JPH06102087A - レ−ザビ−ム径測定装置 - Google Patents
レ−ザビ−ム径測定装置Info
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- JPH06102087A JPH06102087A JP4273559A JP27355992A JPH06102087A JP H06102087 A JPH06102087 A JP H06102087A JP 4273559 A JP4273559 A JP 4273559A JP 27355992 A JP27355992 A JP 27355992A JP H06102087 A JPH06102087 A JP H06102087A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】レ−ザビ−ム形状を正確に把握し、レ−ザ光学
系の特性を正確に検出する。 【構成】センサヘッド1を光書込みユニット10から出
射されるレ−ザビ−ム15の主走査方向に移動しなが
ら、主走査方向の複数の位置でレ−ザビ−ムのビ−ム径
を測定する。ビ−ム径を測定するときに主走査方向のビ
−ム径と、副走査方向のビ−ム径を測定してビ−ム形状
を検出し、光学系のレンズ等の内部歪による特性値の変
動を正確に把握する。
系の特性を正確に検出する。 【構成】センサヘッド1を光書込みユニット10から出
射されるレ−ザビ−ム15の主走査方向に移動しなが
ら、主走査方向の複数の位置でレ−ザビ−ムのビ−ム径
を測定する。ビ−ム径を測定するときに主走査方向のビ
−ム径と、副走査方向のビ−ム径を測定してビ−ム形状
を検出し、光学系のレンズ等の内部歪による特性値の変
動を正確に把握する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えばファクシミ
リ,プリンタ,複写機等のレ−ザ光学系の特性を検出す
るためにレンズレ−ザビ−ム形状を測定するレ−ザビ−
ム径測定装置に関するものである。
リ,プリンタ,複写機等のレ−ザ光学系の特性を検出す
るためにレンズレ−ザビ−ム形状を測定するレ−ザビ−
ム径測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ファクシミ等のレ−ザ書込部の光学系の
特性を検出するためにレ−ザビ−ム形状を測定してい
る。従来、レ−ザビ−ム形状を測定する方法として、レ
−ザビ−ムをスキャンさせないで、ナイフエッジ法,ス
リットスキャン法により静的特性を測定する方法や、レ
−ザビ−ムを走査させて、CCD等を用いて動的特性を
測定する方法が使用されている。
特性を検出するためにレ−ザビ−ム形状を測定してい
る。従来、レ−ザビ−ム形状を測定する方法として、レ
−ザビ−ムをスキャンさせないで、ナイフエッジ法,ス
リットスキャン法により静的特性を測定する方法や、レ
−ザビ−ムを走査させて、CCD等を用いて動的特性を
測定する方法が使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】最近の光学系レンズは
価格面等からプラスチックレンズが使用されつつある。
ガラスレンズの場合は、レンズの曲率が正確にできてい
れば、ビ−ム径を数箇所測定して問題なければ、支障が
ないと判断できる。一方。プラスチックレンズの場合
は、曲率等が正確にできていても、成型時の内部応力や
材料の流れの影響などにより、レンズ内部に歪みが部分
的に発生する場合がある。この部分的に生じている歪み
により特性値が変動する。
価格面等からプラスチックレンズが使用されつつある。
ガラスレンズの場合は、レンズの曲率が正確にできてい
れば、ビ−ム径を数箇所測定して問題なければ、支障が
ないと判断できる。一方。プラスチックレンズの場合
は、曲率等が正確にできていても、成型時の内部応力や
材料の流れの影響などにより、レンズ内部に歪みが部分
的に発生する場合がある。この部分的に生じている歪み
により特性値が変動する。
【0004】しかしながら従来のようにレ−ザビ−ムの
スキャン方向(主走査方向)を固定してビ−ム径を測定
していると、レンズの部分的な歪みによる特性値の変動
を測定することはできなかった。
スキャン方向(主走査方向)を固定してビ−ム径を測定
していると、レンズの部分的な歪みによる特性値の変動
を測定することはできなかった。
【0005】また、測定点を主走査方向へ移動する場合
には、その移動が容易でないとともに、測定点の絶対的
位置は把握できず光学系レンズの特性を正確に測定する
ことは困難であった。
には、その移動が容易でないとともに、測定点の絶対的
位置は把握できず光学系レンズの特性を正確に測定する
ことは困難であった。
【0006】この発明はかかる短所を解決するためにな
されたものであり、レ−ザビ−ム形状を正確に把握し、
レ−ザ光学系の特性を正確に検出することができるレ−
ザビ−ム径測定装置を得ることを目的とするものであ
る。
されたものであり、レ−ザビ−ム形状を正確に把握し、
レ−ザ光学系の特性を正確に検出することができるレ−
