表面に発生するピンホール、亀裂、剥離等の傷を完全
に除去し、引張強度の高い光ファイバ心線を製造するこ
とができる。
金属アルコキシド溶液に浸漬し前記光ファイバ母材表面
にゲルコーティング膜を形成し、しかる後乾燥して加熱
固着せしめ前記光ファイバ母材表面にＳｉＯ2 被膜を形
成しているため、光ファイバ母材製造時に、光ファイバ
母材の表面に発生したピンホール、亀裂、剥離等の傷を
光ファイバ母材の表面にコーティングしたＳｉＯ2 によ
って埋め、光ファイバ母材（プリフォーム）製造時にそ
の表面に発生するピンホール、亀裂、剥離等の傷を完全
に除去し、引張強度の高い光ファイバ心線を製造するこ
とができる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
１には、本発明に係る光ファイバ母材の表面処理方法の
実施例を示す処理フローチャートが示されている。図に
示される処理手順にしたがって光ファイバ母材の表面処
理方法を説明する。
１には、本発明に係る光ファイバ母材の表面処理方法の
実施例を示す処理フローチャートが示されている。図に
示される処理手順にしたがって光ファイバ母材の表面処
理方法を説明する。
【００１３】まず、ステッブ１において、ＳｉＯ2 用金
属アルコキシド溶液を作成する。このＳｉＯ2 用金属ア
ルコキシド溶液は、アルコールの水酸基の水素をＳｉＯ
2 で置換した化合物をゲル状にしたものである。この金
属アルコキシド溶液は、Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 を水・ア
ルコールを溶媒とする溶液である。そして、このＳｉ
（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 溶液にＨＣｌ（塩酸）を加水分解触媒
として添加することによって、光ファイバ母材の表面に
シリカ・ガラス・コーティング膜を形成することのでき
るＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液を作成する。Ｓｉ
（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 溶液にＨＣｌ（塩酸）を加水分解触媒
として添加すると、ゾル状になり、このゾルは、室内に
放置すると、加水分解及び重合反応によって粘度が徐々
に大きくなる。このように作成されたＳｉＯ2 用金属ア
ルコキシド溶液１０は、図２に示す如く、容器２０に収
納する。
属アルコキシド溶液を作成する。このＳｉＯ2 用金属ア
ルコキシド溶液は、アルコールの水酸基の水素をＳｉＯ
2 で置換した化合物をゲル状にしたものである。この金
属アルコキシド溶液は、Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 を水・ア
ルコールを溶媒とする溶液である。そして、このＳｉ
（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 溶液にＨＣｌ（塩酸）を加水分解触媒
として添加することによって、光ファイバ母材の表面に
シリカ・ガラス・コーティング膜を形成することのでき
るＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液を作成する。Ｓｉ
（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 溶液にＨＣｌ（塩酸）を加水分解触媒
として添加すると、ゾル状になり、このゾルは、室内に
放置すると、加水分解及び重合反応によって粘度が徐々
に大きくなる。このように作成されたＳｉＯ2 用金属ア
ルコキシド溶液１０は、図２に示す如く、容器２０に収
納する。
【００１４】このステップ１においてＳｉＯ2 用金属ア
ルコキシド溶液を作成すると、ステップ２において、こ
のＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液内に光ファイバ母材
を浸漬（ディッピング）させる。すなわち、光ファイバ
母材３０は、アーム５０に巻き付けたワイヤ４０に取り
付けられ、容器２０の上方から吊り下げるようにして容
器２０内に収納されたＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液
１０の中に浸漬する。この光ファイバ母材３０を浸漬す
るＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液２０には、Ｓｉ（Ｏ
Ｃ2 Ｈ5 ）4 溶液にＨＣｌ（塩酸）を加水分解触媒とし
て添加して加水分解及び重合反応によって粘度がある規
定の粘度に達したものを用いる。この光ファイバ母材３
０のＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液１０への浸漬は、
光ファイバ母材３０の表面にＳｉＯ2 用金属アルコキシ
ド溶液１０が十分行き渡るだけの時間で十分である。
ルコキシド溶液を作成すると、ステップ２において、こ
のＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液内に光ファイバ母材
を浸漬（ディッピング）させる。すなわち、光ファイバ
母材３０は、アーム５０に巻き付けたワイヤ４０に取り
付けられ、容器２０の上方から吊り下げるようにして容
器２０内に収納されたＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液
１０の中に浸漬する。この光ファイバ母材３０を浸漬す
るＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液２０には、Ｓｉ（Ｏ
Ｃ2 Ｈ5 ）4 溶液にＨＣｌ（塩酸）を加水分解触媒とし
て添加して加水分解及び重合反応によって粘度がある規
定の粘度に達したものを用いる。この光ファイバ母材３
０のＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液１０への浸漬は、
光ファイバ母材３０の表面にＳｉＯ2 用金属アルコキシ
ド溶液１０が十分行き渡るだけの時間で十分である。
【００１５】このステップ２においてＳｉＯ2 用金属ア
ルコキシド溶液内に光ファイバ母材を浸漬すると、ステ
ップ３において、光ファイバ母材を引き上げる。すなわ
ち、光ファイバ母材３０は、台座７０の上に設置された
モータ６０のモータシャフトに固着されているアーム５
０をモータ６０を駆動することによりワイヤ４０を巻き
取って吊り上げることにより、ＳｉＯ2 用金属アルコキ
シド溶液２０から引き上げる。この光ファイバ母材３０
の引上げ速度は、ＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液２０
の粘度と関係し、光ファイバ母材３０の表面に０．１〜
０．３μｍの膜厚が形成できる程度にＳｉＯ2 用金属ア
ルコキシド溶液２０の粘度と引上げ速度を調整する。
ルコキシド溶液内に光ファイバ母材を浸漬すると、ステ
ップ３において、光ファイバ母材を引き上げる。すなわ
ち、光ファイバ母材３０は、台座７０の上に設置された
モータ６０のモータシャフトに固着されているアーム５
０をモータ６０を駆動することによりワイヤ４０を巻き
取って吊り上げることにより、ＳｉＯ2 用金属アルコキ
シド溶液２０から引き上げる。この光ファイバ母材３０
の引上げ速度は、ＳｉＯ2 用金属アルコキシド溶液２０
の粘度と関係し、光ファイバ母材３０の表面に０．１〜
０．３μｍの膜厚が形成できる程度にＳｉＯ2 用金属ア
ルコキシド溶液２０の粘度と引上げ速度を調整する。
【００１６】ステップ３において光ファイバ母材を引き
上げると、ステップ４において、光ファイバ母材３０の
表面に０．１〜０．３μｍの膜厚のコーティング膜が形
成される。このコーティング膜は、ゲル状になってい
る。
上げると、ステップ４において、光ファイバ母材３０の
表面に０．１〜０．３μｍの膜厚のコーティング膜が形
成される。このコーティング膜は、ゲル状になってい
る。
【００１７】次に、ステップ５において、光ファイバ母
材３０の表面に形成されたゲルコーティング膜を室温で
乾燥する。乾燥の方法は、自然放置による方法、減圧乾
燥する方法等いずれでもよい。乾燥ができると、ステッ
プ６において、１５００℃以下で加熱し、光ファイバ母
材３０の表面に形成されたコーティング膜を光ファイバ
母材３０に融合させる。そして、ステップ７において、
ＳｉＯ2 コーティング膜を光ファイバ母材３０の表面に
形成させると光ファイバ母材の表面処理を終了する。
材３０の表面に形成されたゲルコーティング膜を室温で
乾燥する。乾燥の方法は、自然放置による方法、減圧乾
燥する方法等いずれでもよい。乾燥ができると、ステッ
プ６において、１５００℃以下で加熱し、光ファイバ母
材３０の表面に形成されたコーティング膜を光ファイバ
母材３０に融合させる。そして、ステップ７において、
ＳｉＯ2 コーティング膜を光ファイバ母材３０の表面に
形成させると光ファイバ母材の表面処理を終了する。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、光ファイバ母材をＳｉＯ2 用
金属アルコキシド溶液に浸漬し前記光ファイバ母材表面
にゲルコーティング膜を形成し、しかる後乾燥して加熱
固着せしめ前記光ファイバ母材表面にＳｉＯ2 被膜を形
成するように構成されているので、光ファイバ母材（プ
リフォーム）製造時にその表面に発生するピンホール、
亀裂、剥離等の傷を完全に除去し、引張強度の高い光フ
ァイバ心線を製造することができる。
金属アルコキシド溶液に浸漬し前記光ファイバ母材表面
にゲルコーティング膜を形成し、しかる後乾燥して加熱
固着せしめ前記光ファイバ母材表面にＳｉＯ2 被膜を形
成するように構成されているので、光ファイバ母材（プ
リフォーム）製造時にその表面に発生するピンホール、
亀裂、剥離等の傷を完全に除去し、引張強度の高い光フ
ァイバ心線を製造することができる。
【図１】本発明に係る光ファイバ母材の表面処理方法の
実施例を示す処理フローチャートである。
実施例を示す処理フローチャートである。
【図２】本発明に係る光ファイバ母材の表面処理方法を
実施するための光ファイバ母材の表面処理装置の模式図
である。
実施するための光ファイバ母材の表面処理装置の模式図
である。
【図３】従来の光ファイバ母材の表面処理方法のふっ酸
溶液による処理状態を示す図である。
溶液による処理状態を示す図である。
【図４】従来の光ファイバ母材の表面処理方法のふっ酸
溶液による表面処理後の光ファイバ母材を酸水素炎によ
って火炎研磨する状態を示す図である。
溶液による表面処理後の光ファイバ母材を酸水素炎によ
って火炎研磨する状態を示す図である。
１０……………………………………………ＳｉＯ2 用金
属アルコキシド溶液 ２０……………………………………………容器 ３０……………………………………………光ファイバ母
材 ４０……………………………………………ワイヤ ５０……………………………………………アーム ６０……………………………………………モータ ７０……………………………………………台座
属アルコキシド溶液 ２０……………………………………………容器 ３０……………………………………………光ファイバ母
材 ４０……………………………………………ワイヤ ５０……………………………………………アーム ６０……………………………………………モータ ７０……………………………………………台座
Claims (1)
- 【請求項１】 光ファイバ母材をＳｉＯ2 用金属アルコ
キシド溶液に浸漬し前記光ファイバ母材表面にゲルコー
ティング膜を形成し、しかる後乾燥して加熱固着せしめ
前記光ファイバ母材表面にＳｉＯ2 被膜を形成する光フ
