JPH0588703A - 制御装置 - Google Patents
制御装置Info
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- JPH0588703A JPH0588703A JP25062091A JP25062091A JPH0588703A JP H0588703 A JPH0588703 A JP H0588703A JP 25062091 A JP25062091 A JP 25062091A JP 25062091 A JP25062091 A JP 25062091A JP H0588703 A JPH0588703 A JP H0588703A
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- control
- tube
- tube voltage
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 制御対象からのフィードバック値と目標値の
偏差ならびに制御対象からのフィードバック値のオーバ
ーシュートや振動をおさえて、最短時間で整定すること
のできる制御装置を提供することを目的とする。 【構成】 制御対象14からのフィードバック値ＰＶが所
定値αに達するまでは、積分要素12により操作量指令値
ＭＶを演算して出力し、制御対象14を操作する。オーバ
ーシュートを防ぎ整定時間の短縮を計る。制御対象14か
らのフィードバック値ＰＶが所定値αに達した後は、積
分要素12と比例要素15と微分要素16の組み合わせにより
操作量指令値ＭＶを演算して出力し、制御対象14を操作
する。
偏差ならびに制御対象からのフィードバック値のオーバ
ーシュートや振動をおさえて、最短時間で整定すること
のできる制御装置を提供することを目的とする。 【構成】 制御対象14からのフィードバック値ＰＶが所
定値αに達するまでは、積分要素12により操作量指令値
ＭＶを演算して出力し、制御対象14を操作する。オーバ
ーシュートを防ぎ整定時間の短縮を計る。制御対象14か
らのフィードバック値ＰＶが所定値αに達した後は、積
分要素12と比例要素15と微分要素16の組み合わせにより
操作量指令値ＭＶを演算して出力し、制御対象14を操作
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は制御対象のプロセス変数
を取り込み、目標となる値と比較して両者が一致するよ
うに制御を行うプロセス制御装置に関する。
を取り込み、目標となる値と比較して両者が一致するよ
うに制御を行うプロセス制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、制御対象を目標値に制御する方法
は種々ある。ここではＸ線発生制御装置において、Ｘ線
管の陽極と陰極間に加える管電圧とＸ線管のフィラメン
トに流れる電流を制御対象プロセスとした場合について
説明する。
は種々ある。ここではＸ線発生制御装置において、Ｘ線
管の陽極と陰極間に加える管電圧とＸ線管のフィラメン
トに流れる電流を制御対象プロセスとした場合について
説明する。
【０００３】図６は従来のＸ線発生装置の構成を示すも
ので、管電圧設定器１により所望の管電圧（Ｘ線管６の
陽極と陰極間の電圧）が設定され、管電圧制御部２は一
次管電圧発生部３を制御する。１次管電圧発生部３は昇
圧・整流部４に電力を供給し、昇圧・整流部４はその電
力をＸ線管６が必要とする管電圧に変換する。管電圧分
圧部５はそのＸ線管６に印加された管電圧を分圧し、管
電圧制御部２に実管電圧値としてフィードバックされ
る。管電圧制御部２はそのフィードバックされた実管電
圧が管電圧設定器１により設定された所望の値になるま
で１次管電圧発生部３を制御する。この結果Ｘ線管６に
は所望の管電圧が印加される。図７（ａ）はこの制御対
象プロセスのオープンループ特性を示すものである。こ
のような従来のＸ線発生装置における管電圧制御方法で
は以下の３つの問題点が生じる。
ので、管電圧設定器１により所望の管電圧（Ｘ線管６の
陽極と陰極間の電圧）が設定され、管電圧制御部２は一
次管電圧発生部３を制御する。１次管電圧発生部３は昇
圧・整流部４に電力を供給し、昇圧・整流部４はその電
力をＸ線管６が必要とする管電圧に変換する。管電圧分
圧部５はそのＸ線管６に印加された管電圧を分圧し、管