ザビ−ム径測定装置を得ることを目的とするものであ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】この発明に係るレ−ザ
ビ−ム径測定装置は、光偏向器と走査レンズとを有する
レ−ザ光学系からのレ−ザビ−ムを測定するレ−ザビ−
ム径測定装置において、主走査方向ビ−ム径検出部と副
走査方向ビ−ム径検出部を有するセンサヘッドと、セン
サヘッドをレ−ザビ−ムの主走査方向に移動する移動装
置とを備えたことを特徴とする。
ビ−ム径測定装置は、光偏向器と走査レンズとを有する
レ−ザ光学系からのレ−ザビ−ムを測定するレ−ザビ−
ム径測定装置において、主走査方向ビ−ム径検出部と副
走査方向ビ−ム径検出部を有するセンサヘッドと、セン
サヘッドをレ−ザビ−ムの主走査方向に移動する移動装
置とを備えたことを特徴とする。
【0008】上記主走査方向ビ−ム径検出部は、ホトセ
ンサとホトセンサ上に設けられレ−ザビ−ムの主走査方
向と直交するスリットを有するスリット板からなり、副
走査方向ビ−ム径検出部はホトセンサに近接してスリッ
トと同一方向に配置されたCCDセンサであることを特
徴とする。
ンサとホトセンサ上に設けられレ−ザビ−ムの主走査方
向と直交するスリットを有するスリット板からなり、副
走査方向ビ−ム径検出部はホトセンサに近接してスリッ
トと同一方向に配置されたCCDセンサであることを特
徴とする。
【0009】また、検出したレ−ザビ−ムの強度分布パ
タ−ンからビ−ム径を算出するしきい値を任意に可変設
定することが好ましい。
タ−ンからビ−ム径を算出するしきい値を任意に可変設
定することが好ましい。
【0010】さらに、光偏向器の特定のミラ−面を選択
してビ−ム径を測定したり、レ−ザ光学系のレ−ザ光の
変調を任意に可変すると良い。
してビ−ム径を測定したり、レ−ザ光学系のレ−ザ光の
変調を任意に可変すると良い。
【0011】第2の発明に係るレ−ザビ−ム径測定装置
は、光偏向器と走査レンズとを有するレ−ザ光学系から
のレ−ザビ−ムを測定するレ−ザビ−ム径測定装置にお
いて、主走査方向と副走査方向のビ−ム径を検出するビ
−ム径検出部と、ビ−ム径検出部に対してレ−ザビ−ム
の主走査方向の前方に設置され、ビ−ム径検出部に照射
するレ−ザビ−ムの位置を定める位置基準信号を送り出
すホトセンサとを有するセンサヘッドと、センサヘッド
をレ−ザビ−ムの主走査方向に移動する移動装置とを備
えたことを特徴とする。
は、光偏向器と走査レンズとを有するレ−ザ光学系から
のレ−ザビ−ムを測定するレ−ザビ−ム径測定装置にお
いて、主走査方向と副走査方向のビ−ム径を検出するビ
−ム径検出部と、ビ−ム径検出部に対してレ−ザビ−ム
の主走査方向の前方に設置され、ビ−ム径検出部に照射
するレ−ザビ−ムの位置を定める位置基準信号を送り出
すホトセンサとを有するセンサヘッドと、センサヘッド
をレ−ザビ−ムの主走査方向に移動する移動装置とを備
えたことを特徴とする。
【0012】上記位置決め用のホトセンサの上部にレ−
ザビ−ムの主走査方向と直交するスリットを設けること
が好ましい。
ザビ−ムの主走査方向と直交するスリットを設けること
が好ましい。
【0013】また、レ−ザ光学系におけるレ−ザ光の変
調を任意に可変すると良い。
調を任意に可変すると良い。
【0014】
【作用】この発明においては、センサヘッドをレ−ザビ
−ムの主走査方向に移動しながら、主走査方向の任意の
位置でレ−ザビ−ムのビ−ム径を測定する。
−ムの主走査方向に移動しながら、主走査方向の任意の
位置でレ−ザビ−ムのビ−ム径を測定する。
【0015】このビ−ム径を測定するときに主走査方向
ビ−ム径検出部と副走査方向ビ−ム径検出部で互いに直
交する方向の径を測定する。
ビ−ム径検出部と副走査方向ビ−ム径検出部で互いに直
交する方向の径を測定する。
【0016】また、検出したレ−ザビ−ムの強度分布パ
タ−ンからビ−ム径を算出するしきい値を任意に可変設
定し、外乱等の影響を除去する。
タ−ンからビ−ム径を算出するしきい値を任意に可変設
定し、外乱等の影響を除去する。
【0017】さらに、光偏向器の特定のミラ−面を選択
してビ−ム径を測定して、測定精度を高める。
してビ−ム径を測定して、測定精度を高める。
【0018】また、レ−ザ光学系のレ−ザ光の変調を任
意に可変して、実際の使用に近付けて測定する。
意に可変して、実際の使用に近付けて測定する。
【0019】第2の発明においては、主走査方向と副走
査方向のビ−ム径を検出する2次元ビ−ム径検出部に対
して照射するレ−ザビ−ムの位置をレ−ザビ−ムの照射
によりホトセンサから出力する位置基準信号を基準にし
て任意の位置に定め、検出するレ−ザビ−ムの位置を明
確にする。
査方向のビ−ム径を検出する2次元ビ−ム径検出部に対
して照射するレ−ザビ−ムの位置をレ−ザビ−ムの照射
によりホトセンサから出力する位置基準信号を基準にし
て任意の位置に定め、検出するレ−ザビ−ムの位置を明
確にする。
【0020】上記位置決め用のホトセンサの上部にレ−
ザビ−ムの主走査方向と直交するスリットを設け、ホト
センサから出力する位置基準信号の信号幅を一定にす
