JPH06103789A - 不揮発性メモリ方式 - Google Patents

不揮発性メモリ方式

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Publication number
JPH06103789A
JPH06103789A JP24968592A JP24968592A JPH06103789A JP H06103789 A JPH06103789 A JP H06103789A JP 24968592 A JP24968592 A JP 24968592A JP 24968592 A JP24968592 A JP 24968592A JP H06103789 A JPH06103789 A JP H06103789A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sense amplifier
dummy
memory array
memory
cell
Prior art date
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Pending
Application number
JP24968592A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Kai
靖啓 甲斐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Oki Micro Design Miyazaki Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Oki Micro Design Miyazaki Co Ltd
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Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd, Oki Micro Design Miyazaki Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP24968592A priority Critical patent/JPH06103789A/ja
Publication of JPH06103789A publication Critical patent/JPH06103789A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、不揮発性メモリ(実施例はマスク
ROM)の回路構成に関するもので、センスアンプの動
作速度の遅れや誤動作を除去することを目的とするもの
である。 【構成】 前記目的のため本発明は、分割したメモリア
レイ1a、1b間に従来の一方式と同様センスアンプ4
内にダミーセル5を設けるとともに、メモリアレイ1
a、1bを選択するアドレス信号Aとその逆信号バーA
とをゲートするトランジスタTr1、3を従来の方式の
トランジスタTr2、4の他に設け、ビット線2aまた
は2bの容量値を、1組のメモリアレイ1aまたは1b
を選択するとき、他のメモリアレイ1bまたは1aを全
てダミーにするようにしたものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体装置としての
不揮発性メモリの回路構成に関するものであり、実施例
としてはマスクROM(リード オンリー メモリ)の
回路構成に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の回路構成、特にマスクR
OMとしては、図2、図3にブロック図として示すもの
がある。
【0003】いずれもメモリアレイを2分割1a,1b
(通常、上側、下側と言うので、ここでもそれに従う)
したものであり(分割するのは、ビット線が長くなり、
その配線容量が多くなるのを防ぐためであり、3分割以
上にするのもある。ここでは2分割とする)、そのメモ
リアレイ1a、1b間にセンスアンプを配置した周知の
回路構成であるが、一応簡単に説明しておく。
【0004】メモリアレイ1a、1bは、ビット線とワ
ード線のマトリックス状の配線の必要箇所に不純物注入
で特性を変えられた(一般にデプレッション型にし、い
わゆるノーマリーオンにする)トランジスタがメモリセ
ルとして接続されており、読み出し(リード)専用(オ
ンリー)のメモリとしての役割を持つ。そのメモリアレ
イ1a、1bのビット線2a、2bは、そのビット線1
a、1bを選択する回路(Y系デコーダとも言われる)
であるマルチプレクサ3a、3bに接続されており、そ
のマルチプレクサ3a、3b間に、上下メモリアレイ1
a、1bのいずれを選択するかの信号(通常アドレス信
号)A、バーAを受け入れるトランジスタ(通常、電解
効果型トランジスタでスイッチングの役割を持つ)を介
して、電流型センスアンプ(以下、単にセンスアンプと
記す。このセンスアンプは、周知のようにRAM(ラン
ダム アクセス メモリ)の電圧型と違ってROMは電
