JPH06103778A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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Publication number
JPH06103778A
JPH06103778A JP24972192A JP24972192A JPH06103778A JP H06103778 A JPH06103778 A JP H06103778A JP 24972192 A JP24972192 A JP 24972192A JP 24972192 A JP24972192 A JP 24972192A JP H06103778 A JPH06103778 A JP H06103778A
Authority
JP
Japan
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bits
memory cell
column
row
column direction
Prior art date
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Pending
Application number
JP24972192A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Hotta
泰裕 堀田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Publication of JPH06103778A publication Critical patent/JPH06103778A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 装置全体の動作におけるワード線の遅延時間
の最適化を図るために、各メモリセルアレイからの読み
出しビット数の割り当て及び列方向の分割を適正化する
ことにより、チップ面積の増大を最小限に抑えた、コス
トパフォーマンスに優れた半導体記憶装置を提供するこ
と。 【構成】 第1行デコーダ11の両側に、それぞれワー
ド線選択駆動回路12,12及び第1メモリセルアレイ
131(4096×512)、第2メモリセルアレイ1
2(4096×768)を配置した第1メモリブロッ
ク101、第1行デコーダ11の両側に、それぞれワー
ド線選択駆動回路12,12及び第2メモリセルアレイ
132,132を配置した第2メモリブロック102、並
びに、第1行デコーダ11の両側に、それぞれワード線
選択駆動回路12,12及び第2メモリセルアレイ13
2、第1メモリセルアレイ131を配置した第3メモリブ
ロック103が並置された構成となっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ROM或いは半
導体RAM等の半導体記憶装置に関するものであり、特
に、該半導体記憶装置に於けるメモリセルアレイの列方
向の分割構成に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図2は、従来の半導体記憶装置のブロッ
ク構成図である。
【0003】第1行デコーダ21の両側に、それぞれ、
該第1行デコーダ21よりの出力信号を受けるワード線
選択駆動回路22,22及びメモリセルアレイ23,2
3を配置したメモリブロック20が2個並置された構成
となっている。例えば、16MのROMであれば、各メ
モリセルアレイ23,…は、列方向に1024個、行方
向に4096個のメモリセルから成る。24は、第1行
アドレス入力Aiに基づき、上記第1行デコーダ21に
内部アドレス信号Ai、バーAiを出力する第1行アド
レス入力回路、25は、第2行アドレス入力Ajに基づ
き、第2行デコーダ26に内部アドレス信号Aj、バー
Ajを出力する第2行アドレス入力回路である。第1行
デコーダ21よりの第1行選択信号により選択可能状態
となった複数本(例えば4本)のワード線の内の一本
が、第2行デコーダ26よりの第2行選択信号により選
択され駆動される。一方、27は列選択回路、28はセ
ンスアンプである。本例に於いては、各センスアンプ2
8の出力は4ビットとなっており、計16ビットの出力
データが出力される。すなわち、29は、列アドレス入
力Akに基づき内部アドレス信号Ak、バーAkを出力
する列アドレス入力回路、30は、列アドレス入力回路
29の出力により列選択信号を出力する列デコーダであ
り、該列デコーダ30の出力により、各列選択回路27
は、例えば、列方向1024ビットの内の4ビットを選
択してセンスアンプ28に出力する。
【0004】上記半導体記憶装置のメモリセルアレイ構
成においては、各メモリセルアレイから同じビット数の
データを読み出す設計及び列選択回路及びセンスアンプ
回路の配置など設計の容易性などから、各メモリセルア
レイの列方向のメモリセル数をすべて2nとするのが一
般的である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、一本のワー
ド線にメモリセルが多数接続されると、ワード線の配線
距離も長くなり、ワード線の寄生容量及び抵抗が大きく
なる。これにより、ワード線の遅延時間も大きくなる。
【0006】半導体記憶装置に於ける内部主要動作時間
の概略内訳の一例を図3に示す。
