JPH06109629A - ガス中の微量水分測定装置 - Google Patents

ガス中の微量水分測定装置

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JPH06109629A
JPH06109629A JP3357407A JP35740791A JPH06109629A JP H06109629 A JPH06109629 A JP H06109629A JP 3357407 A JP3357407 A JP 3357407A JP 35740791 A JP35740791 A JP 35740791A JP H06109629 A JPH06109629 A JP H06109629A
Authority
JP
Japan
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gas
point
reflecting mirror
temperature
light
Prior art date
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Pending
Application number
JP3357407A
Other languages
English (en)
Inventor
Junichi Nishizawa
潤一 西澤
Takahiko Kijima
貴彦 来島
Efu Iizeru Edowaado
エドワード・エフ・イーゼル
Akira Makihara
晃 槙原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Osaka Oxygen Industries Ltd
Original Assignee
Osaka Oxygen Industries Ltd
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Publication date
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Priority to DE69229493T priority patent/DE69229493T2/de
Priority to TW081103026A priority patent/TW213979B/zh
Priority to EP92908343A priority patent/EP0535248B1/en
Priority to KR1019920703265A priority patent/KR100205839B1/ko
Publication of JPH06109629A publication Critical patent/JPH06109629A/ja
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Priority to US08/360,441 priority patent/US5615954A/en
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Abstract

(57)【要約】 本発明は被測定ガスを冷却されている反射鏡に直接接触
させて、反射鏡上に露または霜を発生させて、それに光
線を照射させ、露点または霜点を測定することにより、
ガス中の水分を測定するに際し、受光装置を2個以上設
置して、散乱光の安定した変化を高感度で測定できるよ
うにした装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、−80℃以下の低温度の露点を
もつ非凝縮性微量水分含有ガスの水分測定装置に関す
る。
【0002】近年、技術のめざましい発展にともなっ
て、微量水分量0.5ppm以下(露点−80℃以下)
のようなN、Ar、H、Heなどの不活性ガスの利
用が増加している。特に半導体工業におけるエピタキシ
ャル成長やCVDの材料ガス、キャリアガスは、超高純
度が要求されており、−80℃以下の露点を正確に測定
することが要求されるようになった。
【0003】
【従来技術】従来常温から液体窒素温度まで温度を変え
ることのできる反射鏡に被測定ガスを接触させ、その反
射鏡上に形成された露又は霜に集光光線又はレーザー光
線を照射し、散乱光の急激な変化を検知することによっ
てそのガスの露点又は霜点を知り、そのガスの水分を測
定することは公知であった。
【0004】しかし従来の技術では受光レンズ1個で散
乱光の急激な変化を検知していた。しかし、1個の受光
レンズで散乱光の急激な変化を検出しようとすると、露
又は霜の発生する位置が変わると検出できないことがあ
った。さらに1個の受光装置では感度が低いという欠点
があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明では2個以上、好
ましくは3〜32個の受光装置を使用して、反射鏡上の
散乱光の変化を検出することを特徴とする。
【0006】本発明は、(i)室温から−80℃以下の
任意の温度まで変化することができる反射鏡、(ii)
その反射鏡に被測定ガスが接触するようにその反射鏡を
含む室への被測定ガス導入口又は、ガス吹付けノズル、
(iii)集光光線又はレーザー光、(iv)露又は霜
が発生する反射鏡の部分に集光させた光線を投射させる
装置、(v)反射鏡上に形成された露又は霜による散乱
光及び反射光の変化を検出する機構、及び(vi)散乱
光の変化を検出した時の温度を検知する機構を含むガス
中の微量水分測定装置において、前記散乱光の検出を2
方向以上に設置した受光装置により行うことを特徴とす
る装置に関する。
【0007】本発明の装置を図面によって説明する。
【0008】図1には、本発明の実施例が示されてい
る。先ず冷却系には、ヘリウム冷凍機が用いられてお
り、ヘリウムガスは循環ヘリウム圧縮機11により、ラ
イン30、駆動機構11′、冷凍発生部5、駆動機構1
1′、ライン29を経て循環する。冷凍発生部5はステ
