JPH06142600A - 被膜形成用塗布液の貯蔵方法 - Google Patents
被膜形成用塗布液の貯蔵方法Info
- Publication number
- JPH06142600A JPH06142600A JP29529392A JP29529392A JPH06142600A JP H06142600 A JPH06142600 A JP H06142600A JP 29529392 A JP29529392 A JP 29529392A JP 29529392 A JP29529392 A JP 29529392A JP H06142600 A JPH06142600 A JP H06142600A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- dry gas
- coating liquid
- container
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 76
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 75
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 4
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 abstract description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 13
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 11
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 11
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 5
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N diethoxysilane Chemical compound CCO[SiH2]OCC ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxybutane Chemical compound CCCCOCC PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000000101 transmission high energy electron diffraction Methods 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
合物および/またはその加水分解重縮合物が有機溶媒中
に溶解または分散した被膜形成用塗布液を、水分量が1
ppm以下の乾燥ガスを封入した密閉容器内で貯蔵する
被膜形成用塗布液の貯蔵方法。 【効果】 上記塗布液中で貯蔵中に微粒子の発生が抑制
され、この結果、塗布液のポットライフが飛躍的に向上
する。
Description
方法に関し、さらに詳しくは、分子中にSi−H結合を
有する有機ケイ素化合物および/またはその加水分解重
縮合物が有機溶媒中に溶解または分散した被膜形成用塗
布液の貯蔵方法に関する。
基板とアルミニウム配線層などの金属配線層との間、あ
るいは金属配線層間に絶縁膜が設けられ、また、液晶表
示装置では液晶表示セルの一部である透明電極板の透明
電極と配向膜との間に絶縁膜が設けられている。
表示装置用の絶縁膜として、あるいはレンズなどのハー
ドコート膜として、塗布法によって形成されたシリカ系
被膜が用いられている。
コキシシランなどのような加水分解可能な有機ケイ素化
合物および/またはこの加水分解重縮合物であるポリシ
ロキサンなどが有機溶媒中に溶解または分散した塗布液
が用いられており、また、最近ではポリシラザンが有機
溶媒中に溶解または分散した塗布液を用いる試みもなさ
れている。
する有機ケイ素化合物および/またはこの加水分解重縮
合物が被膜形成成分として有機溶媒中に溶解または分散
したシリカ系被膜形成用塗布液は、製造後、空気中に放
置しておくとゲル化が進行して塗布液中に微粒子が発生
するなど、概してそのポットライフが短く、ポットライ
フの向上が望まれている。
る問題点を解決しようとするものであって、分子中にS
i−H結合を有する有機ケイ素化合物および/またはそ
の加水分解重縮合物が被膜形成成分として有機溶媒中に
溶解または分散したシリカ系被膜形成用塗布液を長期間
にわたって貯蔵できるような被膜形成用塗布液の貯蔵方
法を提供することを目的としている。
法は、分子中にSi−H結合を有する有機ケイ素化合物
および/またはその加水分解重縮合物が有機溶媒中に溶
解または分散した被膜形成用塗布液を、水分量が1pp
m以下の乾燥ガスを封入した密閉容器内で貯蔵すること
を特徴としている。
好ましく、また、加圧状態で容器内に封入されているこ
とが好ましい。
布液の貯蔵方法について具体的に説明する。本発明に係
る被膜形成用塗布液の貯蔵方法では、分子中にSi−H
結合を有する有機ケイ素化合物および/またはその加水
分解重縮合物が有機溶媒中に溶解または分散した被膜形
成用塗布液を、水分量が1ppm以下の乾燥ガスを封入
した密閉容器内で貯蔵する。
次式〔I〕 HaR1 bSiX4-(a+b) …〔I〕 (式中、R1は炭化水素基または水素原子であり、Xは
ハロゲンまたはアルコキシ基であり、aは1〜3の整数
であり、bは0〜2の整数であり、a+bは1〜3であ
る。)で表わされる加水分解性有機ケイ素化合物または
その部分加水分解重縮合物、および次式〔II〕