【0007】外部アドレス入力信号に基づき、入力バッ
ファ回路の出力信号となる内部アドレス信号が確定する
までを入力バッファ動作期間、内部アドレス信号に基づ
き、複数ワード線より特定のワード線の選択、及び特定
のビット線を選択、確定するまでの期間をデコーダ動作
期間、選択されたワード線が所定の電位になるまでをワ
ード線駆動動作期間、選択されたビット線に対し、高速
動作を行うために所定の電位まで予め充電を行う期間を
ビット線の初期化動作期間、選択されたメモリセルによ
りビット線を所定の電位にする期間をビット線駆動動作
期間、そのビット線の微小な電位変化を増幅し、論理信
号に確定するまでの期間をセンスアンプ反転動作期間、
そのセンスアンプ回路の出力である論理信号を外部に出
力する期間を出力バッファ動作期間とする。ワード線駆
動とビット線の初期化は同時に並列的に行われる。ま
た、ビット線駆動とセンスアンプ反転動作も略同時に並
列的に行われる。
【0008】上述のように、内部動作において、ワード
線駆動の動作と並行してビット線の初期化動作が行われ
るが、この動作が全体に占める割合は、この例において
は、約35%となる。したがって、高速化するにあたっ
ては、ワード線の遅延時間の短縮が不可欠である。この
点に鑑み、高速化を図るために、図4に示すように、列
方向の分割数を増やし、ワード線の寄生容量及び抵抗の
低減を図る手法がある。図に於いて、41,…は第1行
デコーダ、42,…はワード線選択駆動回路、43,…
はメモリセルアレイ、47,…は列選択回路、48,…
はセンスアンプである。各センスアンプ48の出力は2
ビットとなっており、計16ビットの出力データが出力
される。なお、図4に於いては、アドレス入力回路等は
省略している。例えば、16MのROMであれば、各メ
モリセルアレイ43,…は、列方向に512個、行方向
に4096個のメモリセルから成る。上記の構成によ
り、ワード線の遅延時間の短縮を図ることができる。
【0009】しかしながら、第1行デコーダ及びワード
線選択駆動回路の部分が増加するために、チップ面積の
大幅な増大を招いている。分割にあたっては、上述の通
り、設計の容易性などにより、各メモリセルアレイの列
方向のメモリセル数を2nで構成して、各メモリセルア
レイからの読み出しビット数を同じにしている。図4の
場合、各メモリセルアレイは、列方向に512個、行方
向に4096個のメモリセルから成り、出力ビット数1
6ビットに対し、各メモリセルアレイより、列選択回路
を通して、それぞれビットの読み出しを行う。このよう
な分割により、ワード線の遅延時間は、図2の場合の約
1/4に短縮されるものの、装置全体の動作からする
と、過剰能力となっていると共に、また、市場の要望性
能に対しても、過剰性能となる場合が多々ある。結果的
に、チップ面積の増加により、デバイス価格が増大し、
コストパフォーマンスの点で劣ることとなる。
【0010】別の解決手法として、ポリシリコンから成
るワード線に金属配線層を追加した多層配線技術を用い
て、列方向の分割数を増やすことなく、ワード線遅延時
間の短縮を図る方法もある。しかしながら、この方法に
よる場合は、微小なチップ面積に抑えることができるも
のの、多層配線を用いることによりウエハープロセス工
数が増大し、その結果、ウエハーコスト増となる。
【0011】それ故に、本発明の目的は、装置全体の動
作におけるワード線の遅延時間の最適化を図るために、
各メモリセルアレイからの読み出しビット数の割り当
て、及び列方向の分割を適正化することにより、チップ
面積の増大を最小限に抑えた、コストパフォーマンスに
優れた半導体記憶装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、行デコーダの両側に、それぞれワード線選択駆動回
路及びメモリセルアレイを配置して成るメモリブロック
を複数個有して成る半導体記憶装置に於いて、上記複数
のメモリセルアレイが、列方向のビット幅が互いに異な
る複数種類のメモリセルアレイにより構成されることを
特徴とするものである。
【0013】
【作用】上記の構成により、行デコーダ及びワード線選
択駆動回路の増加を必要最小限とすることで、これに伴
うチップ面積の増加を必要最小限に抑えた構成とするも
のである。
【0014】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を詳細に説明
する。
【0015】図1は、本発明の半導体記憶装置の一実施
例である16MのROMのブロック構成図である。第1
行デコーダ11の両側に、それぞれ、該第1行デコーダ
11よりの出力を受けるワード線選択駆動回路12,1
2及び第1メモリセルアレイ131、第2メモリセルア
レイ132を配置した第1メモリブロック101、第1行
デコーダ11の両側に、それぞれワード線選択駆動回路
12,12及び第2メモリセルアレイ132,132を配
置した第2メモリブロック102、並びに、第1行デコ
ーダ11の両側に、それぞれワード線選択駆動回路1
2,12及び第2メモリセルアレイ132、第1メモリ
セルアレイ131を配置した第3メモリブロック103
並置された構成となっている。上記に於いて、第1メモ
リセルアレイ131は、列方向に512個、行方向に4
096個のメモリセルから成り、第2メモリセルアレイ
132は、列方向に768個、行方向に4096個のメ
モリセルから成る。第1行デコーダ11よりの第1行選
