JPH06116216A

JPH06116216A - Ｎ−保護−アミノアルデヒドの製造方法

Info

Publication number: JPH06116216A
Application number: JP27198392A
Authority: JP
Inventors: Noboru Kuzuha; 葉昇葛
Original assignee: I BAITSU KK
Current assignee: I BAITSU KK
Priority date: 1992-10-09
Filing date: 1992-10-09
Publication date: 1994-04-26

Abstract

(57)【要約】【構成】ジメチルスルホオキシドと水溶性カルボジイ
ミド誘導体とからなる酸化剤の存在下に、N-保護-アミ
ノアルコールを、有機溶媒中にて、酸化し、N-保護-ア
ミノアルデヒドを製造する。【効果】常温領域で合成反応が行え、ラセミ化反
応が少ないために生成物の光学活性および反応収率に優
れ、使用する試薬および反応副生成物が無毒あるいは
低毒性のため、良好な作業環境を維持でき、かつ最終
生成物の分離が容易である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、N-保護-アミノアルデヒ
ドの製造方法に関する。N-保護-アミノアルデヒドは、
レニン等の酸性プロテアーゼに対する活性阻害剤の重要
構成成分であるスタチン誘導体合成あるいは還元型ペプ
チド（−ＣＨ₂−ＮＨ−）合成の鍵中間体として有用で
ある。

【０００２】

【発明の技術的背景】レニン等の酸性プロテアーゼ類の
阻害剤は、その立体構造が活性の強さに重要な影響を及
ぼし、特に、その重要構成成分である(3S,4S)-4-アミノ
-3- ヒドロキシ-6- メチルヘプタン酸（以下、スタチン
と呼称）または(3S,4S)-4-アミノ-5-シクロヘキシル-3-
ヒドロキシペンタン酸（以下、シクロスタチンと呼
称）の類縁化合物においては、(3S,4S)の立体を有する
ものが阻害活性が強く、医薬品、特に血圧降下剤として
好ましいことが知られている。

【０００３】このようなスタチン誘導体合成の際の鍵中
間体として、N-保護-α-アミノアルデヒドが特に有用で
ある。光学活性なN-保護-α-アミノアルデヒドは非常に
ラセミ化を起こしやすい、不安定な化合物である。N-保
護-α-アミノアルデヒドを合成する方法は現在まで多数
報告されており、その代表的な合成方法は次のようであ
る。１．還元的合成方法 N-保護-α-アミノ酸のエステルまたは活性アミドをＤＩ
ＢＡＬ（ジイソブチルアルミニウムハイドライド）ある
いはＬＡＨ（リチウムアルミニウムハイドライド）等で
還元反応することにより合成する方法。

【０００４】この還元的合成方法は、０〜−７８℃の低
温での反応を必要とする。この合成方法では、収率にば
らつきがあったり、過剰還元が起こってしまったり、あ
るいはラセミ体が生じやすいという欠点がある。２．酸化的合成方法 N-保護-β-アミノアルコールを酸化剤で酸化してN-保護
-α-アミノアルデヒドを合成する方法。