電圧制御部２に実管電圧値としてフィードバックされ
る。管電圧制御部２はそのフィードバックされた実管電
圧が管電圧設定器１により設定された所望の値になるま
で１次管電圧発生部３を制御する。この結果Ｘ線管６に
は所望の管電圧が印加される。図７（ａ）はこの制御対
象プロセスのオープンループ特性を示すものである。こ
のような従来のＸ線発生装置における管電圧制御方法で
は以下の３つの問題点が生じる。
【０００４】第１の問題は管電圧の設定値と実測値が完
全に一致するまで制御されずに偏差が残ることである。
そのため管電圧の誤差によりＸ線フィルム撮影の露出時
間や被検査物へのＸ線照射線量管理の点で大きな問題点
となる。
全に一致するまで制御されずに偏差が残ることである。
そのため管電圧の誤差によりＸ線フィルム撮影の露出時
間や被検査物へのＸ線照射線量管理の点で大きな問題点
となる。
【０００５】第２の問題はオーバーシュートや振動を伴
いながら最終値に整定することである。それによってオ
ーバーシュートがＸ線管の放電の原因となりやすくＸ線
管を短命化しやすいという点で問題点となる。
いながら最終値に整定することである。それによってオ
ーバーシュートがＸ線管の放電の原因となりやすくＸ線
管を短命化しやすいという点で問題点となる。
【０００６】第３の問題は制御系の応答が遅いため整定
までに時間がかかるということである。Ｘ線フィルム撮
影の露出時間や被検査物へのＸ線照射線量管理並びに管
電圧設定値と変化させた場合の無駄時間増大という問題
点となる。
までに時間がかかるということである。Ｘ線フィルム撮
影の露出時間や被検査物へのＸ線照射線量管理並びに管
電圧設定値と変化させた場合の無駄時間増大という問題
点となる。
【０００７】またＸ線管の陽極から陰極へ流す管電流を
制御する場合において、管電流は管電流設定部７から所
望の値が設定され、管電流制御部８は、フィラメント駆
動部９を制御し、フィラメント駆動部９は変圧部10にＸ
線管６内のフィラメントを点灯するための電力を供給
し、フィラメントの加熱状態によりＸ線管６の管電流が
決まる。管電流の実測値は管電流制御部８にフィードバ
ックされ、管電流制御部８はこのフィードバックされた
管電流の実測値が所望の値に等しくなる様に制御する。
制御する場合において、管電流は管電流設定部７から所
望の値が設定され、管電流制御部８は、フィラメント駆
動部９を制御し、フィラメント駆動部９は変圧部10にＸ
線管６内のフィラメントを点灯するための電力を供給
し、フィラメントの加熱状態によりＸ線管６の管電流が
決まる。管電流の実測値は管電流制御部８にフィードバ
ックされ、管電流制御部８はこのフィードバックされた
管電流の実測値が所望の値に等しくなる様に制御する。
【０００８】しかし管電流の設定値と実測値も図７
（ｂ）に示す制御対象プロセスのオープンループ特性
は、設定値と実測値の間に偏差が残ったり、オーバーシ
ュートや振動を発生したりするという問題点が生じる。
（ｂ）に示す制御対象プロセスのオープンループ特性
は、設定値と実測値の間に偏差が残ったり、オーバーシ
ュートや振動を発生したりするという問題点が生じる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】以上に述べた様に、制
御対象プロセスはフィードバック値（プロセス変数）と
目標値のずれを生じるということ、対象プロセスが振動
を起こし易く、またオーバーシュートを起こし易いこ
と、また無駄時間が長いプロセスで整定するまでに時間
がかかるという特性のために装置自身にダメージを与え
る問題点がある。
御対象プロセスはフィードバック値（プロセス変数）と
目標値のずれを生じるということ、対象プロセスが振動
を起こし易く、またオーバーシュートを起こし易いこ
と、また無駄時間が長いプロセスで整定するまでに時間
がかかるという特性のために装置自身にダメージを与え
る問題点がある。
【００１０】これらの問題は従来より使用されている管
電圧および管電流の制御部が電子回路で構成され、その
ゲイン不足、オフセット成分およびそれらの時間や温度
に依存する変動等に起因しており、これらはアナログ電
子回路には避けがたい問題点である。
電圧および管電流の制御部が電子回路で構成され、その
ゲイン不足、オフセット成分およびそれらの時間や温度
に依存する変動等に起因しており、これらはアナログ電
子回路には避けがたい問題点である。
【００１１】そこで、本発明の目的は、制御対象プロセ