流型であり、メモリセル動作の高速化のために微小なメ
モリセルからの電流を増幅して、高速動作をさせるため
にある)4に接続されている。なお、ワード線は本発明
に殆ど関係しないので表示してない。ちなみに、ワード
線を選択するとき、それをローにすると、選ばれたデプ
レッション型トランジスタの出力は“1”になる。
【0005】図2の方式は、前記センスアンプ4内にダ
ミーセル群(以下、単にダミーセルと称す)5を設けた
ものであり、このダミーセル5で、指定されたメモリア
レイ1aまたは1bのセル(以下、本セルと称す)の電
流値とこのダミーセル5の電流値とを比較して、出力す
る方式である。周知のように、このダミーセル5は、出
力としての“1”、“0”をダミーレベルを基準に判定
させるためのものである。マスクROMでは、この方式
が一般的であるが、次ぎに説明する方式もかなり用いら
れる。
【0006】図3の方式は、EPROM(電気的消去可
能なROM)と同様に、メモリアレイ1a、1bの中に
専用のダミーセル(図示せず)とそれに接続されるダミ
ービット線6a、6bを設けたものである。従って、セ
ンスアンプ4ないにはダミーセルを設けてない。このダ
ミービット線6a、6bは、全く選択されないビット線
であり、本当のビット線の配線容量とのバランスをとる
ためにある。つまり、本セル(1a、1b内)と前記図
示しないダミーセルとの電流値および配線などの容量値
をセンスアンプ4内に取り込み、その差によって出力の
“H”、“L”(0or1)を出力する方式である。こ
のダミービット線6a、6bは構成上通常8ないし16
組必要とする。つまり、それだけ占有面積を必要とす
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図2の
方式においては、本セルと比較して、ビット線の配線と
ダミーセル群の配線との容量値に差異が発生する。つま
り、バランスがくずれる。この容量値の差異により、ビ
ット線の配線と比較する本セルのデータを出力するセン
スアンプのスピードに遅れが発生したり、ついには誤動
作する原因にもなりかねない。
【0008】また、図3の方式においては、上記問題点
は解決されるものの、マスクROMなどの開発において
重要視されるチップサイズにおいての面積が増え、不利
になってくる。
【0009】この発明は、以上述べた本セルと比較する
容量値の差異と、チップサイズ増大という二つの問題点
を解決する為、トランスファゲートを追加して、チップ
サイズを増すことなく、センスアンプの誤動作をなくす
方式を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明は前記目的のた
め、メモリアレイと、マルチプレクサを組にして2分割
したマスクROMにおいて、マルチプレクサとセンスア
ンプとの間に、アドレス信号をゲートするトランジスタ
を設け、かつ、センスアンプ内にはダミーセル群を設
け、ビット線とダミービット線の容量値を、1組のメモ
リアレイを選択時に、他方のメモリアレイをダミーとす
るようにしたものである。
【0011】
【作用】前述したようにこの発明によれば、マルチプレ
クサとセンスアンプの間にメモリアレイの上下分割アド
レス信号をゲートとするトランジスタを、上下2つずつ
追加し、電流検出型センスアンプの中にダミーとしての
電流値を提供するダミーセル群を設けて、1組のメモリ
アレイを選択時に他のメモリアレイをダミーとするよう
にしたので、チップサイズに変化をもたせることなく、
本セルと同等のビット線容量値をとり込むことができ、
センスアンプの誤動作を防ぐことができる。
【0012】
【実施例】図1に、本発明の実施例の回路構成のブロッ
ク図を示し、以下に説明する。従来例と同じ機能の部分
には同じ符号を付してあり、従来と全く変わらない部分
の説明は割愛する。本実施例も、従来例と比較し易くす
るため、メモリアレイを上側下側2分割したマスクRO
Mを例とする。
【0013】本実施例の特長とする点、特に図2の方式
と異なる点は、電流検出型センスアンプ(以下、単にセ
ンスアンプと称す)4内に従来例の図2の方式と同様、
ダミーセル群(以下、単にダミーセルと称す)5を設け
るとともに、1組のメモリセル1aまたは1bを選択し
たときに、片方のメモリセル1b、1aをダミーとする
ための信号を受け入れるゲートであるトランジスタTr
1、Tr3を、マルチプレクサ2a、2bと前記ダミー
セル5間に設けたことにある。そして、従来例の図3の
方式のダミービット線(図3の6a、6b)は設けてな
い。上側、下側のメモリアレイ1a、1bを選択する信
号(通常アドレス信号)は従来同様AとバーAである。
センスアンプ4内に設けたダミーセル5は、従来同様、
本セルと全く同等で、図示しないワード線(8ないし1
6本あり、これは任意)のダミーセルブロックであり、
ノーマリーオン状態のメモリセル群で、これによりダミ
ーの電流値をセンスアンプ4の中に取り込む。
【0014】容量値の判定は、今、上側メモリアレイ1
aを任意のアドレスAでトランジスタ(NMOS型)T