して水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基であ
る。)で表わされる繰り返し単位を少なくとも有する鎖
状または環状のポリシラザンなどが挙げられる。
具体的には、トリクロロシラン、ジクロロシランなどの
ようなハロゲン化シラン、トリメトキシシラン、ジメト
キシシラン、トリエトキシシラン、ジエトキシシランな
どのアルコキシシランなどが挙げられる。
63−16325号公報、または米国特許第43978
28号明細書に記載された方法によって製造することが
できる。
これらの1種または2種以上の有機ケイ素化合物および
/またはその加水分解重縮合物と、1種または2種以上
の有機溶媒とからなっている。
溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール等
のアルコール類、メチルイソブチルケトンなどのケトン
類、シクロヘキサン、トルエン、キシレンなどの環状炭
化水素、エチルブチルエーテル、ジエチルエーテル、ジ
オキサンなどのエーテル類が挙げられ、これらの単独ま
たは2種以上の混合溶媒が用いられる。
では、上記塗布液を貯蔵する容器としてボトル、タンク
などのような密閉可能な容器が用いられる。このような
容器は、少なくとも塗布液と接する部分が、ガラス、ス
テンレス、あるいはアクリロニトリル系樹脂、フッ素樹
脂などのプラスチックから選ばれる気密な材質からなっ
ている。
蔵方法では、水分量が1ppm以下の乾燥ガスを封入し
た密閉容器内で上記塗布液を貯蔵すればよく、上記のよ
うな密閉可能な容器内に水分量が1ppm以下の乾燥ガ
スおよび塗布液を入れる順序に制限はない。すなわち、
容器内の空気を水分量が1ppm以下の乾燥ガスで置換
した後で塗布液を容器内に収容することができ、また、
塗布液を容器内に収容した後で容器内の空気を水分量が
1ppm以下の乾燥ガスで置換することもでき、あるい
は、容器内の空気を水分量が1ppm以下の乾燥ガスで
置換しながら塗布液を容器内に収容することもできる。
れ、かつ、容器内の空気が水分量が1ppm以下の乾燥
ガスと置換された状態で容器を密閉することにより、こ
のような乾燥ガスの封入された容器内で塗布液を貯蔵す
る。
は、容器内で貯蔵されている塗布液の貯蔵安定性の点か
ら、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガスが好ま
しい。また、この乾燥ガスは、加圧状態で容器内に封入
されていることが好ましい。貯蔵容器内の乾燥ガス圧
は、大気圧よりも高ければ充分であり、また、このガス
圧を、極端に高くする必要はなく、0.5〜5kg/c
m2・G程度に維持することが好ましい。
た密閉容器はできるだけ低温に保持しながら貯蔵するこ
とが好ましく、乾燥ガスの封入された容器を約5℃以下
の雰囲気温度で貯蔵することが好ましい。
によれば、分子中にSi−H結合を有する有機ケイ素化
合物および/またはその加水分解重縮合物が有機溶媒に
溶解または分散した被膜形成用塗布液塗布液中で貯蔵中
に微粒子の発生が抑制され、この結果、塗布液のポット
ライフが飛躍的に向上する。
のポットライフが飛躍的に向上する理由は、次のように
推定される。被膜形成用塗布液に含まれている有機ケイ
素化合物および/またはこの加水分解重縮合物は、分子
中にSi−H結合があると、空気中では比較的不安定
で、空気中の水分と容易に加水分解反応を起こす。この
加水分解物が局部的に重縮合して遂にはゲル化し、塗布
液中に微粒子が発生する。このため塗布液のポットライ
フが低下する。
の貯蔵法では、容器中の空気が水分量1ppm以下の乾
燥ガスで置換されているので、上記有機ケイ素化合物お
よび/またはこの加水分解重縮合物を加水分解させ、塗
布液のポットライフを低下させる水分が貯蔵容器中にほ
とんどなく、このため塗布液のポットライフが飛躍的に
向上する。
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
のような製造法でポリシラザンAを合成した。
にピリジン600mlを入れ、攪拌しながらジクロロシラ
ン28.3gを加えて錯体(ピリジンアダクツ)を形成
させた。次いでこのピリジンアダクツを含む液中にアン
モニアを2時間吹き込んで沈澱を生じさせた。この沈澱
を濾過して除去した後、濾液を80℃で10時間加熱
し、次いで減圧して濾液からピリジンを除去することに
より、反応器内に樹脂状のポリシラザンAを得た。 2)ポリシロキサンBの合成 1リットルの四つ口フラスコ内にメチルイソブチルケト
ン400g、水360gをいれ、0℃に冷却した。次い
で、攪拌しながらこの四つ口フラスコ内にジエトキシシ
ラン40gを加え、さらに1時間攪拌した。しかる後、
この四つ口フラスコを加熱して30℃で5時間保持し
た。こうして得られた反応液からポリシロキサンBを含
む有機相を抽出し、次いで、この有機相を減圧下で濃縮
することにより、樹脂状のポリシロキサンBを得た。 3)ポリシラザン/ポリシロキサン共重合体Cの合成 ポリシラザンAの5重量%メチルイソブチルケトン溶液
とポリシロキサンBの5重量%メチルイソブチルケトン
溶液とを、ポリシラザンA/ポリシロキサンBが重量比
で8/2となるような量で20℃で混合し、次いで溶媒
を減圧で留去することにより、樹脂状のポリシラザン/
ポリシロキサン共重合体Cを得た。 4)被膜形成用塗布液a〜cの製造 上記ポリシラザンAをキシレンに溶解してポリシラザン
Aを20重量%含む被膜形成用塗布液aを調製した。
量%メチルイソブチルケトン溶液からなる被膜形成用塗
布液bおよび上記ポリシラザン/ポリシロキサン共重合
体Cの20重量%キシレン溶液からなる被膜形成用塗布
液cを調製した。
液a〜cを、それぞれテフロン製フィルター(口径0.