スのプロセス変数と目標値の偏差、並びに対象プロセス
のオーバーシュートや振動をおさえて最短時間で整定す
ることのできる制御装置を提供するものである。
スのプロセス変数と目標値の偏差、並びに対象プロセス
のオーバーシュートや振動をおさえて最短時間で整定す
ることのできる制御装置を提供するものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段および作用】制御対象プロ
セスのプロセス変数（フィードバック値）と目標値であ
る操作量指令値の偏差を解消するためにＰＩＤ制御を用
いる。ただし、本制御対象が無駄時間が長いプロセスで
整定するまでに時間がかかること、並びにオーバーシュ
ートや振動と起こす可能性があるという特性を持つので
以下に示す制御装置により制御する。
セスのプロセス変数（フィードバック値）と目標値であ
る操作量指令値の偏差を解消するためにＰＩＤ制御を用
いる。ただし、本制御対象が無駄時間が長いプロセスで
整定するまでに時間がかかること、並びにオーバーシュ
ートや振動と起こす可能性があるという特性を持つので
以下に示す制御装置により制御する。
【００１３】図１に示すように制御対象14からのフィー
ドバック値が所定値αに達して出力した操作量指令値に
対して確度の高いフィードバックが戻る時点まで（すな
わち｜ＰＶ−ＳＶ｜＞αの場合、ＰＶ＝フィードバック
値、ＳＶ＝目標（設定）値）比例ゲインＫｐ＝０として
積分要素のみによる制御を行いオーバーシュートを防ぎ
整定時間短縮をはかる。ただし制御対象によっては最大
操作量変化値を制限する制限フィルタ13を設けてオーバ
ーシュートを防ぐ。（式（１）参照）
ドバック値が所定値αに達して出力した操作量指令値に
対して確度の高いフィードバックが戻る時点まで（すな
わち｜ＰＶ−ＳＶ｜＞αの場合、ＰＶ＝フィードバック
値、ＳＶ＝目標（設定）値）比例ゲインＫｐ＝０として
積分要素のみによる制御を行いオーバーシュートを防ぎ
整定時間短縮をはかる。ただし制御対象によっては最大
操作量変化値を制限する制限フィルタ13を設けてオーバ
ーシュートを防ぐ。（式（１）参照）
【００１４】次にフィードバック値ＰＶある所定値に達
したら（すなわち、｜ＰＶ−ＳＶ｜≦αの場合）比例ゲ
インＫｐ≠０として比例要素15と積分要素12により制御
を行い、目標値ＳＶへ整定させる。微分要素をきかせる
場合はフィードバック値ＰＶの変化に対してのみきく不
完全微分としてオーバーシュートを防ぐ。この時系の応
答が遅い場合、微分要素16は省略する。（式（２）参
照） 以上の動作を式で表わすと次のようになる。 ただし、｜ΔＭＶ｜＞max ΔＭＶの時は ΔＭＶ＝（ＳＩＧ・ΔＭＶ）・max ΔＭＶ ＳＶ＝目標（設定）値 ΔＭＶ＝操作量の変化量 ＰＶ＝フィードバック値 ｅn ＝ｎ回目の偏差（フィードバック値と設定値の差） Ｋｐ＝比例ゲイン ＴI ＝積分定数 τ＝制御周期
したら（すなわち、｜ＰＶ−ＳＶ｜≦αの場合）比例ゲ
インＫｐ≠０として比例要素15と積分要素12により制御
を行い、目標値ＳＶへ整定させる。微分要素をきかせる
場合はフィードバック値ＰＶの変化に対してのみきく不
完全微分としてオーバーシュートを防ぐ。この時系の応
答が遅い場合、微分要素16は省略する。（式（２）参
照） 以上の動作を式で表わすと次のようになる。 ただし、｜ΔＭＶ｜＞max ΔＭＶの時は ΔＭＶ＝（ＳＩＧ・ΔＭＶ）・max ΔＭＶ ＳＶ＝目標（設定）値 ΔＭＶ＝操作量の変化量 ＰＶ＝フィードバック値 ｅn ＝ｎ回目の偏差（フィードバック値と設定値の差） Ｋｐ＝比例ゲイン ＴI ＝積分定数 τ＝制御周期
【００１５】図２にフィードバック値ＰＶが所定値以下
の場合のみＫｐ＝０としたＰＩ制御と常にＫｐ≠０とし
た通常の系との操作量の様子を示す。図からＫｐ＝０と
した場合はオーバーシュートがあり無駄時間の長いプロ
セスには本制御方式が有効であることが分かる。
の場合のみＫｐ＝０としたＰＩ制御と常にＫｐ≠０とし
た通常の系との操作量の様子を示す。図からＫｐ＝０と
した場合はオーバーシュートがあり無駄時間の長いプロ
セスには本制御方式が有効であることが分かる。
【００１６】
【実施例】本発明による実施例を図面によって説明す
る。
る。
【００１７】図３において、所望の管電圧を設定する管
電圧設定部17とデジタル演算を行うためのマイクロプロ
セッサ18とマイクロプロセッサ18のデジタル値出力をＤ