る。
ザビ−ムの主走査方向と直交するスリットを設け、ホト
センサから出力する位置基準信号の信号幅を一定にす
る。
【0021】
【実施例】図1はこの発明の一実施例を示すブロック図
である。図に示すように、レ−ザビ−ム径測定装置はセ
ンサヘッド1と移動装置2と計測部3と制御部4とプリ
ンタ5とを有する。センサヘッド1は、図2の斜視図に
示すように、ホトセンサ6と、ホトセンサ6上に設けら
れレ−ザビ−ムの主走査方向と直交するスリット7を有
するスリット板8と、ホトセンサ6に近接して設けら
れ、スリット7と同一方向に配置されたCCDセンサ9
とを有する。ホトセンサ6はスリット7から入射するレ
−ザビ−ムの主走査方向のビ−ム径を検出する。CCD
センサ9は主走査方向にスキャンするレ−ザビ−ムの副
走査方向のビ−ム径を検出する。
である。図に示すように、レ−ザビ−ム径測定装置はセ
ンサヘッド1と移動装置2と計測部3と制御部4とプリ
ンタ5とを有する。センサヘッド1は、図2の斜視図に
示すように、ホトセンサ6と、ホトセンサ6上に設けら
れレ−ザビ−ムの主走査方向と直交するスリット7を有
するスリット板8と、ホトセンサ6に近接して設けら
れ、スリット7と同一方向に配置されたCCDセンサ9
とを有する。ホトセンサ6はスリット7から入射するレ
−ザビ−ムの主走査方向のビ−ム径を検出する。CCD
センサ9は主走査方向にスキャンするレ−ザビ−ムの副
走査方向のビ−ム径を検出する。
【0022】このセンサヘッド1は、図3の計測システ
ムの配置図に示すように、主走査方向に移動する移動装
置2に搭載され、例えばレ−ザダイオ−ドからなるレ−
ザ光源11とコリメ−トレンズ12,光偏向器13及び
走査レンズ14とを有するファクシミリ等の光書込みユ
ニット10から出射するレ−ザビ−ム15のビ−ム径を
測定する。
ムの配置図に示すように、主走査方向に移動する移動装
置2に搭載され、例えばレ−ザダイオ−ドからなるレ−
ザ光源11とコリメ−トレンズ12,光偏向器13及び
走査レンズ14とを有するファクシミリ等の光書込みユ
ニット10から出射するレ−ザビ−ム15のビ−ム径を
測定する。
【0023】移動装置2は、図4に示すように、センサ
ヘッド1を搭載した移動台21がステッピングモ−タ2
2に連結されたボ−ルねじ軸23にナット24を介して
取り付けられ、ガイドバ−25に沿ってセンサヘッド1
をレ−ザビ−ム15の主走査方向に移動する。
ヘッド1を搭載した移動台21がステッピングモ−タ2
2に連結されたボ−ルねじ軸23にナット24を介して
取り付けられ、ガイドバ−25に沿ってセンサヘッド1
をレ−ザビ−ム15の主走査方向に移動する。
【0024】計測部3はセンサヘッド1から出力信号か
らビ−ム径を演算する。制御部14は、例えばパソコン
からなり、移動装置2を移動制御するとともに、被試験
物である光書込みユニット10の動作も制御する。
らビ−ム径を演算する。制御部14は、例えばパソコン
からなり、移動装置2を移動制御するとともに、被試験
物である光書込みユニット10の動作も制御する。
【0025】上記のように構成されたレ−ザビ−ム径測
定装置の動作を図5のフロ−チャ−トを参照して説明す
る。
定装置の動作を図5のフロ−チャ−トを参照して説明す
る。
【0026】まず、光書込みユニット10を所定の位置
にセットして、光書込みユニット10を作動させる(ス
テップS1)。光書込みユニット10を作動させるとレ
−ザ光源11から発光されたレ−ザビ−ム15はコリメ
−トレンズ12を通り、光偏向器13により走査され、
走査レンズ14を通り仮想感光体面上にセットされたセ
ンサヘッド1に入射する。この状態で計測を開始すると
(ステップS2)、制御部4で移動装置2を駆動し、セ
ンサヘッド1を仮想感光体面上にあらかじめ定められた
ホ−ムポジションへ移動する(ステップS3)。このホ
−ムポジションに初期設定したセンサヘッド1の上をレ
−ザビ−ム15が主走査方向に走査している。走査中の
レ−ザビ−ム15はスリット板8のスリット7を通して
ホトセンサ6を走査し、次に副走査方向に設置されたC
CDセンサ9に入射する。このレ−ザビ−ム15の走査
によりホトセンサ6で主走査方向のレ−ザビ−ム15の
強度変化を測定し、CCDセンサ9で副走査方向の強度
変化を測定する。ホトセンサ6とCCDセンサ9の出力
は計測部3に送られる。計測部3は、図6に示すような
ホトセンサ6の出力信号が送られると、ピ−ク値P0に
対して1/e2の割合のしきい値Pthにより得られる時
間Thと走査の線速から主走査方向のビ−ム径Dhを算出
する。また、引き続いてCCDセンサ9の出力信号が送
られると、同様にして副走査方向のビ−ム径Dvを算出
し、センサヘッド1の位置とともに制御部4のメモリに
格納する(ステップS4)。
にセットして、光書込みユニット10を作動させる(ス
テップS1)。光書込みユニット10を作動させるとレ
−ザ光源11から発光されたレ−ザビ−ム15はコリメ
−トレンズ12を通り、光偏向器13により走査され、
走査レンズ14を通り仮想感光体面上にセットされたセ
ンサヘッド1に入射する。この状態で計測を開始すると