r2のゲートを駆動したとすると、本セル(選択された
1a内)の電流値および容量値(配線容量値)をセンス
アンプ4に取り込ませる。そのとき、下側メモリアレイ
1bの図示しないワード線は、前記アドレス信号Aの逆
信号であるバーAによってトランジスタTr4が駆動さ
れて非選択状態とするのであるが、ビット線2a、2b
選択は、上下に配したマルチプレクサ3a、3bによ
り、上下とも同様に選択される。
【0015】ここで、前記Tr2のゲートを駆動してい
る任意のアドレス信号Aを、トランジスタ(NMOS
型)Tr3のゲートにも与えることによって、下側メモ
リアレイ1bが選択されるが、ただし、ワード線(図示
せず)はすべて非選択状態になっているので、下側メモ
リアレイ1bの全てのビット(セル)は非選択状態とな
っており、その非選択状態となったビット線2bが選択
されるため、そのビット線2bの容量値のみが前記ダミ
ーセル5に取り込まれることになる。従って、センスア
ンプ5のスピードの遅れや誤動作は発生しない。つま
り、選択されない側のメモリアレイのセルをすべてダミ
ーにする方式である。このためのトランジスタTr1、
Tr3の追加は、デバイス面積を増すほどのものではな
い。
【0016】下側メモリアレイを選択する場合は、当然
上述したことの逆のことを行なえばよいことは説明する
までもないであろう。
【0017】以上の実施例は、マスクROMを例とした
が、当然、同様の構成を有する他の不揮発性メモリ(E
PROMなど)にも適用できる。
【0018】
【発明の効果】以上、詳細に説明したようにこの発明に
よれば、マルチプレクサとセンスアンプの間にメモリア
レイの上下分割アドレス信号をゲートするトランジスタ
を、上下2つ追加し、電流検出型センスアンプの中にダ
ミーとしての電流値を提供するダミーセル群を設けるだ
けで、チップサイズに変化をもたせることなく、本セル
と同等のビット線容量値をとり込むことができ、センス
アンプの遅れや誤動作を防ぐことができる。今後、マス
クROMは大容量化されていき、メモリアレイは分割さ
れていくが、その全てにおいて有効な方式である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例
【図2】従来例1
【図3】従来例2
【符号の説明】
1a 上側メモリアレイ 1b 下側メモリアレイ 2a、2b ビット線 3a、3b マルチプレクサ 4 センスアンプ 5 ダミーセル Tr1〜4 トランジスタ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メモリアレイが任意の信号で指定できる
    よう分割され、該各メモリアレイのビット線をマルチプ
    レクサに接続し、該各マルチプレクサ間に前記分割され
    たメモリアレイのいずれかを選択する信号を受信する素
    子を介して電流検出型センスアンプに接続される構成の
    不揮発性メモリ方式において、 前記電流検出型センスアンプに、ダミーセルとしての電
    流値を生成するダミーセル群を設け、前記任意の信号で
    選択されたメモリアレイをそのときに機能するセルと
    し、前記信号の逆信号で選択されたメモリアレイをすべ
    てダミーセル用のダミービット線容量値として、前記セ
    ンスアンプに取り込むようにしたことを特徴とする不揮
    発性メモリ方式。
JP24968592A 1992-09-18 1992-09-18 不揮発性メモリ方式 Pending JPH06103789A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7102928B2 (en) 2000-06-29 2006-09-05 Shouichi Kawamura Semiconductor memory apparatus
US7539036B2 (en) 2006-01-30 2009-05-26 Renesas Technology Corp. Semiconductor memory device including plurality of memory mats
JP2015060611A (ja) * 2013-09-19 2015-03-30 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置及びそのテスト方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7102928B2 (en) 2000-06-29 2006-09-05 Shouichi Kawamura Semiconductor memory apparatus
US7539036B2 (en) 2006-01-30 2009-05-26 Renesas Technology Corp. Semiconductor memory device including plurality of memory mats
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