／Ａ変換器19を介してアナログの管電圧制御部20へ入力
し、この管電圧制御部20からの出力を１次管電圧発生部
21、昇圧・整流部21、Ｘ線管23を介して管電圧分圧部24
へ入力する。この管電圧分圧部24からの管電圧フィード
バック実測値をＡ／Ｄ変換器25を介してマイクロプロセ
ッサ18へ入力する。
電圧設定部17とデジタル演算を行うためのマイクロプロ
セッサ18とマイクロプロセッサ18のデジタル値出力をＤ
／Ａ変換器19を介してアナログの管電圧制御部20へ入力
し、この管電圧制御部20からの出力を１次管電圧発生部
21、昇圧・整流部21、Ｘ線管23を介して管電圧分圧部24
へ入力する。この管電圧分圧部24からの管電圧フィード
バック実測値をＡ／Ｄ変換器25を介してマイクロプロセ
ッサ18へ入力する。
【００１８】所望の管電流を設定するための管電流設定
部26とマイクロプロセッサ18のデジタル出力値をＤ／Ａ
変換器27を介して管電流制御部28に出力する。管電流制
御部28の出力値はフィラメント駆動部29へ入力され、フ
ィラメント駆動部29の出力は変圧部30へ出力される。Ｘ
線管23からの管電流フィードバック実測値をマイクロプ
ロセッサ18へ入力するためのＡ／Ｄ変換器31とから構成
される。
部26とマイクロプロセッサ18のデジタル出力値をＤ／Ａ
変換器27を介して管電流制御部28に出力する。管電流制
御部28の出力値はフィラメント駆動部29へ入力され、フ
ィラメント駆動部29の出力は変圧部30へ出力される。Ｘ
線管23からの管電流フィードバック実測値をマイクロプ
ロセッサ18へ入力するためのＡ／Ｄ変換器31とから構成
される。
【００１９】管電圧設定器17に所望の管電圧が、管電流
設定部26に所望の管電流が設定され図示しない手段によ
りＸ線がＯＮされるとマイクロプロセッサ18はＤ／Ａ変
換器27に予め決められた一定の値を出力し、Ｄ／Ａ変換
されたアナログ値が管電流制御部28へ送られ、フィラメ
ント駆動部29はフィラメントを点灯するための交流電力
を変圧部30に供給する。変圧部30はＸ線管23の高い管電
圧からフィラメント駆動部29以下を電気的にアイソレー
トしている。変圧部30を通して供給されたフィラメント
点灯電力によりＸ線管23内のフィラメントが点灯し、予
備加熱される。予備加熱開始５秒後に図示しないＲＯＭ
（リード・オンリイ・メモリ）に記憶された所定の手続
きによりマイクロプロセッサ18はＤ／Ａ変換器27に管電
力操作量を出力し、Ｄ／Ａ変換器19には同様の手続きに
より管電圧操作量を出力する。Ｄ／Ａ変換器19によりア
ナログ値に変換された管電圧基準値は管電圧制御部20に
送られ、管電圧制御部管20は１次管電圧発生部21を制御
して管電圧操作量に相当する管電圧が発生する様に１次
管電圧発生部21から昇圧・整流部22は供給される。昇圧
・整流部22は供給された交流電圧を昇圧し、整流し、Ｘ
線管23に印加する。この瞬間から管電流が流れ始める。
設定部26に所望の管電流が設定され図示しない手段によ
りＸ線がＯＮされるとマイクロプロセッサ18はＤ／Ａ変
換器27に予め決められた一定の値を出力し、Ｄ／Ａ変換
されたアナログ値が管電流制御部28へ送られ、フィラメ
ント駆動部29はフィラメントを点灯するための交流電力
を変圧部30に供給する。変圧部30はＸ線管23の高い管電
圧からフィラメント駆動部29以下を電気的にアイソレー
トしている。変圧部30を通して供給されたフィラメント
点灯電力によりＸ線管23内のフィラメントが点灯し、予
備加熱される。予備加熱開始５秒後に図示しないＲＯＭ
（リード・オンリイ・メモリ）に記憶された所定の手続
きによりマイクロプロセッサ18はＤ／Ａ変換器27に管電
力操作量を出力し、Ｄ／Ａ変換器19には同様の手続きに
より管電圧操作量を出力する。Ｄ／Ａ変換器19によりア
ナログ値に変換された管電圧基準値は管電圧制御部20に
送られ、管電圧制御部管20は１次管電圧発生部21を制御
して管電圧操作量に相当する管電圧が発生する様に１次
管電圧発生部21から昇圧・整流部22は供給される。昇圧
・整流部22は供給された交流電圧を昇圧し、整流し、Ｘ
線管23に印加する。この瞬間から管電流が流れ始める。
【００２０】Ｘ線管に実際に印加されている管電圧は10
〜200 ＫＶ程度ときわめて高い電圧であるから抵抗分圧
器によって構成される管電圧分圧部24により管電圧に比
例する低い電圧に変換されて管電圧制御部20とＡ／Ｄ変
