JPH0612534Y2 - 自動分析装置 - Google Patents
自動分析装置Info
- Publication number
- JPH0612534Y2 JPH0612534Y2 JP1987126028U JP12602887U JPH0612534Y2 JP H0612534 Y2 JPH0612534 Y2 JP H0612534Y2 JP 1987126028 U JP1987126028 U JP 1987126028U JP 12602887 U JP12602887 U JP 12602887U JP H0612534 Y2 JPH0612534 Y2 JP H0612534Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaning liquid
- constant temperature
- reaction
- temperature water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 この考案は自動分析装置に関する。さらに詳しくは反応
恒温槽を有し、反応管を洗浄により繰返し使用する自動
分析装置に関する。
恒温槽を有し、反応管を洗浄により繰返し使用する自動
分析装置に関する。
（ロ）従来の技術 複数の反応管と、これらを所定方向に順次移送しうる反
応ラインと、この移送中の反応管を浸漬して所定温度に
保持しうる恒温水を貯留した反応恒温槽と、洗浄液を洗
浄液供給槽から送液ポンプおよび洗浄ノズルをこの順に
経て各反応管内に順次供給しうる洗浄液供給流路で構成
された洗浄手段とを備え、洗浄後の反応管を繰返し使用
しうるよう構成された光学測定用自動分析装置におい
て、測定が終了した反応管は順次反応ラインを搬送され
て該ラインに付設された洗浄手段により洗浄された後、
再び次回測定に供される。このような装置の洗浄手段に
は、廃液を吸引する吸引口と洗浄水を吐出する吐出口を
有する洗浄ノズルに、洗浄液供給槽から室温の洗浄液を
供給して洗浄しうるよう構成されたものや、上記のごと
き洗浄ノズルに前記反応恒温槽内の恒温水を供給して洗
浄しうるよう構成されたもの（特開昭61-247970号公
報）が使用されている。
応ラインと、この移送中の反応管を浸漬して所定温度に
保持しうる恒温水を貯留した反応恒温槽と、洗浄液を洗
浄液供給槽から送液ポンプおよび洗浄ノズルをこの順に
経て各反応管内に順次供給しうる洗浄液供給流路で構成
された洗浄手段とを備え、洗浄後の反応管を繰返し使用
しうるよう構成された光学測定用自動分析装置におい
て、測定が終了した反応管は順次反応ラインを搬送され
て該ラインに付設された洗浄手段により洗浄された後、
再び次回測定に供される。このような装置の洗浄手段に
は、廃液を吸引する吸引口と洗浄水を吐出する吐出口を
有する洗浄ノズルに、洗浄液供給槽から室温の洗浄液を
供給して洗浄しうるよう構成されたものや、上記のごと
き洗浄ノズルに前記反応恒温槽内の恒温水を供給して洗
浄しうるよう構成されたもの（特開昭61-247970号公
報）が使用されている。
また一方、前記恒温槽は通常、加温用ヒータのON・OFF
のみで温度制御がなされるよう構成されており、冷却す
る場合は別に水等を注入するなどして行っている。
のみで温度制御がなされるよう構成されており、冷却す
る場合は別に水等を注入するなどして行っている。
（ハ）考案が解決しようとする問題点 しかしながら上記従来の装置では以下に示す問題点があ
る。すなわち、洗浄手段において使用する洗浄液が室温
等の低温であると洗浄効率が悪く、洗浄後すぐにセルブ
ランクを測定するような反応管直接測光の装置では、洗
浄による反応管の温度低下はセルブランク測定に誤差を
与える原因となる。さらに洗浄液加温用のヒータを別途
取付けることはコストアップとなる。また、恒温水は汚
染されている可能性が高く従って洗浄水としては不適で
ある。
る。すなわち、洗浄手段において使用する洗浄液が室温
等の低温であると洗浄効率が悪く、洗浄後すぐにセルブ
ランクを測定するような反応管直接測光の装置では、洗
浄による反応管の温度低下はセルブランク測定に誤差を
与える原因となる。さらに洗浄液加温用のヒータを別途