【０００５】以下、この酸化的合成方法に用いられる酸
化剤の具体例とその問題点について説明する。（ｉ）ピリジニウムジクロメート（ＣｒＯ₃／Ｐｙ）酸化剤として、ピリジニウムジクロメートを用いた場合
には、−１０℃程度の反応温度が必要となり、また収率
も低い。さらに重金属を使用する系であるため、医薬品
中間体合成に際しては、極力使用を避けたい酸化剤であ
る。（ii）ジメチルスルホオキシド／ピリジン・ＳＯ₃錯体
（ＤＭＳＯ／Ｐｙ・ＳＯ ₃）この酸化剤では、室温付近での温和な反応条件下で、高
収率でN-保護-α-アミノアルデヒドが得られ、またラセ
ミ体も少ない。しかしながら、Ｐｙ・ＳＯ₃はやや不安
定であり、長期間保存できないという問題がある。（iii）ジメチルスルホキシド／オキザリルクロライド
［ＤＭＳＯ／（ＣＯＣｌ）₂］この酸化剤では、高収率でN-保護-α-アミノアルデヒド
が得られ、またラセミ体も少ない。しかしながら、この
場合には、−５０℃〜−６０℃程度の反応温度が必要と
なり、また反応副生成物として一酸化炭素ＣＯ、二酸化
炭素ＣＯ₂が発生してしまう。特に、大量合成時には作
業環境維持のためにも、一酸化炭素には厳重な配慮を払
う必要がある。（iv）ジメチルスルホキシド／ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド（ＤＭＳＯ／ＤＣＣ）この酸化剤では、室温付近での温和な条件下で反応が進
行する。しかしながら、反応副生成物であるＤＣＣ由来
の尿素誘導体と、目的物であるN-保護-アミノアルデヒ
ドとの分離が困難で、純品の目的物を得るにはカラムク
ロマトグラフィー等の手法を使用しなければならない。

【０００６】さらにＤＣＣは人体の皮膚に対して「かぶ
れ」を生じさせるため、労働衛生上非常に問題があり、
特に工業的規模で使用する場合には、安全性に対して厳
重な配慮が要求される。

【０００７】以上、説明したように、従来のN-保護-α-
アミノアルデヒドの製造において、特に工業的規模での
大量合成を行う場合には、低温領域の反応条件が必要
であったり、生成物の光学活性、反応収率に問題があ
ったり、作業環境維持のために厳重な配慮が要求され
たり、あるいは目的物の分離が困難になるなどの問題
があった。

【０００８】

【発明の目的】本発明は上記のような従来技術に鑑みて
成されたものであって、N-保護-α-アミノアルデヒドに
代表されるようなN-保護-アミノアルデヒドの工業的規
模での大量合成を行う場合であっても、常温領域で合
成が行え、生成物の光学活性、反応収率に優れ、良
好な作業環境を維持でき、かつ目的物の分離が容易な
N-保護-アミノアルデヒドの製造方法を提供することを
目的としている。

【０００９】

【発明の概要】本発明に係るN-保護-アミノアルデヒド
の製造方法は、ジメチルスルホオキシドと水溶性カルボ
ジイミド誘導体とからなる酸化剤の存在下に、N-保護-
アミノアルコールを、有機溶媒中にて、酸化し、N-保護
-アミノアルデヒドを製造することを特徴としている。

【００１０】

【発明の具体的説明】以下、本発明に係るN-保護-アミ
ノアルデヒドの製造方法について具体的に説明する。

【００１１】本発明においては、N-保護-アミノアルコ
ールを所定の有機溶媒中において、ジメチルスルホオキ
シドと、水溶性カルボジイミド誘導体と、必要に応じ
て、反応促進剤を加え、室温付近にてN-保護-アミノア
ルデヒドを合成する。

【００１２】N-保護-アミノアルコールとは、アミノア
ルコールのアミノ基が保護されてなる化合物であって、
具体的には、アミノ基の窒素原子に結合する２つの水素
原子のうちの１つが保護基で置換されてなる化合物であ
る。

【００１３】本発明で出発物質として用いられるN-保護
-アミノアルコールは、一般的なアミノアルコールに保
護基を導入してなるN-保護-アミノアルコールであって
もよく、あるいはL-体、D-体またはラセミ体の広義アミ
ノ酸から誘導されたN-保護-アミノアルコールであって
もよい。またスタチン類の合成を最終目的とする場合に
は、L-アミノ酸より誘導されたN-保護-(S)-β-アミノア
ルコールを用いることが好ましい。

【００１４】保護基としては、通常アミノ基の保護とし
て使用するものであれば、特に制限されることなく用い
られ、一般的にはウレタン型保護基、アシル型保護基、
アルキル型保護基等が使用される。これらの中でも、好
ましくはウレタン型保護基が用いられ、特に好ましくは
tert- ブチルオキシカルボニル基（ＢＯＣ基）、tert-
アミルオキシカルボニル基（ＡＯＣ基）、ベンジルオキ
シカルボニル基（Ｃｂｚ基）あるいは9-フルオレニルメ
チル-オキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ基）が使用され
る。