換器25へフィードバックされる。管電圧制御部20は電子
回路からなるリアルタイム連続制御系であり管電圧フィ
ードバック値が管電圧操作量に等しくなる様に１次管電
圧発生部21を制御する。
〜200 ＫＶ程度ときわめて高い電圧であるから抵抗分圧
器によって構成される管電圧分圧部24により管電圧に比
例する低い電圧に変換されて管電圧制御部20とＡ／Ｄ変
換器25へフィードバックされる。管電圧制御部20は電子
回路からなるリアルタイム連続制御系であり管電圧フィ
ードバック値が管電圧操作量に等しくなる様に１次管電
圧発生部21を制御する。
【００２１】またＡ／Ｄ変換器25は管電圧フィードバッ
ク実測値をデジタル信号に変換し、マイクロプロセッサ
18に入力する。実際の管電圧が管電圧基準値に相当する
値まで上昇するには時間がかかるためこの時点では管電
圧フィードバック実測値は、管電圧基準値に達していな
いのでマイクロプロセッサ18は図示しないＲＯＭ（リー
ド・オンリイ・メモリ）に記憶された所定の手続きによ
り管電圧操作量を変化させる。管電圧・管電流の制御は
以上に述べたマイクロプロセッサ18が管電圧・管電流の
操作量を出力してから、管電圧・管電流フィードバック
実測値がマイクロプロセッサ18に入力されるまでのシー
ケンスを繰り返して管電圧・管電流フィードバック実測
値が管電圧・管電流設定値にオーバーシュートや発振等
を伴わずに最短時間で一致する様にマイクロプロセッサ
18は管電圧・管電流操作量一定周期で変化させる。
ク実測値をデジタル信号に変換し、マイクロプロセッサ
18に入力する。実際の管電圧が管電圧基準値に相当する
値まで上昇するには時間がかかるためこの時点では管電
圧フィードバック実測値は、管電圧基準値に達していな
いのでマイクロプロセッサ18は図示しないＲＯＭ（リー
ド・オンリイ・メモリ）に記憶された所定の手続きによ
り管電圧操作量を変化させる。管電圧・管電流の制御は
以上に述べたマイクロプロセッサ18が管電圧・管電流の
操作量を出力してから、管電圧・管電流フィードバック
実測値がマイクロプロセッサ18に入力されるまでのシー
ケンスを繰り返して管電圧・管電流フィードバック実測
値が管電圧・管電流設定値にオーバーシュートや発振等
を伴わずに最短時間で一致する様にマイクロプロセッサ
18は管電圧・管電流操作量一定周期で変化させる。
【００２２】マイクロプロセッサ18は図４に示すように
構成されている。管電圧制御の場合について説明する。
制御対象プロセスのフィードバック値（図中のＰＶ）を
取り込み、外部設定器である管電圧設定部17で設定され
た目標値（図中のＳＶ）を読みとり、その両者が一致す
る様に演算（ＰＩＤ制御）を行い、行った結果を制御対
象へＤ／Ａ変換器19を介して出力する。上記働きをする
マイクロプロセッサ18の演算部（ＰＩＤ制御方法）につ
いては以下の通りに働く。
構成されている。管電圧制御の場合について説明する。
制御対象プロセスのフィードバック値（図中のＰＶ）を
取り込み、外部設定器である管電圧設定部17で設定され
た目標値（図中のＳＶ）を読みとり、その両者が一致す
る様に演算（ＰＩＤ制御）を行い、行った結果を制御対
象へＤ／Ａ変換器19を介して出力する。上記働きをする
マイクロプロセッサ18の演算部（ＰＩＤ制御方法）につ
いては以下の通りに働く。
【００２３】プロセスのフィードバック値が任意の値に
達するまで（確度の高いフィードバックがかえってくる
まで）は積分器121 のみで制御を行う。ただし、ここで
一回に動かす量または一回に出力する値の制限を設けて
（制限フィルタ131 ）それ以上の値が制御対象に出力さ
れない様にする。
達するまで（確度の高いフィードバックがかえってくる
まで）は積分器121 のみで制御を行う。ただし、ここで
一回に動かす量または一回に出力する値の制限を設けて
（制限フィルタ131 ）それ以上の値が制御対象に出力さ
れない様にする。
【００２４】プロセスのフィードバック値が任意の値に
達したら（確度の高いフィードバックがかえってきた
ら）比例器151 、積分器121 、微分器161 により制御を
行う。この時も制限フィルタ131 をかける。
達したら（確度の高いフィードバックがかえってきた
ら）比例器151 、積分器121 、微分器161 により制御を
行う。この時も制限フィルタ131 をかける。
【００２５】また、管電圧制御も同様な方法で行う。こ
の様な制御を行うことによりオーバーシュート・ハンチ