(ステップS2)、制御部4で移動装置2を駆動し、セ
ンサヘッド1を仮想感光体面上にあらかじめ定められた
ホ−ムポジションへ移動する(ステップS3)。このホ
−ムポジションに初期設定したセンサヘッド1の上をレ
−ザビ−ム15が主走査方向に走査している。走査中の
レ−ザビ−ム15はスリット板8のスリット7を通して
ホトセンサ6を走査し、次に副走査方向に設置されたC
CDセンサ9に入射する。このレ−ザビ−ム15の走査
によりホトセンサ6で主走査方向のレ−ザビ−ム15の
強度変化を測定し、CCDセンサ9で副走査方向の強度
変化を測定する。ホトセンサ6とCCDセンサ9の出力
は計測部3に送られる。計測部3は、図6に示すような
ホトセンサ6の出力信号が送られると、ピ−ク値P0に
対して1/e2の割合のしきい値Pthにより得られる時
間Thと走査の線速から主走査方向のビ−ム径Dhを算出
する。また、引き続いてCCDセンサ9の出力信号が送
られると、同様にして副走査方向のビ−ム径Dvを算出
し、センサヘッド1の位置とともに制御部4のメモリに
格納する(ステップS4)。
【0027】初期設定したセンサヘッド1で主走査方向
のビ−ム径Dhと副走査方向のビ−ム径Dvの測定が終了
すると、制御部4は移動装置2によりセンサヘッド1を
あらかじめ設定された一定距離だけ移動する(ステップ
S5)。その後、上記と同様にしてセンサヘッド1で主
走査方向のビ−ム径Dhと副走査方向のビ−ム径Dvを測
定する(ステップS6,S4)。以下、この処理をレ−
ザビ−ム15の主走査方向の全範囲にわたり繰り返す。
主走査方向の全範囲の測定が終了したら、計測を終了し
(ステップS6,S7)、制御部4のメモリに格納した
測定結果をプリンタ5で印字出力する(ステップS
8)。この印字された出力、すなわち測定位置と主走査
方向のビ−ム径Dhと副走査方向のビ−ム径Dvの変化を
確認することにより、光書込みユニット10の走査レン
ズ14等の光学系に内部歪等による不均一があるかどう
かを正確に確認することができる。
のビ−ム径Dhと副走査方向のビ−ム径Dvの測定が終了
すると、制御部4は移動装置2によりセンサヘッド1を
あらかじめ設定された一定距離だけ移動する(ステップ
S5)。その後、上記と同様にしてセンサヘッド1で主
走査方向のビ−ム径Dhと副走査方向のビ−ム径Dvを測
定する(ステップS6,S4)。以下、この処理をレ−
ザビ−ム15の主走査方向の全範囲にわたり繰り返す。
主走査方向の全範囲の測定が終了したら、計測を終了し
(ステップS6,S7)、制御部4のメモリに格納した
測定結果をプリンタ5で印字出力する(ステップS
8)。この印字された出力、すなわち測定位置と主走査
方向のビ−ム径Dhと副走査方向のビ−ム径Dvの変化を
確認することにより、光書込みユニット10の走査レン
ズ14等の光学系に内部歪等による不均一があるかどう
かを正確に確認することができる。
【0028】測定結果を出力した後、試験した光書込み
ユニット10を取り外し(ステップS9)、次ぎの光書
込みユニット10の試験を行なう(ステップS10)。
ユニット10を取り外し(ステップS9)、次ぎの光書
込みユニット10の試験を行なう(ステップS10)。
【0029】なお、上記実施例はビ−ム径を算出するた
めのしきい値Pthをホトセンサ6等の出力信号のピ−ク
値P0に対して一定の割合1/e2で定めた場合について
説明したが、しきい値Pthを任意に可変設定できるよう
にし、異なるしきい値Pthで繰り返してビ−ム径を算出
することにより、外乱等の影響を除去することができ
る。
めのしきい値Pthをホトセンサ6等の出力信号のピ−ク
値P0に対して一定の割合1/e2で定めた場合について
説明したが、しきい値Pthを任意に可変設定できるよう
にし、異なるしきい値Pthで繰り返してビ−ム径を算出
することにより、外乱等の影響を除去することができ
る。
【0030】また、上記実施例は光偏向器13の任意の
面で走査しているレ−ザビ−ム15のビ−ム径を測定し
た場合について説明したが、光偏向器13としてポリゴ
ンミラを使用すると、6周期で同じ面を使って走査する
ため、同期信号を検出することにより走査する面を特定
することができる。そこで特定のミラ−面で走査してい
るときを選択してビ−ム径を測定すると、光偏向器13
のミラ−面の相違を除去することができ、走査レンズ1
4等の均一性をより精度良く測定することができる。
面で走査しているレ−ザビ−ム15のビ−ム径を測定し
た場合について説明したが、光偏向器13としてポリゴ
ンミラを使用すると、6周期で同じ面を使って走査する
ため、同期信号を検出することにより走査する面を特定
することができる。そこで特定のミラ−面で走査してい
るときを選択してビ−ム径を測定すると、光偏向器13
のミラ−面の相違を除去することができ、走査レンズ1
4等の均一性をより精度良く測定することができる。
【0031】さらに、レ−ザ光源11への電力供給や点
灯タイミングを制御部4で可変し、レ−ザ光源11から
出射するレ−ザビ−ムの変調を任意に可変することによ
り、実際の使用に近付けて測定することができる。