ンレス鋼製シリンダー内にピストン或はデスプレーサー
が挿入されており、これ等を駆動機構11′によって上
下に駆動させることにより冷凍がシリンダー5の上端の
冷凍面5′に発生する。この冷凍面5′と充分に熱的に
接触させるようにミラー4を内蔵した測定セル(以下セ
ル)22が設置されている。このセル22は、その1部
分がガラス等の透光性材料23で形成されている。セル
22の内部底面には表面の平滑なシリコンウエハーから
なる反射鏡4が、熱的に充分に接触するように置かれて
いる。セル22の底部の中に熱電対又は抵抗温度計など
の温度センサー9が挿入されている。
【0009】露点が測定されるべきサンプルガスは、ガ
ス入口13より導入され、フイルター20を経て、マス
フローコントローラーのような流量自動調節装置18に
より一定の流量で三方弁19により、先ずガス出口21
から外部に放出される。このパージ量は、大流量で流す
方が、サンプルガスラインがより早く平衡に達する。次
にガスライン16を経てセル22の中に入るが、セル2
2の中で、反射鏡4に向けて噴射され、ガス出口15を
経て放出される。ガスラインは、入口13より10ま
で、直系1/4″、1/8″、1/16″等の内部表面
が電解研磨などで充分に平滑にされ、超高純度の不活性
ガス、特に水分量が5ppb以下のようなガスで不動態
化熱処理されたSUS316L材の使用はレスポンスを
早める上で望ましい。
【0010】一方、発光ダイオード(LED)1の光
は、光ファイバー2を経て、充分に集束され、レンズ3
でさらに集束され、透光性材料製の窓24、23を透過
して垂直に反射鏡4の表面に照射される。反射鏡表面で
の結露は3の投射光の反射角以外の方向に設置された集
光レンズ8、8′により集光され、光ファイバー2′を
経て、PNフォトダイオード7で散乱光の変化をもって
露点又は霜点として判定される。その時の温度は、温度
センサー9により測定される。
【0011】セル22、ヘリウム冷凍機の冷凍発生部
5、冷凍面5′などの低温部分は、外気と断熱しなけれ
ばならず、1部にガラスなどの透光性材料製の窓24、
電気配線コネクター17を含む機密チャンバー12によ
って外気と断熱した上、真空弁25、26、真空ポンプ
28を含む真空排気系によって真空排気され、断熱され
る。
【0012】本発明の別の態様を図2に示す。
【0013】101は冷凍発生部である。102と10
2′はヒーターである。103は冷凍面である。104
はA室であり、A室は例えば金、銀、銅、アルミニウ
ム、シリコン、ニッケル又はクロム等からなる熱伝導の
良い材料で構成されている。105はガラスなどの透光
性材料製窓である。106は被測定ガス用入口である。
107はB室であり、A室104とB室107との境界
の面部108に穴109が設けられている。穴109に
被さるように熱伝導体120の上に反射鏡が設けられて
いる。この熱伝導体120はできる限り熱伝導率のよい
例えば金、銀、銅、アルミニウム、シリコン、ニッケ
ル、クロム等の金属が用いられる。111は反射鏡11
0と面部108との間の隙間である。隙間111は小さ
い方が良いが、あまり小さく設計すると製造上の少しの
ミスで反射鏡110と面部108とが接触してしまう可
能性がある。そのため隙間は0.1〜2.0mmである
ことが好ましい。B室107の少なくとも1部はステン
レス、銅−ニッケル合金、ガラス、セラミックス、プラ
スチックス(フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン
樹脂)から構成される。これは冷凍面103によりA室
を冷却させないためである。112はガス用出口であ
る。114は光源であり113は集光レンズであり、1
14は例えば一定波長の発光ダイオード等が用いられ
る。115及び115′は集光レンズであり、116は
光検知装置である。117、118及び118′は光フ
ァイバーである。
【0014】本発明の装置を用いてガス中の水分を測定
するには、まず被測定ガスを入口106より、ヒーター
102′により一定の温度に制御されたA室104に導
入し、そのガスは109から反射鏡110に接触し、ガ
ス中に含まれる微量の水分は反射鏡110上に露又は霜
を形成する。そのガスは隙間111を通ってB室107
の出口112から放出される。隙間111の間隔を小さ
くしたのでガスがA室104からB室107に隙間を通
って移動する際必ず反射鏡とガスとは接触する。反射鏡
上に形成された露又は霜に対し、光源114と集光レン
ズ113によって光をできるだけ反射鏡110面上に集
光させ、露又は霜による散乱光の変化を集光レンズ11
5、115′及び検知装置116で測定し、露点又は霜
点を判定する。その時の温度は、温度センサー119に
より測定する。又、反射鏡の温度は、温度センサー11
9とヒーター102により制御され、A室の温度は、温
度センサー119′とヒーター102′とで制御され
る。
【0015】本発明において、受光装置は2つ以上設置
するがPNフォトダイオードは1個でも良い。その場合
は、各受光装置とPNフォトダイオード間を光ファイバ
ーで結ぶ。受光装置は投光軸に対し30〜90度の角度
で設置することが好ましい。本発明の別の態様を図3に
示す。
【0016】1aは冷凍発生部である。8aと8a′は
ヒーターである。20aは冷凍面である。A室の材料3
aは例えば金、銀、銅、アルミニウム、シリコン、ニッ
ケル又はクロム等からなる熱伝導の良い材料で構成され
ている。5aは被測定ガス用入口である。B室は7aで
構成され、A室とB室境界に穴9aが設けられている。
穴9aに被さるように熱伝導体20aの上に反射鏡10
aが設けられている。この熱伝導体20aはできる限り
熱伝導率のよい例えば金、銀、銅、アルミニウム、シリ
コン、ニッケル、クロム等の金属が用いられる。11a
は反射鏡10aとA室の壁面3aとの間の隙間である。
隙間11aは小さい方が良いが、あまり小さく設計する
と製造上の少しのミスで反射鏡10aとA室の壁面3a
とが接触してしまう可能性がある。そのため隙間は0.