【００１５】本発明により得られるN-保護-アミノアル
デヒドは、通常は医薬品等の中間体であり、最終生成物
においては、脱保護を行う必要がある。したがって、上
記の保護基を選定する際には、目的とする最終生成物の
物理化学的な性状を考慮して好適な保護基を選択する。
たとえばスタチン類の合成を最終目的とする場合には、
保護基としてtert- ブチルオキシカルボニル基を選択す
ることが特に好ましい。このｔert-ブチルオキシカルボ
ニル基は、ジ-tert-ブチルジカーボネート［以下、（Ｂ
ＯＣ）₂Ｏと略すことがある］により導入することがで
きる。この場合には、アミノ基がＢＯＣ基により保護さ
れてなるL-ロイシノール（ＢＯＣ−Ｌｅｕ−ｏｌ）ある
いはアミノ基がＢＯＣ基により保護されてなるL-シクロ
ヘキシルアラニノールまたはアミノ基がＢＯＣ基により
保護されてなるL-フェニルアラニノールから誘導される
L-シクロヘキシルアラニノール等がN-保護-アミノアル
コールとして用いられる。

【００１６】ＢＯＣ−Ｌｅｕ−ｏｌはL-ロイシン（Ｈ−
Ｌｅｕ−ＯＨ）を出発物質として、種々のルートで調製
することができる。以下にその一例を示す。

【００１７】

【化８】

【００１８】本発明においては、上記のようなN-保護-
アミノアルコールを、有機溶媒中にて、ジメチルスルホ
オキシド（ＤＭＳＯ）と水溶性カルボジイミド誘導体と
の存在下に酸化して、N-保護-アミノアルデヒドを製造
している。

【００１９】有機溶媒としては、反応進行に悪影響を及
ぼさない範囲で種々の溶媒が用いられ、具体的には下記
の１群あるいは２群にあげる有機溶媒が好ましく用いら
れる。１．出発物質であるN-保護-アミノアルコールを充分に
溶解し、かつ水と相溶性を有しない溶媒。

【００２０】その具体例としては、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素、ジクロルメタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素あるいはジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類が挙げ
られる。２．出発物質であるN-保護-アミノアルコールを充分に
溶解し、水と相溶するが、反応進行に何らの悪影響を及
ぼさない非プロトン性極性溶媒。

【００２１】その具体例としては、ジメチルスルホオキ
シド、N,N-ジメチルホルムアミド、アセトニトリルある
いはテトラヒドロフラン等が挙げられる。上記のような
有機溶媒は、一種単独で、または二種以上を組み合わせ
て用いることができる。

【００２２】なお、上記２群に属する溶媒は、通常、反
応終了後一度濃縮し、水に対し相溶しない溶媒に置換す
ることが望ましいが、この操作は必ずしも必要ではな
い。有機溶媒はN-保護-アミノアルコール１モルに対
し、０．１〜３０リットル、好ましくは０．２〜５リッ
トルの量で使用される。

【００２３】本発明において使用される水溶性カルボジ
イミド誘導体とは水溶性もしくは親水性であって、反応
溶媒に可溶もしくは易容であり、かつカルボジイミド由
来の副生成物である尿素体が水溶性もしくは親水性であ
ることが必須である。

【００２４】水溶性カルボジイミド誘導体としては、た
とえばＲ¹−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ² …［式−Ｉ］または［Ｒ¹−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ²］・［Ａ］ …［式−II］で表わされる化合物が用いられる。

【００２５】ただし、Ｒ¹はメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基またはシクロヘキシル基
であり、

【００２６】

【化９】

【００２７】または

【００２８】

【化１０】

【００２９】ここで、ｎは１〜４の整数であり、Ｒ³お
よびＲ⁴は同種または異種の低級アルキル基である。低
級アルキル基としては具体的には上記と同様のメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基また
はシクロヘキシル基が挙げられる。