灯タイミングを制御部4で可変し、レ−ザ光源11から
出射するレ−ザビ−ムの変調を任意に可変することによ
り、実際の使用に近付けて測定することができる。
【0032】上記実施例はセンサヘッド1に設けたホト
センサ6でレ−ザビ−ム15の主走査方向のビ−ム径を
検出し、CCDセンサ9でレ−ザビ−ム15の副走査方
向のビ−ム径を検出する場合について説明したが、図7
に示すように2次元のCCDセンサ9aによりレ−ザビ
−ム15の主走査方向と副走査方向のビ−ム径を検出す
るようにしても良い。
センサ6でレ−ザビ−ム15の主走査方向のビ−ム径を
検出し、CCDセンサ9でレ−ザビ−ム15の副走査方
向のビ−ム径を検出する場合について説明したが、図7
に示すように2次元のCCDセンサ9aによりレ−ザビ
−ム15の主走査方向と副走査方向のビ−ム径を検出す
るようにしても良い。
【0033】次ぎに、図7に示すようにホトセンサ6と
2次元CCDセンサ9aをセンサヘッド1に設けた場合
の実施例について説明する。
2次元CCDセンサ9aをセンサヘッド1に設けた場合
の実施例について説明する。
【0034】この場合ホトセンサ6は2次元CCDセン
サ9aに対して照射するレ−ザビ−ムの位置を定める位
置基準信号を出力するものであり、図8のブロック図に
示すように、例えばパソコンからなる制御部4に接続さ
れている。このホトセンサ6上にはレ−ザビ−ムの主走
査方向と直交するスリット7を有するスリット板8が設
けられている。
サ9aに対して照射するレ−ザビ−ムの位置を定める位
置基準信号を出力するものであり、図8のブロック図に
示すように、例えばパソコンからなる制御部4に接続さ
れている。このホトセンサ6上にはレ−ザビ−ムの主走
査方向と直交するスリット7を有するスリット板8が設
けられている。
【0035】上記のように構成されたレ−ザビ−ム径測
定装置において、制御部4で移動装置2を駆動し、セン
サヘッド1を仮想感光体面上にあらかじめ定められたホ
−ムポジションへ移動してから光書込みユニット10を
作動する。この光書込みユニット10を作動したとき
に、レ−ザ光源11例えばレ−ザダイオ−ドの点灯タイ
ミングを変える変調信号を制御して、図9の波形図に示
すように、ホトセンサ6にレ−ザビ−ム15を照射す
る。ホトセンサ6はレ−ザビ−ム15が照射されるとス
リット7の幅に応じた時間幅T1の位置基準信号を出力
し制御部4に送る。このホトセンサ6から出力される位
置基準信号の時間幅T1はスリット7の幅をレ−ザビ−
ム15がスキャンする時間で定まるから、スリット7の
幅を精度良く作成することにより、精度の良いよい時間
幅T1の位置基準信号を得ることができる。
定装置において、制御部4で移動装置2を駆動し、セン
サヘッド1を仮想感光体面上にあらかじめ定められたホ
−ムポジションへ移動してから光書込みユニット10を
作動する。この光書込みユニット10を作動したとき
に、レ−ザ光源11例えばレ−ザダイオ−ドの点灯タイ
ミングを変える変調信号を制御して、図9の波形図に示
すように、ホトセンサ6にレ−ザビ−ム15を照射す
る。ホトセンサ6はレ−ザビ−ム15が照射されるとス
リット7の幅に応じた時間幅T1の位置基準信号を出力
し制御部4に送る。このホトセンサ6から出力される位
置基準信号の時間幅T1はスリット7の幅をレ−ザビ−
ム15がスキャンする時間で定まるから、スリット7の
幅を精度良く作成することにより、精度の良いよい時間
幅T1の位置基準信号を得ることができる。
【0036】制御部4は時間幅T1の位置基準信号を受
けるとレ−ザ光源11の点灯をオフにした状態でスキャ
ンする。そして、あらかじめ設定された時間T2だけ経
過してからレ−ザビ−ム形状を測定するためレ−ザ光源
11を時間T3だけ点灯し、2次元CCDセンサ9aに
レ−ザビ−ム15を照射する。この時間T3はどのくら
いのドット数のレ−ザビ−ム形状を測定するかによりあ
らかじめ定められている。
けるとレ−ザ光源11の点灯をオフにした状態でスキャ
ンする。そして、あらかじめ設定された時間T2だけ経
過してからレ−ザビ−ム形状を測定するためレ−ザ光源
11を時間T3だけ点灯し、2次元CCDセンサ9aに
レ−ザビ−ム15を照射する。この時間T3はどのくら
いのドット数のレ−ザビ−ム形状を測定するかによりあ
らかじめ定められている。
【0037】計測部4は2次元CCDセンサ9aにレ−
ザビ−ム15が照射されると、2次元CCDセンサ9a
の各ビットに蓄積されたエネルギをビット毎に読み取
り、図10に示すように主走査方向のビ−ム径Dhに応
じた出力信号Shと、副走査方向のビ−ム径Dvに応じ
た出力信号Svを制御部4に送る。制御部4は送られた
信号Sh,Svの強度分布を合成し、図11に示すよう
に、Z軸方向に光パワ−をとった3次元の光強度分布を
作成して制御部4の表示部に表示し、プリンタ5で記録
する。この3次元の光強度分布を確認することにより、
主走査方向のビ−ム径Dhと副走査方向のビ−ム径Dv
を得ることができるとともに、光書込みユニット10の
走査レンズ14等の光学系に内部歪等による不均一があ