ングがおこらない様に目標値とフィードバック値の偏差
をなくすことが期待できる。
の様な制御を行うことによりオーバーシュート・ハンチ
ングがおこらない様に目標値とフィードバック値の偏差
をなくすことが期待できる。
【００２６】このマイクロプロセッサ18が行う所定の手
続きとして以上述べたような制御改善ＰＩＤ制御を行う
ことで図７（ａ）に示した特性を制御対象系が図５に示
す特性となり、オーバーシュートや振動を起こすことな
く最短時間で整定される様に改善される。
続きとして以上述べたような制御改善ＰＩＤ制御を行う
ことで図７（ａ）に示した特性を制御対象系が図５に示
す特性となり、オーバーシュートや振動を起こすことな
く最短時間で整定される様に改善される。
【００２７】このように、アナログ制御系だけでは避け
られないゲイン不足、オフセットおよびその変動、オー
バーシュートやアンダーシュート、発振やリンギング等
の諸問題を回避し、最短時間で管電圧・管電流とも整定
するため正確で安定度の高い管電圧および管電流が得ら
れる。経時変動や過度変動に対しても安定である。した
がってＸ線照射量の再現性、精度、安定度に優れ、Ｘ線
管や高電圧部にもダメージを与えない。アナログ制御系
だけではその回路の調整が個々の装置に対して必要とな
るが、本発明によれば常時補正が行われるので個々の調
整は不要である。なお本発明は上記実施例に限定するも
のではなく、制御対象プロセスとしてはＸ線発生制御装
置のみに限らないことは言うまでもない。
られないゲイン不足、オフセットおよびその変動、オー
バーシュートやアンダーシュート、発振やリンギング等
の諸問題を回避し、最短時間で管電圧・管電流とも整定
するため正確で安定度の高い管電圧および管電流が得ら
れる。経時変動や過度変動に対しても安定である。した
がってＸ線照射量の再現性、精度、安定度に優れ、Ｘ線
管や高電圧部にもダメージを与えない。アナログ制御系
だけではその回路の調整が個々の装置に対して必要とな
るが、本発明によれば常時補正が行われるので個々の調
整は不要である。なお本発明は上記実施例に限定するも
のではなく、制御対象プロセスとしてはＸ線発生制御装
置のみに限らないことは言うまでもない。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、無駄時間の長いプロセ
スで整定するまでに時間がかかる場合、または振動を起
こす可能性やオーバーシュートを起こす可能性がある場
合に、オーバーシュートを起こさずに整定までの時間を
最短にすることができるプロセス制御装置を提供するこ
とができる。
スで整定するまでに時間がかかる場合、または振動を起
こす可能性やオーバーシュートを起こす可能性がある場
合に、オーバーシュートを起こさずに整定までの時間を
最短にすることができるプロセス制御装置を提供するこ
とができる。
【図１】本発明のプロセス制御装置のブロック図であ
る。
る。
【図２】本発明のプロセス制御装置の応答波形図であ
る。
る。
【図３】本発明の実施例であるＸ線発生制御装置のブロ
ック図である。
ック図である。
【図４】本発明の実施例であるＸ線発生制御装置のマイ
クロプロセッサのブロック図である。
クロプロセッサのブロック図である。
【図５】本発明の実施例であるＸ線発生制御装置の応答
波形図である。
波形図である。
【図６】従来のＸ線発生制御装置のブロック図である。
【図７】従来のＸ線発生制御装置の応答波形図である。
１…管電圧設定器、２…管電圧制御部、３…１次管電圧
発生部、４…昇圧・整流部、５…管電圧分圧部、６…Ｘ
線管、７…管電流設定部、８…管電流制御部、９…フィ
ラメント駆動部、10…変圧部、111 , 112 …加算器、1
2, 121 …積分器、13, 131 …制限フィルタ、14…制御
対象、15, 151 …比較器、16…微分器、17…管電圧設定
部、18…マイクロプロセッサ、19…Ｄ／Ａ変換器、20…
管電圧制御部、21…１次管電圧発生部、22…昇圧整流
部、23…Ｘ線管、24…管電圧分圧部、25…Ａ／Ｄ変換
器、26…管電流設定部、27…Ｄ／Ａ変換器、28…管電流
制御部、29…フィラメント駆動部、30…変圧部、31…Ａ
／Ｄ変換器。
発生部、４…昇圧・整流部、５…管電圧分圧部、６…Ｘ
線管、７…管電流設定部、８…管電流制御部、９…フィ
ラメント駆動部、10…変圧部、111 , 112 …加算器、1
2, 121 …積分器、13, 131 …制限フィルタ、14…制御