取付けることはコストアップとなる。また、恒温水は汚
染されている可能性が高く従って洗浄水としては不適で
ある。
一方、恒温槽の温度制御が加温用ヒータのON・OFFのみ
であると温度リップルが大きい。また常に水を一定量加
えることで冷却機能を持たせるとランニングコストが高
くつく。またさらに冷却機能を合わせ持つ温度制御方法
にするとコストアップになる。
であると温度リップルが大きい。また常に水を一定量加
えることで冷却機能を持たせるとランニングコストが高
くつく。またさらに冷却機能を合わせ持つ温度制御方法
にするとコストアップになる。
この考案はかかる状況に鑑みなされたものであり、低コ
ストで洗浄液の加温と恒温水の冷却機能を付加した自動
分析装置を提供しようとするものである。
ストで洗浄液の加温と恒温水の冷却機能を付加した自動
分析装置を提供しようとするものである。
（ニ）問題点を解決するための手段 かくしてこの考案によれば、複数の反応管と、これらを
所定方向に順次移送しうる反応ラインと、この移送中の
反応管を浸漬して所定温度に保持しうる恒温水を貯留し
た反応恒温槽と、洗浄液を洗浄液供給槽から送液ポンプ
および洗浄ノズルをこの順に経て各反応管内に順次供給
しうる洗浄液供給流路で構成された洗浄手段とを備え、
洗浄後の反応管を繰返し使用しうるよう構成された光学
測定用自動分析装置であって、 上記洗浄液供給流路の一部を、上記恒温槽内に配設し、
恒温水と熱交換的に接触させて洗浄液加温兼恒温水冷却
が行われるよう管路構成したことを特徴とする自動分析
装置が提供される。
所定方向に順次移送しうる反応ラインと、この移送中の
反応管を浸漬して所定温度に保持しうる恒温水を貯留し
た反応恒温槽と、洗浄液を洗浄液供給槽から送液ポンプ
および洗浄ノズルをこの順に経て各反応管内に順次供給
しうる洗浄液供給流路で構成された洗浄手段とを備え、
洗浄後の反応管を繰返し使用しうるよう構成された光学
測定用自動分析装置であって、 上記洗浄液供給流路の一部を、上記恒温槽内に配設し、
恒温水と熱交換的に接触させて洗浄液加温兼恒温水冷却
が行われるよう管路構成したことを特徴とする自動分析
装置が提供される。
この考案において洗浄液加温兼恒温水冷却用管路は、洗
浄液供給流路の洗浄ノズルと送液ポンプとの間に構成さ
れることが好ましい。
浄液供給流路の洗浄ノズルと送液ポンプとの間に構成さ
れることが好ましい。
（ホ）作用 この考案によれば、反応管洗浄に際し洗浄液が高温層内
の恒温水と熱交換によって加温されたのち反応管に供給
される。また洗浄液を供給することにより恒温槽内の恒
温水は、洗浄液との熱交換によって冷却されることとな
る。
の恒温水と熱交換によって加温されたのち反応管に供給
される。また洗浄液を供給することにより恒温槽内の恒
温水は、洗浄液との熱交換によって冷却されることとな
る。
以下実施例によりこの考案を詳細に説明するが、これに
よりこの考案は限定されるものではない。
よりこの考案は限定されるものではない。
（ヘ）実施例 第１図はこの考案の自動分析装置の一実施例の構成説明
図である。図において該装置(1)は、主として自動分析
部(A)と洗浄部(B)とから構成されている。
図である。図において該装置(1)は、主として自動分析
部(A)と洗浄部(B)とから構成されている。
自動分析部(A)は、検体供給装置(2)、試薬供給装置
(3)、測光装置(4)を備えかつ多数の反応管(5)を所定方
向（図中矢印方向）に循環する反応ターンテーブル(6)
とから構成されている。この反応ターンテーブルの下に
は反応管の循環経路に対応して恒温槽(7)が設けられて
おり、各反応管は該恒温槽中に浸漬された状態で循環し
うるよう構成されている。検体供給装置(2)には多数の
検体を循環する試料テーブル(22)と各検体を反応管に分
注するサンプルピペッタ(21)とを備え、試薬供給装置
(3)は試薬貯留タンク(32)と試薬分注器(31)とを備えて
いる。上記恒温槽(7)には図示しない加温ヒータが設定
されている。
(3)、測光装置(4)を備えかつ多数の反応管(5)を所定方
向（図中矢印方向）に循環する反応ターンテーブル(6)
とから構成されている。この反応ターンテーブルの下に