るかどうかも正確に確認することができる。
ザビ−ム15が照射されると、2次元CCDセンサ9a
の各ビットに蓄積されたエネルギをビット毎に読み取
り、図10に示すように主走査方向のビ−ム径Dhに応
じた出力信号Shと、副走査方向のビ−ム径Dvに応じ
た出力信号Svを制御部4に送る。制御部4は送られた
信号Sh,Svの強度分布を合成し、図11に示すよう
に、Z軸方向に光パワ−をとった3次元の光強度分布を
作成して制御部4の表示部に表示し、プリンタ5で記録
する。この3次元の光強度分布を確認することにより、
主走査方向のビ−ム径Dhと副走査方向のビ−ム径Dv
を得ることができるとともに、光書込みユニット10の
走査レンズ14等の光学系に内部歪等による不均一があ
るかどうかも正確に確認することができる。
【0038】なお、上記例では2次元CCDセンサ9a
の1点だけにレ−ザビ−ム15を照射した場合についた
説明したが、レ−ザ光源11の変調信号を変えて2次元
CCDセンサ9aの有効範囲であれば主走査方向,副走
査方向の複数点にレ−ザビ−ム15を照射しても良い。
例えば主走査方向の近接する2点にレ−ザビ−ム15を
照射すると、図12に示すように近接した2点に光パワ
−のピ−クを有するな3次元の光強度分布を得ることが
でき、実際の書き込みに応じた測定を行なうことができ
るとともに、光書込みユニット10の光学系の各位置間
の相関関係を確認することができる。
の1点だけにレ−ザビ−ム15を照射した場合についた
説明したが、レ−ザ光源11の変調信号を変えて2次元
CCDセンサ9aの有効範囲であれば主走査方向,副走
査方向の複数点にレ−ザビ−ム15を照射しても良い。
例えば主走査方向の近接する2点にレ−ザビ−ム15を
照射すると、図12に示すように近接した2点に光パワ
−のピ−クを有するな3次元の光強度分布を得ることが
でき、実際の書き込みに応じた測定を行なうことができ
るとともに、光書込みユニット10の光学系の各位置間
の相関関係を確認することができる。
【0039】また、位置基準信号が出力されてから2次
元CCDセンサ9aにレ−ザビ−ム15を照射するまで
の時間T2を任意に可変して設定することにより、2次
元CCDセンサ9aの任意の位置にレ−ザビ−ム15を
照射することができる。この任意の位置で検出した光強
度分布を確認することにより、光書込みユニット10の
光学系に付着したごみや傷、反射光のフレア等による不
具合も見出すことができる。
元CCDセンサ9aにレ−ザビ−ム15を照射するまで
の時間T2を任意に可変して設定することにより、2次
元CCDセンサ9aの任意の位置にレ−ザビ−ム15を
照射することができる。この任意の位置で検出した光強
度分布を確認することにより、光書込みユニット10の
光学系に付着したごみや傷、反射光のフレア等による不
具合も見出すことができる。
【0040】
【発明の効果】この発明は以上説明したように、センサ
ヘッドをレ−ザビ−ムの主走査方向に移動しながら、主
走査方向の任意の位置でレ−ザビ−ムのビ−ム径を測定
するから、レ−ザ光学系に使用するプラスチックレンズ
等の傷や内部歪みなどによる不均一性があるかどうかを
明確にすることができる。
ヘッドをレ−ザビ−ムの主走査方向に移動しながら、主
走査方向の任意の位置でレ−ザビ−ムのビ−ム径を測定
するから、レ−ザ光学系に使用するプラスチックレンズ
等の傷や内部歪みなどによる不均一性があるかどうかを
明確にすることができる。
【0041】このビ−ム径を測定するときに主走査方向
ビ−ム径検出部と副走査方向ビ−ム径検出部で互いに直
交する方向のビ−ム径を測定するから、ビ−ム形状を正
確に測定することができる。
ビ−ム径検出部と副走査方向ビ−ム径検出部で互いに直
交する方向のビ−ム径を測定するから、ビ−ム形状を正
確に測定することができる。
【0042】また、検出したレ−ザビ−ムの強度分布パ
タ−ンからビ−ム径を算出するしきい値を任意に可変設
定することにより、外乱等の影響を除去することができ
る。
タ−ンからビ−ム径を算出するしきい値を任意に可変設
定することにより、外乱等の影響を除去することができ
る。
【0043】さらに、光偏向器の特定のミラ−面を選択
してビ−ム径を測定することにより、測定精度を高める
ことができる。
してビ−ム径を測定することにより、測定精度を高める
ことができる。
【0044】また、レ−ザ光学系のレ−ザ光の変調を任
意に可変することにより、実際の使用に近づけて測定す
ることができる。
意に可変することにより、実際の使用に近づけて測定す
ることができる。
【0045】また、第2の発明は主走査方向と副走査方
向のビ−ム径を検出する2次元ビ−ム径検出部に対して
照射するレ−ザビ−ムの位置をホトセンサから出力する
位置基準信号を基準にして位置決めするから、検出する
レ−ザビ−ムの位置を正確に位置決めすることができ
る。
向のビ−ム径を検出する2次元ビ−ム径検出部に対して
照射するレ−ザビ−ムの位置をホトセンサから出力する
位置基準信号を基準にして位置決めするから、検出する
レ−ザビ−ムの位置を正確に位置決めすることができ
る。
【0046】さらに、ホトセンサから出力する位置基準