1〜2.0mmであることが好ましい。B室の材料7a
の少なくとも1部は熱伝導率の低いステンレス、銅−ニ
ッケル合金、ガラス、セラミックス、プラスチックス
(フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂)から
構成される。これは冷凍面20aによりA室を冷却させ
ないためである。6aはガス用出口である。2aは集光
レンズの付いた光源であり、2aは例えば一定波長の発
光ダイオード等が用いられる。4aと4a′は集光レン
ズの付いた光検知装置である。
【0017】本発明の装置を用いてガス中の水分を測定
するには、まず被測定ガスを入口5aより、ヒーター8
a′と温度センサー19a′とにより一定の温度に制御
されたA室に導入し、そのガスは穴9aから反射鏡10
aに接触し、ガス中に含まれる微量の水分は反射鏡10
a上に露又は霜を形成する。そのガスは隙間11aを通
ってB室の出口6aから放出される。隙間11aの間隔
を小さくしたのでガスがA室からB室に隙間を通って移
動する際必ず反射鏡とガスとは接触する。反射鏡上に形
成された露又は霜に対し、光源からの投射光をできるだ
け反射鏡10a面上に集光させ、露又は霜による散乱光
の変化を集光レンズの付いた検知装置4a及び4a′と
で測定し、露点又は霜点を判定する。その時の温度は、
温度センサー9aにより測定する。
【0018】一般に冷凍発生部はヘリウム冷凍機(図示
せず)で行なうが液体窒素によって冷却することもでき
る。
【0019】一般に上記装置においてA室の空間は狭く
0.5〜5mlであることが好ましい。又A室の平面形
状は、任意である。
【0020】上記図面において本発明の装置はA室が上
にB室が下に図示されている。しかしB室が上でA室が
下であっても良い。又A室及びB室が並んで垂直な状態
であっても良い。
【0021】本発明において、受光装置を2以上設ける
ことが特徴で、測定装置は上記の3つの実施例以外のも
のであっても良い。
【0022】本発明において、受光装置を2個以上設置
したので、下記の利点が達成できる。
【0023】(a)検知器の数だけ感度の倍率がアップ
する。
【0024】(b)霜の付く位置が多少移動しても検出
できる。
【0025】(c)精密な光軸調整の必要がなく取扱い
が簡単である。
【0026】本発明の実施の態様 温度を変えることができる反射鏡、前記反射鏡に被測定
ガスを接触させる手段、前記反射鏡に集光光線及び/又
はレーザー光を放射する手段、その反射鏡上に形成され
た露及び/又は霜に基づく散乱光及び/又は反射光の変
化を検知する手段を含む光学式露点計を使用し、その方
法は前記反射鏡に被測定ガスを接触させ、そのガスが接
触する反射鏡の部分に前記集光光線又はレーザー光を放
射し、その反射鏡とそのガスとを接触前又はその反射鏡
とそのガスとを接触させながらその反射鏡の温度を徐々
に低下させ、その反射鏡上に露及び/又は霜を形成さ
せ、結露点及び/又は結露点付近で露及び/又は霜を鏡
面上から完全に昇華させない程度に反射鏡の温度を徐々
に加熱し、そして冷却する操作を少なくとも1回繰返
し、それによって散乱光の強さの極大となる温度及び極
小となる温度を検出し、その極大温度及びその極小温度
をそのガスの露点及び/又は霜点とすることを含む微量
水分を含むガスの露点又は霜点を決定する方法に関す
る。
【0027】前記反射鏡の温度を徐々に冷却又は加熱さ
せる速度は R(T)=R(T)[P′(T)/P′(T)] (1) で描かれた曲線に概略沿って階段式又は連続式に冷却又
は加熱速度を変化させながら行われることがのぞまし
い。
【0028】式中、 Tは反射鏡の温度(K) Tは室温から液体窒素の温度までの任意に選べる特定
な温度(K) R(T)はその反射鏡の温度(K)での冷却及び/又は
加熱速度(K/min)、P′(T)は温度(T)を変
数として求められる氷の飽和蒸気圧の誘導関数、P′
(T)は特定の温度Tでの水の飽和蒸気圧の値、及
びnは固定した温度インターバル△Tにわたっての反射
光及び/又は散乱光の変化の測定において、実質上一定
の信号対ノイズの比が2以上になるように選ばれた値で
ある。
【0029】今この原理を第4図によって説明する。図
4において反射鏡の温度を低下させる。イ点で結露又は
結霜が生じる。しかし過冷却にとなりやすいので、この
点は正確な露点又は霜点ではない。さらに温度を低下さ
せ、核形成点であると判断出来ればロ点から温度を上昇
させる。当然のこの状態では過冷却になっているので、
氷は成長し続ける。散乱光の強さが極大となった点、ハ
点を昇華点とする。この時の反射鏡の温度をTとす
る。次いで昇華点と判断しうる点、ニ点まで反射鏡を加
熱する。そこで氷は気化し初め、ニ点からは反射鏡の温
度を再び冷却し始め、ホの点で散乱光の強さは極小とな
る。この時の温度、積層凝固点もTとなる。このよう
に受光量の極大値の昇華点と、次に冷却によって生ずる
積層凝固点とが、同じ含水分量ガスに対して、一致する
ことが確認されたので、その結果Tがそのガスの正し
い露点又は霜点ということができる。さらに反射鏡を加
熱又は冷却を繰り返すと散乱光のカーブもまた放物線を
描いて変化する。昇華点と積層凝固点は繰返し生ずる。