は反応管の循環経路に対応して恒温槽(7)が設けられて
おり、各反応管は該恒温槽中に浸漬された状態で循環し
うるよう構成されている。検体供給装置(2)には多数の
検体を循環する試料テーブル(22)と各検体を反応管に分
注するサンプルピペッタ(21)とを備え、試薬供給装置
(3)は試薬貯留タンク(32)と試薬分注器(31)とを備えて
いる。上記恒温槽(7)には図示しない加温ヒータが設定
されている。
一方洗浄部(B)は、第２図に示すごとく、洗浄液リザー
バ(8)と、シリンジポンプ(9)と、洗浄ノズル(10)と、吸
引ポンプ(11)と、上記洗浄液リザーバとシリンジポンプ
とを接続する洗浄液供給管路(a)と、シリンジポンプと
洗浄ノズルとを接続する洗浄液吐出管路(b)と、洗浄ノ
ズルと吸引ポンプとを接続する廃液管路(c)とから主と
して構成されている。上記洗浄ノズル(10)は、廃液を吸
引する吸引口(12)を形成する廃液排出用管路(d)と、洗
浄液を吐出する吐出口(13)に連通する洗浄液導入用管路
(e)とを有し、上記廃液排出用管路(d)には前記廃液管路
(c)が、上記洗浄液導入用管路(e)には前記洗浄液吐出管
路(b)がそれぞれ接続されている。また上記洗浄液吐出
管路(b)はこの図に示すごとく、該管路(b)の途中でその
一部(b1)が、反応恒温槽(7)の底部側壁(71)で該恒温槽
内の恒温水中を経由するように配管されている。該洗浄
液吐出管路(b)の少なくとも上記恒温水中に配管される
管路部(b1)は、ことに熱交換率の高い材質すなわち熱良
導性の材質で構成されることが好ましい。また恒温水か
ら露出して洗浄ノズル(10)に接続されるまでの部分は熱
の不良導性の材質で構成されていることが好ましい。前
者の熱良導性材質としては銅、アルミニウム等が挙げら
れ、腐食性を考慮してアルミニウムが最も好ましい。後
者の熱の不良導性材質としては樹脂が好ましい。また洗
浄液吐出管路(b)の一部が、恒温水中を経由する構成と
しては、上記以外に投込式に構成されていてもよい。な
おこの図では省略してあるが、洗浄ノズル(10)は、開口
部を上方に保持した反応管に対してその上部から昇降可
能に取り付けられている。
バ(8)と、シリンジポンプ(9)と、洗浄ノズル(10)と、吸
引ポンプ(11)と、上記洗浄液リザーバとシリンジポンプ
とを接続する洗浄液供給管路(a)と、シリンジポンプと
洗浄ノズルとを接続する洗浄液吐出管路(b)と、洗浄ノ
ズルと吸引ポンプとを接続する廃液管路(c)とから主と
して構成されている。上記洗浄ノズル(10)は、廃液を吸
引する吸引口(12)を形成する廃液排出用管路(d)と、洗
浄液を吐出する吐出口(13)に連通する洗浄液導入用管路
(e)とを有し、上記廃液排出用管路(d)には前記廃液管路
(c)が、上記洗浄液導入用管路(e)には前記洗浄液吐出管
路(b)がそれぞれ接続されている。また上記洗浄液吐出
管路(b)はこの図に示すごとく、該管路(b)の途中でその
一部(b1)が、反応恒温槽(7)の底部側壁(71)で該恒温槽
内の恒温水中を経由するように配管されている。該洗浄
液吐出管路(b)の少なくとも上記恒温水中に配管される
管路部(b1)は、ことに熱交換率の高い材質すなわち熱良
導性の材質で構成されることが好ましい。また恒温水か
ら露出して洗浄ノズル(10)に接続されるまでの部分は熱
の不良導性の材質で構成されていることが好ましい。前
者の熱良導性材質としては銅、アルミニウム等が挙げら
れ、腐食性を考慮してアルミニウムが最も好ましい。後
者の熱の不良導性材質としては樹脂が好ましい。また洗
浄液吐出管路(b)の一部が、恒温水中を経由する構成と
しては、上記以外に投込式に構成されていてもよい。な
おこの図では省略してあるが、洗浄ノズル(10)は、開口
部を上方に保持した反応管に対してその上部から昇降可
能に取り付けられている。
次に上記自動分析装置(1)の作動を説明する。反応ター
ンテーブルに設定された恒温槽中に浸漬されながら、検
体供給装置および試薬装置により所定の検体および試薬
を加えられ、その後所定の反応について測光された反応
管は順次洗浄部に移送される。該洗浄部において反応管
の上方から洗浄ノズルが降下して反応管内に洗浄ノズル