【００３０】Ａは、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ、ＨＣｌ
Ｏ₄、ＨＩＯ₄

【００３１】

【化１１】

【００３２】上記のような水溶性カルボジイミド誘導体
の中でも、特に好ましい化合物としては、1-エチル-3-
(3-N,N-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイミドまた
はその塩酸塩もしくは過塩素酸塩、あるいは1-シクロヘ
キシル-3-(2-モルホリノエチル)-カルボジイミドまたは
そのp-トルエンスルホン酸メチルエステル塩が挙げられ
る。

【００３３】また水溶性カルボジイミド誘導体として
は、Ｙ−Ｘ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｘ−Ｙ …［式−III］または［Ｙ−Ｘ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ］・ｎ［Ｚ］ …［式−IV］で表わされる化合物を用いることもできる。

【００３４】ただし、上式中、Ｘは無いかまたは炭素数
１〜１０の炭化水素である。Ｙは下記〜のいずれか
１つである。

【００３５】

【化１２】

【００３６】（ただし、Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ同種また
は異種の低級アルキル基を示す。）

【００３７】

【化１３】

【００３８】（ただし、Ｘと結合しているＮ原子を含み
５〜７員のいずれかの複素環を形成する。Ｒ³は炭化水
素または酸素原子、硫黄原子、窒素原子の群より選ばれ
た１種の付加ヘテロ原子を含む炭化水素であり、Ｒ³中
のＮ原子はイミンまたは低級アルキル化窒素原子であ
る。）

【００３９】

【化１４】

【００４０】（ただし、Ｘと結合している炭素原子を含
み５〜７員のいずれかの複素環を形成し、Ｒ⁴中に低級
アルキル化窒素原子を１個含む炭化水素である。）

【００４１】

【化１５】

【００４２】（ただし、Ｘと結合している炭素原子を含
み５〜７員のいずれかの複素環を形成し、Ｒ⁵中にイミ
ンを１〜３個を包含してなる炭化水素である。ｎは２個
のＹ部分における３級アミンとイミンの合計の当量値で
ある。Ｚは下記（ａ）〜（ｃ）のいずれか１つである。（ａ）ハロゲン化水素、過塩素酸または過ヨウ素酸。（ｂ）Ｒ⁶−ＳＯ₂−ＯＲ⁷で表わされるスルホン酸エ
ステル（Ｒ⁶は炭素数１〜１８の芳香族、脂肪族、脂環
族の炭化水素残基、Ｒ⁷は低級アルキル基を示す。）（ｃ）Ｒ⁸−ＣＨ₂−Ｘ¹で表わされるハロゲン化炭化
水素（Ｒ⁸は水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素
残基、Ｘ¹はハロゲン原子を示す。）上記のような水溶性カルボジイミド誘導体の中でも、特
に好ましい化合物としては、1,3-ビス-(3-N,N-ジメチル
アミノプロピル) カルボジイミドまたは1,3-ビス-(3-N,
N-ジメチルアミノエチル) カルボジイミドあるいはその
塩酸塩、過塩素酸塩またはp-トルエンスルホン酸メチル
エステル塩もしくは1,3-ビス-(3-N-モルホリノプロピ
ル) カルボジイミドあるいはその塩酸塩、過塩素酸塩ま
たはp-トルエンスルホン酸メチルエステル塩が挙げられ
る。

【００４３】さらに水溶性カルボジイミド誘導体として
は、Ｒ¹−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−（ＣＨ₂）_n−ＯＣＨ₃ …（式Ｖ）で表わされる化合物も用いることができる。

【００４４】ただし、上式中、Ｒ¹は前述したのと同様
の低級アルキル基であり、ｎは２または３である。上記
のような水溶性カルボジイミド誘導体は、N-保護-アミ
ノアルコール１モルに対し、１．０〜１０モル、好まし
くは１．５〜６モルの量で用いられる。