【0030】この時の冷却速度及び加熱速度のプロフィ
ールの1例は次の通りである。
【0031】 表 1 冷 却 速 度 温 度 範 囲 冷却速度 (℃)→ (℃) (℃/min) 20 −70 10.0 −70 −90 4.0 −90 −100 2.0 −100 −105 1.0 −105 −110 0.50 −110 −115 0.25 −115 −120 0.13 −120 −125 0.063 −125 −130 0.031 −130 −135 0.016 表 2 冷 却 速 度 温 度 範 囲 冷却速度 (℃)→ (℃) (℃/min) −135 −130 0.016 −130 −125 0.031 −125 −120 0.063 −120 −115 0.13 −115 −110 0.25 −110 −105 0.50 −105 −100 1.0 −100 −90 2.0 −90 −70 4.0 −70 30 10.0 上記式(1)は曲線の式である。加熱及び冷却速度は低
温になる程遅くなる。
【0032】例えば20℃から−70℃までの冷却速度
は上記の例では10.0℃/分であるのに対し、−13
0℃から−135℃までの冷却速度は0.016℃/分
である。
【0033】上記(1)の曲線に従って冷却又は加熱を
行うと仮定すると、低温になる程、冷却又は加熱速度を
遅くしなければならず、これを実施するために完全なコ
ンピューター制御を行うのが理想的であるが、しかしこ
れは経済的ではない。
【0034】上記の表に示すように階段的に冷却加熱速
度を下げていくのが一般的である。例えば−100℃以
下では5℃ごとに冷却又は加熱速度を変化させるのであ
る。
【0035】図5は同様な実験について反射鏡の温度と
散乱光の強さとの関係をグラフにしたものである。
【0036】反射鏡の加熱及び冷却の操作を結霜点の付
近で繰返すと、図5に示されるように散乱光の強さは、
放物線を描いて、環状に変化する。
【0037】図6は具体的なガスについてガス中の水分
量と散乱光の速度の割合を示すグラフである。図5にお
いて、反射鏡の温度を変化させると散乱光の強さはチ.
リ.ヌとカーブを描いて変化する。チ.リ.ヌのカーブ
を2次曲線と仮定し微分して直線として表したのが、図
6である。図6においてチ′、リ′及びヌ′は図2にお
けるチ.リ及びヌに対応する。横軸のガス中の水分量は
氷の蒸気圧の式から求めた値である。
【0038】このガスの水分含有量は1.30ppbで
あるということができる。この場合の実験条件は次の通
りである。
【0039】T=−90℃ R(T)=約4℃/分 n=約0.67 △T=約0.4℃ 2秒間に1回のサンプル測定 さらにこの測定法の特徴は一般にこのような測定におけ
るノイズは必ず生じ、これによる誤差への対策である。
散乱光の強度の上昇点を結露又は結霜点とするとノイズ
のため正確な点を読むことは非常にむつかしい。しかし
ながら、本発明のように山型の頂点および谷型の底点か
ら結露又は結霜点を見つける場合、たとえ、ノイズが発
生していても、実際の測定点を2次曲線を微分した直線
にプロットし、最小二重法により得た直線から、頂点と
なる昇華点又は底点となる積層凝固点を求めることは、
非常に正確で安定した値が得られるのである。
【0040】図7には、ノイズが大きく測定点が可成り
のバラツキを示すような例を示した。それでも、最少二
乗法により、直線を求めると、0.52ppbという非
常に微量の水分量を求めることが出来ることを示した。
又、この測定法では、−115℃の霜点の場合、従来の
結霜点から、昇華点まで5〜6時間かゝっていたもの
が、昇華点から、次の積層凝固点までほゞ1時間しかか
ゝらない利点をもっている。これが、−110℃の霜点
では、30分以内で測定出来る。この場合のガス流量は
5Nml/minである。
【0041】KO512(水素)の中には、−100℃
までの露点と水分濃度の換算表が示されているが、−1
00℃以下の換算表を規定したものはない。−100℃
以下の場合には水の飽和蒸気圧曲線の外挿線を用いて、
換算するしか方法はない。現在、最も信頼できる式とし
ては以下の式がある。
【0042】 C:水分温度[ppb] これは、INTERNATIONAL CRITICA
L TABLES OF NUMERICAL DAT
A,PHYSICS,CHEMISTRY AND T
ECHNOLOGY, VOLUMEIII,P21
0,NATIONAL RESERACH COUNC
IL OF USA(1928)に示された式である。
第6図、第7図のような−100℃いかの霜点の場合
は、この式を用いて、測定した霜点から水分量算出した
ものである。
【0043】図8は標準ガス(水分含有量が知られてい
る)の霜点(水分含有量から換算された値)と本発明に
従って測定された平衡点から換算された水分量との関係
を示す。図8及び図9から本発明の方法では非常にガス
中の水分を正確に測定できることは明白である。この実
験に用いられた標準水分ガス発生装置は図10に示され
る日立東京エレクトロニクス株式会社製の、30ppm
の標準ガスを2段に希釈して発生させたものである。
【0044】以上に説明したように、先づ反射鏡面上に
霜をつけ、その後、加熱、冷却をゆっくりと行うことに