が挿入される。この状態で吸引ポンプが駆動されて反応
管内の反応液が排出される。反応液排出後、シリンジポ
ンプが駆動され所定量の洗浄液が洗浄液リザーバからシ
リンジポンプ内に吸引される。次いで該シリンジポンプ
の駆動によりシリンジポンプ内に吸引された洗浄液は、
洗浄液吐出管路内を移送されて洗浄ノズルの洗浄液導入
用管路を経て該ノズルの吐出口から吐出されるが、この
移送途中で恒温槽内に配管された熱良導性の管路を経由
することになる。この熱良導性管路内を移送中に洗浄液
はその管路外に接触する恒温水と効率良く熱交換されて
加温され、この加温された洗浄水が反応管内に供給され
ることとなる。また一方恒温水は上記熱交換によって冷
却されることとなる。この場合恒温水の所定温度以下へ
の冷却を防ぐ場合は、加温ヒータにより調節すればよ
い。
ンテーブルに設定された恒温槽中に浸漬されながら、検
体供給装置および試薬装置により所定の検体および試薬
を加えられ、その後所定の反応について測光された反応
管は順次洗浄部に移送される。該洗浄部において反応管
の上方から洗浄ノズルが降下して反応管内に洗浄ノズル
が挿入される。この状態で吸引ポンプが駆動されて反応
管内の反応液が排出される。反応液排出後、シリンジポ
ンプが駆動され所定量の洗浄液が洗浄液リザーバからシ
リンジポンプ内に吸引される。次いで該シリンジポンプ
の駆動によりシリンジポンプ内に吸引された洗浄液は、
洗浄液吐出管路内を移送されて洗浄ノズルの洗浄液導入
用管路を経て該ノズルの吐出口から吐出されるが、この
移送途中で恒温槽内に配管された熱良導性の管路を経由
することになる。この熱良導性管路内を移送中に洗浄液
はその管路外に接触する恒温水と効率良く熱交換されて
加温され、この加温された洗浄水が反応管内に供給され
ることとなる。また一方恒温水は上記熱交換によって冷
却されることとなる。この場合恒温水の所定温度以下へ
の冷却を防ぐ場合は、加温ヒータにより調節すればよ
い。
以上の洗浄部の構成により、反応管を加温洗浄水によっ
て洗浄することができるので、洗浄効果があがる。また
加温ヒータのみを設定した恒温槽であっても、洗浄水と
の熱交換により冷却することもできる。
て洗浄することができるので、洗浄効果があがる。また
加温ヒータのみを設定した恒温槽であっても、洗浄水と
の熱交換により冷却することもできる。
（ト）考案の効果 この考案によれば、加温された洗浄液により洗浄できる
ので洗浄効率がよい。洗浄液加温用のヒータを設ける必
要がないのでコストが押さえられる。反応管直接測光方
式の装置では、洗浄後の温度低下によるセルブランク測
定の誤差を押さえることができる。恒温水の冷却機能を
併せ持つことができる。
ので洗浄効率がよい。洗浄液加温用のヒータを設ける必
要がないのでコストが押さえられる。反応管直接測光方
式の装置では、洗浄後の温度低下によるセルブランク測
定の誤差を押さえることができる。恒温水の冷却機能を
併せ持つことができる。
第１図はこの考案の自動分析装置の一例の構成説明図、
第２図は第１図における洗浄部の具体的構成を示す構成
説明図である。 (2)……検体供給装置、(3)……試薬供給装置、 (4)……測光装置、(5)……反応管、 (6)……反応ターンテーブル、 (7)……恒温槽、(8)……洗浄液リザーバ、 (9)……シリンジポンプ、 (10)……洗浄ノズル、(11)……吸引ポンプ、 (12)……吸引口、(13)……吐出口、 (a)……洗浄液供給管路、 (b)……洗浄液吐出管路、 (c)……廃液管路、(d)……廃液排出用管路、 (e)……洗浄液導入用管路。
第２図は第１図における洗浄部の具体的構成を示す構成
説明図である。 (2)……検体供給装置、(3)……試薬供給装置、 (4)……測光装置、(5)……反応管、 (6)……反応ターンテーブル、 (7)……恒温槽、(8)……洗浄液リザーバ、 (9)……シリンジポンプ、 (10)……洗浄ノズル、(11)……吸引ポンプ、 (12)……吸引口、(13)……吐出口、 (a)……洗浄液供給管路、 (b)……洗浄液吐出管路、 (c)……廃液管路、(d)……廃液排出用管路、 (e)……洗浄液導入用管路。
Claims (1)
- 【請求項１】複数の反応管と、これらを所定方向に順次