信号から2次元ビ−ム径検出部にレ−ザビ−ムを照射す
るまでの時間を任意に可変することにより、検出するレ
−ザビ−ムの位置を任意に変えることができ、レ−ザ光
学系に使用するレンズ等の傷や内部歪みなどによる不均
一性を明確にすることができる。
信号から2次元ビ−ム径検出部にレ−ザビ−ムを照射す
るまでの時間を任意に可変することにより、検出するレ
−ザビ−ムの位置を任意に変えることができ、レ−ザ光
学系に使用するレンズ等の傷や内部歪みなどによる不均
一性を明確にすることができる。
【図1】この発明の実施例を示すブロック図である。
【図2】センサヘッドを示す斜視図である。
【図3】計測システムの配置図である。
【図4】移動装置の構成図である。
【図5】上記実施例の動作を示すフロ−チャ−トであ
る。
る。
【図6】上記実施例のホトセンサの出力特性図である。
【図7】第2の実施例のセンサヘッドを示す斜視図であ
る。
る。
【図8】第2の実施例のブロック図である。
【図9】第2の実施例の動作を示す波形図である。
【図10】2次元CCDセンサの出力デ−タを示す説明
図である。
図である。
【図11】3次元の光強度分布特性図である。
【図12】3次元の光強度分布特性図である。
1 センサヘッド 2 移動装置 3 計測部 4 制御部 5 プリンタ 6 ホトセンサ 8 スリット板 9 CCDセンサ 9a 2次元CCDセンサ 10 光書込みユニット
Claims (8)
- 【請求項1】 光偏向器と走査レンズとを有するレ−ザ
光学系からのレ−ザビ−ムを測定するレ−ザビ−ム径測
定装置において、主走査方向ビ−ム径検出部と副走査方
向ビ−ム径検出部を有するセンサヘッドと、センサヘッ
ドをレ−ザビ−ムの主走査方向に移動する移動装置とを
備えたことを特徴とするレ−ザビ−ム径測定装置。 - 【請求項2】 主走査方向ビ−ム径検出部がホトセンサ
とホトセンサ上に設けられレ−ザビ−ムの主走査方向と
直交するスリットを有するスリット板からなり、副走査
方向ビ−ム径検出部はホトセンサに近接してスリットと
同一方向に配置されたCCDセンサである請求項1記載
のレ−ザビ−ム径測定装置。 - 【請求項3】 検出したレ−ザビ−ムの強度分布パタ−
ンからビ−ム径を算出するしきい値を任意に可変設定す
る請求項1又は2記載のレ−ザビ−ム径測定装置。 - 【請求項4】 光偏向器の特定のミラ−面を選択してビ
−ム径を測定する請求項1,2又は3記載のレ−ザビ−
ム径測定装置。 - 【請求項5】 レ−ザ光学系におけるレ−ザ光の変調を
任意に可変する請求項1,2,3又は4記載のレ−ザビ
−ム径測定装置。 - 【請求項6】 光偏向器と走査レンズとを有するレ−ザ
光学系からのレ−ザビ−ムを測定するレ−ザビ−ム径測
定装置において、主走査方向と副走査方向のビ−ム径を
検出するビ−ム径検出部と、ビ−ム径検出部に対してレ
−ザビ−ムの主走査方向の前方に設置され、ビ−ム径検
出部に照射するレ−ザビ−ムの位置を定める位置基準信
号を送り出すホトセンサとを有するセンサヘッドと、セ
ンサヘッドをレ−ザビ−ムの主走査方向に移動する移動
装置とを備えたことを特徴とするレ−ザビ−ム径測定装
置。 - 【請求項7】 ホトセンサの上部にレ−ザビ−ムの主走
査方向と直交するスリットを設けた請求項6記載のレ−
ザビ−ム径測定装置。 - 【請求項8】 レ−ザ光学系におけるレ−ザ光の変調を
任意に可変する請求項6又は7記載のレ−ザビ−ム径測
定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4273559A JPH06102087A (ja) | 1992-08-03 | 1992-09-18 | レ−ザビ−ム径測定装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22457092 | 1992-08-03 | ||
JP4-224570 | 1992-08-03 | ||
JP4273559A JPH06102087A (ja) | 1992-08-03 | 1992-09-18 | レ−ザビ−ム径測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06102087A true JPH06102087A (ja) | 1994-04-12 |
Family
ID=26526129
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4273559A Pending JPH06102087A (ja) | 1992-08-03 | 1992-09-18 | レ−ザビ−ム径測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06102087A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6243124B1 (en) | 1997-06-25 | 2001-06-05 | Ricoh Company, Ltd. | Method of evaluating characteristics of a light beam, apparatus for evaluating the characteristics, and apparatus for adjusting a write unit by employing the evaluation method |