より、その反射光を測定し、その極大値となる昇華点、
極小値となる積層凝固点を測定することにより、平衡状
態にきわめて近い状態で結露又は結霜点を測定し、これ
を、蒸気圧曲線をもちいて、−110℃以下の非常に低
い結霜点が、間歇的とは言え、1時間以内に1点といっ
た程度に正確に測定できることがわかった。この測定に
は、受光のための集光レンズを7ケ使用し感度を高くし
て測定した。このような測定の場合、ノイズだけでなく
ドリフトの影響も非常に大きい。たとえば、−115℃
程度の結霜点の測定には、約1時間要し、ゆるやかな頂
点、或はゆるやかな底点の中で極大値、極小値を求めな
ければならない。反射鏡面上の霜の気化、積層凝固を測
定するのに、平安して、霜の全般的な変化を測定するた
めには、1ケだけの集光レンズでは、もし、測定点がず
れれば、それによるドリフトの影響によって、このよう
な極大値を求めることは非常にむつかしい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の好ましい装置のフローシートである。
【図2】本発明の好ましい別の装置のフローシートであ
る。
【図3】本発明の好ましい別の装置のフローシートであ
る。
【図4】反射鏡の温度と散乱光の強さの関係を示すグラ
フ。
【図5】図4と関連して散乱光の強さと反射鏡の温度の
変化の関係を示すグラフ。
【図6】図5の関係を微分して直線化し極大点を求めた
グラフ。
【図7】図5の関係を微分して直線化した時のノイズの
影響を示したグラフ。
【図8】標準ガスの霜点換算値と、測定された平衡点の
関係を示すグラフ。
【図9】標準ガス水分量と、測定された平衡点より換算
された水分量との関係をを示すグラフ。
【図10】図8、9を測定するのに使用した標準水分発
生装置のフローシート。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年1月24日
【手続補正3】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【手続補正4】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図2
【補正方法】変更
【補正内容】
【図2】
【手続補正5】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
【手続補正6】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図4
【補正方法】変更
【補正内容】
【図4】
【手続補正7】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】
【手続補正8】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図6
【補正方法】変更
【補正内容】
【図6】
【手続補正9】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図7
【補正方法】変更
【補正内容】
【図7】
【手続補正10】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図8
【補正方法】変更
【補正内容】
【図8】
【手続補正11】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図9
【補正方法】変更
【補正内容】
【図9】
【手続補正12】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図10
【補正方法】変更
【補正内容】
【図10】
【手続補正13】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図11
【補正方法】削除
【手続補正14】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図12
【補正方法】削除 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年4月1日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】本発明は、(i)室温から−80°C以下
の任意の温度まで変化することができる反射鏡、(i
i)その反射鏡に被測定ガスが接触するようにその反射
鏡を含む室への被測定ガス導入口又は、ガス吹付けノズ
ル、(iii)集光光線又はレーザー光、(iv)露又
は霜が発生する反射鏡の部分に集光させた光線を投射さ
せる装置、(v)反射鏡上に形成された露又は霜による
散乱光の変化を検出する機構、及び(vi)散乱光の変
化を検出した時の温度を検知する機構を含むガス中の微
量水分測定装置において、前記散乱光の検出を2方向以
上に設置した受光装置により行うことを特徴とする装置
に関する。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0008
【補正方法】変更
【補正内容】
【0008】図1には、本発明の実施例が示されてい
る。先ず冷却系には、ヘリウム冷凍機が用いられてお