【００４５】またジメチルスルホオキシド（ＤＭＳＯ）
は、水溶性カルボジイミド誘導体に対し、１当量〜１０
０当量、好ましくは１当量〜２０当量の量で用いられ
る。さらに本発明においては、必要に応じて、反応促進
剤として、プロトン（Ｈ⁺）供与性化合物を反応系に添
加してもよい。プロトン供与性化合物としては、たとえ
ば、（トリフルオロ酢酸／ピリジン）、無水酢酸、酢酸
等が用いられ、その使用量は特に制限はされないが、N-
保護-アミノアルコール１モルに対し、０．１〜１０モ
ルが好適である。

【００４６】反応温度は、１５〜３０℃の室温程度であ
り、反応時間は反応温度にもよるが、１時間〜４８時間
程度が好適である。未反応の水溶性カルボジイミド誘導
体および反応副生成物である水溶性カルボジイミド誘導
体由来の尿素体（ウレア）は、水溶性または親水性であ
るため、反応終了後、水洗浄または希塩酸洗浄によって
容易に除去できる。また溶媒の留去のみで、高純度、高
濃度のシラップ状N-保護-アミノアルデヒドが得られる
ので、単離精製することなく、次工程に使用することが
できる。なお、当然のことではあるが、単離精製を行な
ってもよい。

【００４７】以上のような反応系および処理工程を採用
することにより、N-保護-アミノアルコールからN-保護-
アミノアルデヒドを効率よく製造することができる。こ
のようなN-保護-アミノアルデヒドは、生体関連物質製
造の際の鍵中間体として有用である。たとえば、ＢＯＣ
−Ｌｅｕ−ｏｌからアミノ基がＢＯＣ基により保護され
てなるL-ロイシナール（ＢＯＣ−Ｌｅｕ−ａｌ）を製造
し、これからアルドール反応および適切な脱保護基反応
によりスタチンを合成する反応は、以下のように表わさ
れる。

【００４８】

【化１６】

【００４９】

【発明の効果】以上説明してきたような、本発明によれ
ば、N-保護-α-アミノアルデヒドに代表されるようなN-
保護-アミノアルデヒドの工業的規模での大量合成を行
う場合であっても、常温領域で合成反応が行え、ラ
セミ化反応が少ないために生成物の光学活性および反応
収率に優れ、使用する試薬および反応副生成物が無毒
あるいは低毒性のため、良好な作業環境を維持でき、か
つ最終生成物の分離を容易に行うことができる。

【００５０】

【実施例】以下、本発明を具体的な実施例により説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。

【００５１】

【実施例１】〔N-BOC-L-ロイシナールの合成〕N-BOC-L-ロイシンメチ
ルエステル塩酸塩を水素化ホウ素ナトリウム／塩化リチ
ウムの系にて還元反応し、得られたN-BOC-L-ロイシノー
ル２１７ｇ（１．０モル）を乾燥したジクロルメタン
１．５リットルに溶解し、攪拌下乾燥したジメチルスル
ホオキシド２５０mlを加えた。均一になった溶液へ無水
ピリジン９００ml、蒸留直後のトリフルオロ酢酸４０ml
（０．５モル）および1-エチル-3-(3-N,N-ジメチルアミ
ノプロピル)-カルボジイミド塩酸塩５７６ｇ（３．０モ
ル）を加え、室温にて２４時間反応させた。反応終了
後、ジクロルメタン５００mlを加え、水１リットルで３
回抽出し、ＤＭＳＯ、水溶性カルボジイミドおよび反応
副生成物である尿素誘導体を除去した。全水層を５００
mlジクロルメタンにて１回抽出し、全ジクロルメタン層
を飽和重ソー水５００ml、水５００ml、飽和食塩水５０
０mlの順で洗浄し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後減
圧下にて濃縮し、シラップ状物質のN-BOC-L-ロイシナー
ルを得た。このシラップ状物質は、単離精製することな
しに、たとえば次工程のアルドール反応に使用可能であ
る。