JP2007033364A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Alt Kk | 走査レーザビーム径測定装置 |
CN100350329C (zh) * | 1998-06-23 | 2007-11-21 | 株式会社理光 | 光束特性评价装置 |
CN100388127C (zh) * | 1998-06-23 | 2008-05-14 | 株式会社理光 | 采用光束特性评价方法的写入单元调整装置 |
US7381034B2 (en) | 2002-12-26 | 2008-06-03 | Sony Corporation | Hydrodynamic pressure bearing pump with a shaft and a bearing having hydrodynamic pressure generating grooves |
JP2013064639A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Canon Inc | ビーム走査検査装置およびビーム走査検査方法 |
-
1992
- 1992-09-18 JP JP4273559A patent/JPH06102087A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6243124B1 (en) | 1997-06-25 | 2001-06-05 | Ricoh Company, Ltd. | Method of evaluating characteristics of a light beam, apparatus for evaluating the characteristics, and apparatus for adjusting a write unit by employing the evaluation method |
US6268876B1 (en) | 1997-06-25 | 2001-07-31 | Ricoh Company, Ltd. | Method of evaluating characteristics of a light beam apparatus for evaluating the characteristics and apparatus for adjusting a write unit by employing the evaluation method |
US6275249B1 (en) | 1997-06-25 | 2001-08-14 | Ricoh Company, Ltd. | Method of evaluating characteristics of a light beam, apparatus for evaluating the characteristics, and apparatus for adjusting a write unit by employing the evaluation method |
US6353455B1 (en) | 1997-06-25 | 2002-03-05 | Ricoh Company, Ltd. | Method of evaluating characteristics of a light beam, apparatus for evaluating the characteristics, and apparatus for adjusting a write unit by employing the evaluating method |
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CN100388127C (zh) * | 1998-06-23 | 2008-05-14 | 株式会社理光 | 采用光束特性评价方法的写入单元调整装置 |
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JP2013064639A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Canon Inc | ビーム走査検査装置およびビーム走査検査方法 |
US9420119B2 (en) | 2011-09-16 | 2016-08-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for inspecting scanning beam of scanning optical system |
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