ァイバ母材の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29724292A JPH06144863A (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 光ファイバ母材の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29724292A JPH06144863A (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 光ファイバ母材の表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06144863A true JPH06144863A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=17844006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29724292A Pending JPH06144863A (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 光ファイバ母材の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06144863A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016529409A (ja) * | 2013-07-22 | 2016-09-23 | モーガン・アドヴァンスト・マテリアルズ・ピーエルシーＭｏｒｇａｎ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｐｌｃ． | 無機繊維組成 |
-
1992
- 1992-11-06 JP JP29724292A patent/JPH06144863A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016529409A (ja) * | 2013-07-22 | 2016-09-23 | モーガン・アドヴァンスト・マテリアルズ・ピーエルシーＭｏｒｇａｎ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｐｌｃ． | 無機繊維組成 |
| US9944552B2 (en) | 2013-07-22 | 2018-04-17 | Morgan Advanced Materials Plc | Inorganic fibre compositions |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4427717A (en) | Process for producing an object with a chiralic structure obtained from a shapeable material source | |
| JP2690106B2 (ja) | 光ファイバの製作法 | |
| US3933453A (en) | Flame hydrolysis mandrel and method of using | |
| US4854956A (en) | Method of manufacturing optical fibres having a core and a cladding of glass applying the rod-in-tube technique | |
| JP3941910B2 (ja) | 耐水素性光導波路ファイバおよびその前駆体であるスートプレフォームの製造方法 | |
| JPS6054893B2 (ja) | 光導波管のためのプレフオームを形成する方法 | |
| US3899313A (en) | Method of producing a light conducting fiber having a core and a casing | |
| CN111170628B (zh) | 一种抗拉光纤的制备方法 | |
| US4832722A (en) | Method of manufacturing flexible optical fiber bundles | |
| US20070160854A1 (en) | Method for manufacturing grin lens and grin lens | |
| JPH06144863A (ja) | 光ファイバ母材の表面処理方法 | |
| JPS587962B2 (ja) | ヒカリフアイバ− ノ セイゾウホウホウ | |
| JPS6086047A (ja) | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 | |
| JP2004043198A (ja) | 光ファイバ母材の洗浄方法 | |
| JP2002047031A (ja) | アルミナおよびまたはシリカを被覆したプリフォームおよび光ファイバー | |
| JPS6137212B2 (ja) | ||
| JP2512294B2 (ja) | 光フアイバ及びその製造方法 | |
| JPS5934139B2 (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
| JP2799730B2 (ja) | フッ化物光ファイバの線引き方法およびその線引き装置 | |
| JPH028973B2 (ja) | ||
| JPH0477691B2 (ja) | ||
| JPS6256093B2 (ja) | ||
| JPH0559850B2 (ja) | ||
| JPS5948771B2 (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
| JPS6033234A (ja) | 石英プリフォ−ムの表面欠陥補正方法 |