択信号により選択可能状態となった複数本(例えば4
本)のワード線の内の一本が、第2行デコーダ(図示せ
ず)よりの第2行選択信号により選択され駆動される。
一方、17は列選択回路、18はセンスアンプである。
本実施例においては、各センスアンプ18の出力は、対
応するメモリセルアレイの列方向のビット幅に応じて、
2ビットまたは3ビットとなっており、計16ビットの
出力データが出力される。すなわち、列デコーダ19よ
りの列選択信号により、各列選択回路17は、列方向5
12ビットの内の2ビット、または列方向768ビット
の内の3ビットを選択してセンスアンプ18に出力す
る。
【0016】以上のように、出力ビット数16ビットに
対し、上記のようなメモリセルアレイからの読み出しビ
ットを割り当てることで、列方向分割に伴う第1行デコ
ーダ及びワード線選択駆動回路群の増加は1組のみとな
り、チップ面積の大幅な増大を抑えられると共に、ワー
ド線の遅延時間は、図2の分割構成と比較して約50%
短縮されるものである。
【0017】以上のように、本発明は、メモリセルアレ
イの分割に於いて、各メモリセルアレイの列方向ビット
数をすべて同数(2n)とするという従来の概念を脱却
し、各メモリセルアレイの列方向のビット数を、2n
とらわれることなく設定し、且つ、各メモリセルアレイ
間で、その列方向ビット数を異ならしめるという全く斬
新な着想に基づき、適正な分割構成を実現し得る構成と
した半導体記憶装置を始めて提供するものであり、その
有用性,実用的効果は極めて大なるものである。
【0018】本発明は、上記実施例の構成に限定される
ものではなく、複数のメモリセルアレイが、列方向のビ
ット幅が互いに異なる複数種類のメモリセルアレイによ
り構成される半導体記憶装置すべてを含むものである。
【0019】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、ワード線遅延時間の短縮に伴うチップ面積の増大
を必要最小限に抑えつつ、ワード線遅延の最適化を行う
ことができるので、コストパフォーマンスに優れた半導
体記憶装置を提供することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のブロック構成図である。
【図2】従来の半導体記憶装置のブロック構成図であ
る。
【図3】半導体記憶装置における内部主要動作時間の概
略内訳を示す図である。
【図4】従来の他の半導体記憶装置のブロック構成図で
ある。
【符号の説明】
101,102,103 メモリブロック 11 第1行デコーダ 12 ワード線選択駆動回路 131 第1メモリセルアレイ 132 第2メモリセルアレイ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 行デコーダの両側に、それぞれワード線
    選択駆動回路及びメモリセルアレイを配置して成るメモ
    リブロックを複数個有して成る半導体記憶装置に於い
    て、上記複数のメモリセルアレイが、列方向のビット幅
    が互いに異なる複数種類のメモリセルアレイにより構成
    されることを特徴とする半導体記憶装置。
JP24972192A 1992-09-18 1992-09-18 半導体記憶装置 Pending JPH06103778A (ja)

Priority Applications (1)

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JP24972192A JPH06103778A (ja) 1992-09-18 1992-09-18 半導体記憶装置

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JPH06103778A true JPH06103778A (ja) 1994-04-15

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ID=17197212

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JP24972192A Pending JPH06103778A (ja) 1992-09-18 1992-09-18 半導体記憶装置

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JP (1) JPH06103778A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004192694A (ja) * 2002-12-10 2004-07-08 Renesas Technology Corp 半導体記憶装置
KR100426747B1 (ko) * 1995-05-22 2004-10-08 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 반도체장치

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KR100426747B1 (ko) * 1995-05-22 2004-10-08 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 반도체장치
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