移送しうる反応ラインと、この移送中の反応管を浸漬し
て所定温度に保持しうる恒温水を貯留した反応恒温槽
と、洗浄液を洗浄液供給槽から送液ポンプおよび洗浄ノ
ズルをこの順に経て各反応管内に順次供給しうる洗浄液
供給流路で構成された洗浄手段とを備え、洗浄後の反応
管を繰返し使用しうるよう構成された光学測定用自動分
析装置であって、 上記洗浄液供給流路の一部を、上記恒温槽内に配設し、
恒温水と熱交換的に接触させて洗浄液加温兼恒温水冷却
が行われるよう管路構成したことを特徴とする自動分析
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987126028U JPH0612534Y2 (ja) | 1987-08-19 | 1987-08-19 | 自動分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987126028U JPH0612534Y2 (ja) | 1987-08-19 | 1987-08-19 | 自動分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6433658U JPS6433658U (ja) | 1989-03-02 |
| JPH0612534Y2 true JPH0612534Y2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=31377162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987126028U Expired - Lifetime JPH0612534Y2 (ja) | 1987-08-19 | 1987-08-19 | 自動分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0612534Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012141253A (ja) * | 2011-01-06 | 2012-07-26 | Hitachi High-Technologies Corp | 自動分析装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0629998Y2 (ja) * | 1989-12-25 | 1994-08-17 | ゼリア新薬工業株式会社 | 病原性微生物培養用恒温器 |
| JP6576768B2 (ja) * | 2015-09-29 | 2019-09-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51108885A (ja) * | 1975-03-20 | 1976-09-27 | Nippon Electron Optics Lab | Kagakubunsekisochi |
| JPS5473094A (en) * | 1977-11-21 | 1979-06-12 | Olympus Optical Co Ltd | Automatic chemical analytical apparatus |
| JPS61247970A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-05 | Toshiba Corp | 反応管洗浄方法 |
-
1987
- 1987-08-19 JP JP1987126028U patent/JPH0612534Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012141253A (ja) * | 2011-01-06 | 2012-07-26 | Hitachi High-Technologies Corp | 自動分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6433658U (ja) | 1989-03-02 |
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