1μm)でろ過した後、塗布液中に存在する0.5μm
以上の微粒子の個数をパーティクルカウンター(KL2
2型、リオン社製)で測定し、重量平均分子量をゲルク
ロマトグラフ法で測定した。被膜形成用塗布液a〜cの
測定結果を参考例1〜3としてそれぞれ表2〜4に示
す。
を、それぞれ表1に示す材質の容器に充填し、表1に示
す条件で容器内部の空気を水分量0.86ppmの窒素
ガスで置換した後、この容器を密閉した。なお、表1で
封入ガス圧力:0kg/cm2・Gと記載されているの
は、容器内部の空気が水分量0.86ppmの窒素ガス
で置換されていない状態で塗布液を貯蔵したことを示
す。なお、上記ガス中の水分量は、SHAW露点計(日
本冶金工業社製SADP型)で測定した。
被膜形成用塗布液a〜cを貯蔵した後、この密閉容器を
開放して、容器内部に貯蔵されていたそれぞれの被膜形
成用塗布液a〜c中に存在する0.5μm以上の微粒子
の個数と重量平均分子量を測定した。結果を表2〜4に
示す。
Claims (3)
- 【請求項1】分子中にSi−H結合を有する有機ケイ素
化合物および/またはその加水分解重縮合物が有機溶媒
中に溶解または分散した被膜形成用塗布液を、水分量が
1ppm以下の乾燥ガスを封入した密閉容器内で貯蔵す
ることを特徴とする被膜形成用塗布液の貯蔵方法。 - 【請求項2】前記乾燥ガスが不活性ガスである請求項1
記載の被膜形成用塗布液の貯蔵方法。 - 【請求項3】前記乾燥ガスを、加圧状態で容器内に封入
する請求項1記載の被膜形成用塗布液の貯蔵方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29529392A JP3227232B2 (ja) | 1992-11-04 | 1992-11-04 | 被膜形成用塗布液の貯蔵方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29529392A JP3227232B2 (ja) | 1992-11-04 | 1992-11-04 | 被膜形成用塗布液の貯蔵方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06142600A true JPH06142600A (ja) | 1994-05-24 |
JP3227232B2 JP3227232B2 (ja) | 2001-11-12 |
Family
ID=17818733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29529392A Expired - Lifetime JP3227232B2 (ja) | 1992-11-04 | 1992-11-04 | 被膜形成用塗布液の貯蔵方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3227232B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19729850C2 (de) * | 1997-04-10 | 2002-09-05 | Kawaei Co Ltd | Schnellauslassventil |
-
1992
- 1992-11-04 JP JP29529392A patent/JP3227232B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19729850C2 (de) * | 1997-04-10 | 2002-09-05 | Kawaei Co Ltd | Schnellauslassventil |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3227232B2 (ja) | 2001-11-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5380555A (en) | Methods for the formation of a silicon oxide film | |
JP4277037B2 (ja) | 柔軟な有機及び堅い無機部分を含む化合物の前駆体及びその製造法 | |
US4999397A (en) | Metastable silane hydrolyzates and process for their preparation | |
US8993072B2 (en) | Halogenated organoaminosilane precursors and methods for depositing films comprising same | |
US5085893A (en) | Process for forming a coating on a substrate using a silsesquioxane resin | |
US8940380B2 (en) | Coating liquid for forming insulation film, insulation film using the same, and method for producing compound used in the same | |
US5045592A (en) | Metastable silane hydrolyzates | |
CN100393730C (zh) | 多官能环状硅酸盐(或酯)化合物,由该化合物制得的基于硅氧烷的聚合物和使用该聚合物制备绝缘膜的方法 | |
EP2270020B1 (en) | Epoxy compound and process for producing the epoxy compound | |
JP4155947B2 (ja) | シロキサン系樹脂及びこれを用いた半導体層間絶縁膜 | |
JP3227232B2 (ja) | 被膜形成用塗布液の貯蔵方法 | |
JP3229419B2 (ja) | 酸化ケイ素膜の形成方法 | |
US5338817A (en) | Method for the preparation of a silicone resin | |
JPS6216212B2 (ja) | ||
JP4793524B2 (ja) | テトラアルコキシシラン縮合物及びその製造方法 | |
US9809711B2 (en) | Catalyst and formulations comprising same for alkoxysilanes hydrolysis reaction in semiconductor process | |
JP3229418B2 (ja) | 酸化ケイ素膜の形成方法 | |
EP1602692B1 (en) | Silicon-containing compound, composition containing said compound, and insulating film | |
JPH06235067A (ja) | 酸化ケイ素膜の形成方法 | |
US5868827A (en) | Chemically bonding material and method for manufacturing the same | |
Gryaznov et al. | Physicochemical study of Ta2O5 and SiO2-Ta2O5 film formation from film-forming solutions | |
JPH06128378A (ja) | ケイ素化合物及びその製造法 | |
Arkles et al. | Arkles et al.(45) Date of Patent: Aug. 3, 2004 | |
JPH03217417A (ja) | シリコーン化合物及びその製造法 | |
JPH04351684A (ja) | 耐湿性及び耐アルカリイオン性保護膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080831 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080831 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090831 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090831 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100831 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110831 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110831 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120831 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120831 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130831 Year of fee payment: 12 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130831 |