り、ヘリウムガスは循環ヘリウム圧縮機11により、ラ
イン30、駆動機構11′、冷凍発生部5、駆動機構1
1′、ライン29を経て循環する。冷凍発生部5はステ
ンレン鋼製シリンダー内にピストン或はティプレーサー
が挿入されており、これ等を駆動機構11′によって上
下に駆動させることにより冷凍がシリンダー5の上端の
冷凍面5′に発生する。この冷凍面5′と充分に熱的に
接触させるようにミラー4を内蔵した測定セル(以下セ
ル)22が設置されている。このセル22は、その1部
分がガラス等の透光性材料23で形成されている。セル
22の内部底面には表面の平滑なシリコンウエハーから
なる反射鏡4が、熱的に充分に接触するように置かれて
いる。セル22の底部の中に熱電対又は抵抗温度計など
の温度センサー9が挿入されている。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0009
【補正方法】変更
【補正内容】
【0009】露点が測定されるべきサンプルガスは、ガ
ス入口13より導入され、フィルター20を経て、マス
フローコントローラーのような流量自動調節装置18に
より一定の流量で三方弁19により、先ずガス出口21
から外部に放出される。このパージ量は、大流量で流す
方が、サンプルガスラインがより早く平衡に達する。次
にガスライン16を経てセル22の中に入るが、セル2
2の中で、反射鏡4に向けて噴射され、ガス出口15を
経て放出される。ガスラインは、入口13より10ま
で、直系1/4″、1/8″、1/16″等の内部表面
が電解研磨などで充分に平滑にされ、超高純度の不活性
ガス、特に水分量が5ppb以下のようなガスで不動態
化熱処理されたSUS316L材の使用はレスポンスを
早める上で望ましい。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】一方、発光ダイオード(LED)1の光
は、光ファイバー2を経て、充分に集束され、レンズ3
でさらに集束され、透光性材料からなる窓24、23を
透過して垂直に反射鏡4の表面に投射される。反射鏡表
面での結露は3の投射光の反射角以外の方向に設置され
た集光レンズ8、8′により集光され、光ファイバー
2′を経て、PNフォトダイオード7で散乱光の変化を
もって露点又は霜点として判定される。その時の温度
は、温度センサー9により測定される。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0011
【補正方法】変更
【補正内容】
【0011】セル22、ヘリウム冷凍機の冷凍発生部
5、冷凍面5′などの低温部分は、外気と断熱しなけれ
ばならず、1部にガラスなどの透光性材料からなる窓2
4、電気配線コネクター17を含む機密チャンバー12
によって外気と断熱した上、真空弁25、26、真空ポ
ンプ28を含む真空排気系によって真空排気され、断熱
される。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】101は冷凍発生部である。102と10
2′はヒーターである。103は冷凍面である。104
はA室であり、A室は例えば金、銀、銅、アルミニウ
ム、シリコン、ニッケル又はクロム等からなる熱伝導性
の良い材料で構成されている。105はガラスなどの透
光性材料からなる窓である。106は被測定ガス用入口
である。107はB室であり、A室104とB室107
との境界の面部108に穴109が設けられている。穴
109に被さるように熱伝導体120の上に反射鏡が設
けられている。この熱伝導体120はできる限り熱伝導
性のよい例えば金、銀、銅、アルミニウム、シリコン、
ニッケル、クロム等の金属が用いられる。111は反射
鏡110と面部108との間の隙間である。隙間111
は小さい方が良いが、あまり小さく設計すると製造上の
少しのミスで反射鏡110と面部108とが接触してし
まう可能性がある。そのため隙間は0.1〜2.0mm
であることが好ましい。B室107の少なくとも1部は
ステンレススチール、銅−ニッケル合金、ガラス、セラ
ミックス、プラスチックス(フッ素樹脂、ポリイミド樹
脂、シリコーン樹脂)から構成される。これは冷凍面1
03によりA室を冷却させないためである。112はガ
ス用出口である。114は光源であり113は集光レン
ズであり、114は例えば一定波長の発光ダイオード等
が用いられる。115及び115は集光レンズであり、
116は光検知装置である。117、118及び11
8′は光ファイバーである。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】1aは冷凍発生部である。8aと8a′は
ヒーターである。20aは冷凍面である。A室の材料3
aは例えば金、銀、銅、アルミニウム、シリコン、ニッ
ケル又はクロム等からなる熱伝導性の良い材料で構成さ
れている。5aは被測定ガス用入口である。B室は7a
で構成され、A室とB室境界に穴9aが設けられてい
る。穴9aに被さるように熱伝導体20aの上に反射鏡
10aが設けられている。この熱伝導体20aはできる
限り熱伝導性のよい例えば金、銀、銅、アルミニウム、
シリコン、ニッケル、クロム等の金属が用いられる。1