【００５２】粗体収量は２１０ｇ（粗体収率９８％）で
あった。〔物性確認〕得られたシラップ状物質の一部をシリカゲ
ルフラッシュクロマトグラフィーにより酢酸エチル：n-
ヘキサン＝１／５〜１／２と変化させ、目的物を分画し
た。減圧濃縮することにより目的物質を取り出した。

【００５３】シラップ状物質１ｇより純粋なN-BOC-L-ロ
イシナール０．９ｇを得た。最終生成物の比旋光度
［α］_D ²⁰は−４４．０°（Ｃ＝１、ＭｅＯＨ）であ
り、融点は６３〜６６℃であった。

【００５４】ＫＢｒ法による赤外吸光分析（ＩＲ）の結
果、３３５０、２９４０、２７２５、１７４０、１７２
０、１５１０、１３９５cm^-1に吸収が見られた。また¹
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）により構造確認を行った。

【００５５】薄層クロマトグラフィーの結果、Ｒｆ値は
０．４５（酢酸エチル／n-ヘキサン＝１／２）であっ
た。

【００５６】

【実施例２】〔N-BOC-L-フェニルアラニナールの合成〕N-BOC-L-フェ
ニルアラニノール２５１ｇ（１モル）を実施例１と同様
な方法にて反応し、N-BOC-L-フェニルアラニナールを得
た。粗体収量は２３５ｇ（粗体収率９４％）であった。
実施例１と同様にシリカゲルフラッシュクロマトグラフ
ィーにより目的物を分取した。（酢酸エチル／n-Hex ＝
１／１０〜１／２）シラップ状物質１ｇより０．８７ｇ
のN-BOC-L-フェニルアラニナールが得られた。

【００５７】〔物性確認〕最終生成物の比旋光度［α］
_D ²⁰は＋３５．５°（Ｃ＝１、ＣＨ₂Ｃｌ₂）であっ
た。

【００５８】ＫＢｒ法によるＩＲの結果、３４３５、２
９４０、２７６０、２７３０、１７４０、１７２５、１
５００、１３９５、１２４０cm^-1に吸収が見られた。ま
た¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）により構造確認を行っ
た。