対象、15, 151 …比較器、16…微分器、17…管電圧設定
部、18…マイクロプロセッサ、19…Ｄ／Ａ変換器、20…
管電圧制御部、21…１次管電圧発生部、22…昇圧整流
部、23…Ｘ線管、24…管電圧分圧部、25…Ａ／Ｄ変換
器、26…管電流設定部、27…Ｄ／Ａ変換器、28…管電流
制御部、29…フィラメント駆動部、30…変圧部、31…Ａ
／Ｄ変換器。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本山 正史 東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝 府中工場内 (72)発明者 富澤 雅美 東京都府中市東芝町１番地 株式会社東芝 府中工場内
Claims (2)
- 【請求項１】 操作量指令値に応じて操作される制御対
象と、 前記制御対象の制御量を検出する制御量検出器と、 前記制御量検出器の出力であるフィードバック値と目標
値を入力として前記操作量指令値を演算して出力する積
分要素と比例要素と微分要素とを組み合わせた制御演算
部とを備え、前記制御量指令値に対して前記制御量が等
しくなるように制御する制御装置において、 前記制御量検出器の出力するフィードバック値が所定値
に達するまでは積分要素により操作量指令値を演算して
出力し、 前記制御量検出器の出力するフィードバック値が所定値
に達した後は、積分要素と比例要素と微分要素との組み
合わせにより操作量指令値を演算して出力する制御演算
部を有することを特徴とする制御装置。 - 【請求項２】 制御演算部の出力する操作量に対して、
その最大操作量変化値を制限する制限フィルタを有する
請求項１記載の制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25062091A JPH0588703A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25062091A JPH0588703A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0588703A true JPH0588703A (ja) | 1993-04-09 |
Family
ID=17210567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25062091A Pending JPH0588703A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0588703A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07219646A (ja) * | 1994-02-01 | 1995-08-18 | Ohkura Electric Co Ltd | 拡散炉の内部温度制御装置 |
| JP2004006336A (ja) * | 2002-04-30 | 2004-01-08 | Xtreme Technologies Gmbh | パルス駆動されるガス放電連関式の放射線源における放射線出力を安定化するための方法 |
| JP2010049974A (ja) * | 2008-08-22 | 2010-03-04 | Mikasa Kk | Ｘ線発生装置及びｘ線管の駆動方法 |
-
1991
- 1991-09-30 JP JP25062091A patent/JPH0588703A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07219646A (ja) * | 1994-02-01 | 1995-08-18 | Ohkura Electric Co Ltd | 拡散炉の内部温度制御装置 |
| JP2004006336A (ja) * | 2002-04-30 | 2004-01-08 | Xtreme Technologies Gmbh | パルス駆動されるガス放電連関式の放射線源における放射線出力を安定化するための方法 |
| JP2010049974A (ja) * | 2008-08-22 | 2010-03-04 | Mikasa Kk | Ｘ線発生装置及びｘ線管の駆動方法 |
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