1aは反射鏡10aとA室の壁面3aとの間の隙間であ
る。隙間11aは小さい方が良いが、あまり小さく設計
すると製造上の少しのミスで反射鏡10aとA室の壁面
3aとが接触してしまう可能性がある。そのため隙間は
0.1〜2.0mmであることが好ましい。B室の材料
7aの少なくとも1部は熱伝導性の悪いステンレス、銅
−ニッケル合金、ガラス、セラミックス、プラスチック
ス(フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂)か
ら構成される。これは冷凍面20aによりA室を冷却さ
せないためである。6aはガス用出口である。2aは集
光レンズの付いた光源であり、2aは例えば一定波長の
発光ダイオード等が用いられる。4aと4a′は集光レ
ンズの付いた光検知装置である。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0020
【補正方法】変更
【補正内容】
【0020】上記図面において本発明の装置はA室が上
にB室が下に図示されている。しかしB室が上でA室が
下であっても良い。又A室及びB室が並んで水平な状態
であっても良い。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】本発明において、受光装置を2個以上設け
ることが特徴で、測定装置は上記の3つの実施例以外の
ものであっても良い。
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】本発明の実施の態様 温度を変えることができる反射鏡、前記反射鏡に被測定
ガスを接触させる手段、前記反射鏡に集光光線及び/又
はレーザー光を投射する手段、その反射鏡上に形成され
た露及び/又は霜に基づく散乱光の変化を検知する手段
を含む光学式露点計を使用し、その方法は前記反射鏡に
被測定ガスを接触させ、そのガスが接触する反射鏡の部
分に前記集光光線又はレーザー光を投射し、その反射鏡
とそのガスとを接触前又はその反射鏡とそのガスとを接
触させながらその反射鏡の温度を徐々に低下させ、その
反射鏡上に露及び/又は霜を形成させ、結露点及び/又
は結露点付近で露及び/又は霜を鏡面上から完全に昇華
させない程度に反射鏡の温度を徐々に加熱し、そして冷
却する操作を少なくとも1回繰返し、それによって散乱
光の強さの極大となる温度及び極小となる温度を検出
し、その極大温度及びその極小温度をそのガスの露点及
び/又は霜点とすることを含む微量水分を含むガスの露
点又は霜点を決定する方法に関する。
【手続補正12】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0029
【補正方法】変更
【補正内容】
【0029】今この原理を第4図によって説明する。図
4において反射鏡の温度を低下させる。イ点は結露又は
結霜が生じる。しかし過冷却にとなりやすいので、この
点は正確な露点又は霜点ではない。さらに温度を低下さ
せ、核形成点であると判断出来ればロ点から温度を上昇
させる。当然この状態では過冷却になっているので、氷
は成長し続ける。散乱光の強さが極大となった点、ハ点
を昇華点とする。この時の反射鏡の温度をTsとする。
次いで昇華点と判断しうる点、二点まで反射鏡を加熱す
る。そこで氷は気化し始め、二点からは反射鏡の温度を
再び冷却し始め、ホの点で散乱光の強さは極小となる。
この時の温度、積層凝固点もTsとなる。このように受
光量の極大値の昇華点と、次に冷却によって生ずる積層
凝固点とが、同じ含水分量ガスに対して、一致すること
が確認されたので、その結果Tsがそのガスの正しい露
点又は霜点ということができる。さらに反射鏡を加熱又
は冷却を繰り返すと散乱光のカーブもまた放物線を描い
て変化する。昇華点と積層凝固点は繰返し生ずる。
【手続補正13】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】 上記式(1)は曲線の式である。加熱及び冷却速度は低
温になる程遅くなる。
【手続補正14】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】変更
【補正内容】
【0033】上記(1)の曲線に従って冷却及び加熱を
行うと仮定すると、低温になる程、冷却及び加熱速度を
遅くしなければならず、これを実施するために完全なコ
ンピューター制御を行うのが理想的であるが、しかしこ
れは経済的ではない。
【手続補正15】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0034
【補正方法】変更
【補正内容】
【0034】上記の表に示すように階段的に冷却及び加
熱速度を下げていくのが一般的である。例えば−100
°C以下では5°Cごとに冷却又は加熱速度を変化させ
るのである。
【手続補正16】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0037
【補正方法】変更
【補正内容】
【0037】図6は具体的なガスについてガス中の水分
量と散乱光の変化の割合を示すグラフである。図5にお
いて、反射鏡の温度を変化させると散乱光の強さはチ.