【００５９】薄層クロマトグラフィーの結果、Ｒｆ値は
０．５２（酢酸エチル／n-ヘキサン＝１／１）であっ
た。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ジメチルスルホオキシドと水溶性カルボ
ジイミド誘導体とからなる酸化剤の存在下に、 N-保護-アミノアルコールを、有機溶媒中にて、酸化
し、 N-保護-アミノアルデヒドを製造することを特徴とするN
-保護-アミノアルデヒドの製造方法。
【請求項２】 N-保護-アミノアルコールが、N-保護-β
-アミノアルコールであることを特徴とする請求項1 に
記載のN-保護-アミノアルデヒドの製造方法。
【請求項３】 N-保護-アミノアルコールが、L-、D-ま
たはL,D-アミノ酸から誘導されたN-保護-アミノアルコ
ールであることを特徴とする請求項1 に記載のN-保護-
アミノアルデヒドの製造方法。
【請求項４】 N-保護-アミノアルコールが、L-アミノ
酸より誘導されたN-保護-(S)-β-アミノアルコールであ
ることを特徴とする請求項１に記載のN-保護-アミノア
ルデヒドの製造方法。
【請求項５】 N-保護-アミノアルコールの保護基が、 tert- ブチルオキシカルボニル基、 tert- アミルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、または9-フルオレニルメ
チルオキシカルボニル基であることを特徴とする請求項
1 に記載のN-保護-アミノアルデヒドの製造方法。
【請求項６】 N-保護-アミノアルコールの保護基が、
ジ-tert-ブチルジカーボネートから誘導されたtert- ブ
チルオキシカルボニル基であることを特徴とする請求項
１に記載のN-保護-アミノアルデヒドの製造方法。
【請求項７】水溶性カルボジイミド誘導体が、Ｒ¹−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ² …［式−Ｉ］または［Ｒ¹−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ²］・［Ａ］ …［式−II］［ただし、Ｒ¹はメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基またはシクロヘキシル基であり、【化１】ただし、ｎ＝１〜４であり、Ｒ³、Ｒ⁴は同種または異
種の低級アルキル基）または【化２】Ａは、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ、ＨＣｌＯ₄、ＨＩＯ₄ 【化３】で表わされる水溶性カルボジイミド誘導体であることを
特徴とする請求項１に記載のN-保護-アミノアルデヒド
の製造方法。
【請求項８】水溶性カルボジイミド誘導体が、Ｙ−Ｘ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｘ−Ｙ …［式−III］または［Ｙ−Ｘ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ］・ｎ［Ｚ］ …［式−IV］（ただし、上式中、Ｘは無いかまたは炭素数１〜１０の
炭化水素である。Ｙは下記〜のいずれか１つであ
る。【化４】（ただし、Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ同種または異種の低級
アルキル基を示す。）【化５】（ただし、Ｘと結合しているＮ原子を含み５〜７員のい
ずれかの複素環を形成する。Ｒ³は炭化水素または酸素
原子、硫黄原子、窒素原子の群より選ばれた１種の付加
ヘテロ原子を含む炭化水素であり、Ｒ³中のＮ原子はイ
ミンまたは低級アルキル化窒素原子である。）【化６】（ただし、Ｘと結合している炭素原子を含み５〜７員の
いずれかの複素環を形成し、Ｒ⁴中に低級アルキル化窒
素原子を１個含む炭化水素である。）【化７】（ただし、Ｘと結合している炭素原子を含み５〜７員の
いずれかの複素環を形成し、Ｒ⁵中にイミンを１〜３個
を包含してなる炭化水素である。ｎは２個のＹ部分にお
ける３級アミンとイミンの合計の当量値である。Ｚは下
記（ａ）〜（ｃ）のいずれか１つである。（ａ）ハロゲン化水素、過塩素酸または過ヨウ素酸。（ｂ）Ｒ⁶−ＳＯ₂−ＯＲ⁷で表わされるスルホン酸エ
ステル（Ｒ⁶は炭素数１〜１８の芳香族、脂肪族、脂環
族の炭化水素残基、Ｒ⁷は低級アルキル基を示す。）（ｃ）Ｒ⁸−ＣＨ₂−Ｘ¹で表わされるハロゲン化炭化
水素（Ｒ⁸は水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素
残基、Ｘ¹はハロゲン原子を示す。））で表わされる水
溶性カルボジイミド誘導体であることを特徴とする請求
項１に記載のN-保護-アミノアルデヒドの製造方法。
【請求項９】前記水溶性カルボジイミド誘導体が、Ｒ¹−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−（ＣＨ₂）_n−ＯＣＨ₃ …（式Ｖ）（ただし、上式中、Ｒ¹は低級アルキル基であり、ｎは
２または３である。）で表わされる水溶性カルボジイミ
ド誘導体であることを特徴とする請求項１に記載のN-保
護-アミノアルデヒドの製造方法。
【請求項１０】前記有機溶媒が、N-保護-アミノアル
コールを溶解し、かつ水と相溶性を有しない有機溶媒で
あることを特徴とする請求項１に記載のN-保護-アミノ
アルデヒドの製造方法。
【請求項１１】前記有機溶媒が、常温で液状の芳香族
炭化水素、ハロゲン化炭化水素またはエーテル類である
ことを特徴とする請求項１０に記載のN-保護-アミノア
ルデヒドの製造方法。
【請求項１２】前記有機溶媒が、非プロトン性極性溶
媒であることを特徴とする請求項１に記載のN-保護-ア
ミノアルデヒドの製造方法。
【請求項１３】前記非プロトン性極性溶媒が、ジメチ
ルスルホオキシド、N,N-ジメチルホルムアミド、アセト
ニトリルまたはテトラヒドロフランであることを特徴と
する請求項１２に記載のN-保護-アミノアルデヒドの製
造方法。