リ.ヌとカーブを描いて変化する。チ.リ.ヌのカーブ
を2次曲線と仮定し微分して直線として表したのが、図
6である。図6においてチ′、リ′及びヌ′は図2にお
けるチ.リ及びヌに対応する。横軸のガス中の水分量は
氷の蒸気圧の式から求めた値である。
【手続補正17】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0038
【補正方法】変更
【補正内容】
【0038】このガスの水分含有量は1.30ppbで
あるということができる。この場合の実験条件は次の通
りである。
【手続補正18】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0039
【補正方法】変更
【補正内容】
【0039】To=−90°C R(T)=約4°C/分 n=約0.67 ΔT=約0.4°C 2秒間に1回のサンプル測定 さらにこの測定法の特徴は一般にこのような測定におけ
るノイズは必ず生じ、これによる誤差への対策である。
散乱光の強度の上昇点を結露又は結霜点とするとノイズ
のため正確な点を読むことは非常にむつかしい。しかし
ながら、本発明のように山型の頂点および谷型の底点か
ら結露又は結霜点を見つける場合、たとえ、ノイズが発
生していても、実際の測定点を2次曲線を微分した直線
にプロットし、最小二乗法により得た直線から、頂点と
なる昇華点又は底点となる積層凝固点を求めることは、
非常に正確で安定した値が得られるのである。
【手続補正19】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0040
【補正方法】変更
【補正内容】
【0040】図7には、ノイズが大きく測定点が可成り
のバラツキを示すような例を示した。それでも、最少二
乗法により、直線を求めると、0.52ppbという非
常に微量の水分量を求めることが出来ることを示した。
又、この測定法では、−115°Cの霜点の場合、従来
の結霜点から、昇華点まで5〜6時間かゝっていたもの
が、昇華点から、次の積層凝固点までほヾ1時間しかか
ゝらない利点をもっている。これが、−110°Cの霜
点では、30分以内で測定出来る。この場合のガス流量
は500Nml/minである。
【手続補正20】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0041
【補正方法】変更
【補正内容】
【0041】KO512(水素)の中には、−100°
Cまでの霜点と水分濃度の換算表が示されているが、−
100°C以下の換算表を規定したものはない。−10
0°C以下の場合には水の飽和蒸気圧曲線の外挿線を用
いて、換算するしか方法はない。現在、最も信頼できる
式としては以下の式がある。
【手続補正21】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0042
【補正方法】変更
【補正内容】
【0042】 T:露点、絶対温度〔K〕 C:水分濃度〔ppb〕 これはINTERNATIONAL CRITICAL
TABLES OFNUMERICAL DATA,
PHYSICS,CHEMISTRY ANDTECH
NOLOGY VOLUMEIII,P210,NAT
IONALRESERACH COUNCIL OF
USA(1928)に示された式である。第6図、第7
図のような−100°C以下の霜点の場合は、この式を
用いて、測定した霜点から水分量算出したものである。
【手続補正22】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0043
【補正方法】変更
【補正内容】
【0043】図8は標準ガス(水分含有量が知られてい
る)の霜点(水分含有量から換算された値)と本発明に
従って測定された平衡点から換算された水分量との関係
を示す。図8及び図9から本発明の方法では非常にガス
中の水分を正確に測定できることは明白である。この実
験に用いられた標準水分ガス発生装置は図10に示され
る日立東京エレクトロニクス株式会社製の、10ppm
の標準ガスを2段に希釈して発生させたものである。
【手続補正23】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0044
【補正方法】変更
【補正内容】
【0044】以上に説明したように、先づ反射鏡面上に
霜をつけ、その後、加熱、冷却をゆっくりと行うことに
より、その散乱光を測定し、その極大値となる昇華点、
極小値となる積層凝固点を測定することにより、平衡状
態にきわめて近い状態で結露又は結霜点を測定し、これ
を、蒸気圧曲線をもちいて、−110°C以下の非常に
低い結霜点が、間歇的とはいえ、1時間以内に1点とい
った程度に正確に測定できることがわかった。この測定
には、受光のための集光レンズを7ケ使用し感度を高く
して測定した。このような測定の場合、ノイズだけでな
くドリフトの影響も非常に大きい。たとえば、−115
°C程度の結霜点の測定には、約1時間要し、ゆるやか
な頂点、或はゆるやかな底点の中で極大値、極小値を求
めなければならない。反射鏡面上の霜の気化、積層凝固
を測定するのに、安定して、霜の全般的な変化を測定す
るためには、1ケだけの集光レンズでは、もし、測定点
がずれれば、それによるドリフトの影響によって、この
ような極大値を求めることは非常にむつかしい。
【手続補正24】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【手続補正25】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
【手続補正26】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】
【手続補正27】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図10
【補正方法】変更
【補正内容】
【図10】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (i)室温から−80℃以下の任意の温
    度までに変えることが可能な反射鏡、(ii)その反射
    鏡に被測定ガスが接触するようにその反射鏡を含む室へ
    の被測定ガス導入口又は、ガス吹付けノズル、(ii
    i)集光光線又はレーザー光、(iv)露又は霜が発生
    する反射鏡の部分に集光させた光線を投射させる装置、
    (v)反射鏡上に形成された露又は霜による散乱光及び
    /又は反射光の変化を検出する機構、及び(vi)散乱
    光の変化を検出した時の温度を検知する機構を含むガス
    中の微量水分測定装置において、前記散乱光の検出を2
    方向以上に設置した受光装置で行なうことを特徴とする
    装置。
JP3357407A 1991-04-18 1991-12-01 ガス中の微量水分測定装置 Pending JPH06109629A (ja)

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CA002085611A CA2085611A1 (en) 1991-04-18 1992-04-17 Method of measuring the dew point and/or frost point of a gas having low water content and apparatus therefor
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DE69229493T DE69229493T2 (de) 1991-04-18 1992-04-17 Verfahren und apparatur zur messung des taupunktes und/oder des frostpunktes eines gases geringen wassergehalts
TW081103026A TW213979B (ja) 1991-04-18 1992-04-17
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CN112666203A (zh) * 2020-12-25 2021-04-16 浙江大学 一种痕量水结霜可视化实验装置

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CN110376238B (zh) * 2019-08-23 2024-05-24 成都信息工程大学 一种机载快速冰核活化计数器
CN112666203A (zh) * 2020-12-25 2021-04-16 浙江大学 一种痕量水结霜可视化实验装置

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