JPH0586233B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

発明の背景 放射線または熱消毒できないか液体系暴露によ
つて消毒できない新規物質の技術的用途への連続
的導入は、別の消毒手段の開発を必要としてい
る。この目的用の大部分の現代法は、ガス状化学
薬剤の使用に基づく。しかしながら、胞子を殺す
ものだけが化学消毒剤として分類され得るので、
このような化学化合物は、選択的に使用されなけ
ればならない。各種の抗菌剤が入手可能である
が、大部分の場合、それらは対性細菌胞子を殺さ
ない。殺微生物剤は、詳細には「殺」という頭辞
をつけた有機体の種類の破壊に限定され、例えば
殺殺菌剤は細菌を殺すことを意味し、殺真菌剤は
真菌を殺すことを意味し、殺ウイルス剤はウイル
スを殺すことを意味し、そして殺胞子剤は細菌お
よび真菌の両方の胞子を殺すことを意味する。細
菌胞子は、一般に破壊することが最も困難である
ので、殺胞子剤のみが化学消毒剤と同意語である
と考えられ得る。これらは、適当に利用されたと
きに、すべての形態の微生物、例えば細菌胞子お
よび真菌胞子およびウイルスを破壊できる化学薬
剤と定義され得る。 ガス状エチレンオキシドおよびホルムアルヒド
は、容易には熱または液体消毒できない装置また
は仕事場を消毒するために多くの病院および医療
研究施設において使用される。ホルムアルデヒド
は、高濃度で適用されるならば、固体ホルムアル
デヒドの残渣を残すらしい。この理由で、それ
は、デリケートな装置の消毒の場合、またはこの
物質へのアレルギー反応が生ずることがある場合
にはしばしば回避される。ホルムアルデヒドと異
なり多孔物質に良く浸透するエチレンオキシド
は、ゴムおよび多くのプラスチツクスによつて強
く吸収され、それ故蒸気は、短い曝気によつてで
は容易には排除されない。 エチレンオキシドおよびホルムアルデヒドの両
方の突然変異誘発性および発癌性に関する研究刊
行物は、無条件の禁止ではないとしても、消毒剤
としてのこれらの化合物の使用についての厳しい
制限をもたらしそうである。これらの制限は、エ
チレンオキシドおよびホルムアルデヒド消毒に関
連するコストを著しく増大するであろう。 その潜在的健康障害は別として、エチレンオキ
シドを有効な消毒に必要な濃度および温度におい
て取り扱うことは、困難である。空気中で３〜80
％濃度のエチレンオキシドは、強曝発性であり、
それ故エチレンオキシドは、通常フルオロカーボ
ンなどの不活性ガスとの混合物〔例えば、エチレ
ンオキシド12％およびフレオン12（Freon12；E.I.
デユボン・カンパニー）88％〕で使用される。医
療品の滅菌においては130〜140〓（約54℃〜約60
℃）程度の高温が、エチレンオキシド300〜1200
mg／の室濃度において消毒性を保証するために
通常使用される。予備増湿後に少なくとも4.0時
間のガス暴露時間暴露することが、通常使用され
る。また、エチレンオキシドは、ガラス、セラミ
ツクス、硬質プラスチツクスおよび金属などの非
有孔物質上よりも紙または布帛などの多孔物質上
の乾燥胞子を殺す際に有効である。C.W.ブルツ
チおよびM.K.ブルツチ、Gaseous Disinfection.
Disinfection中、M.A.ベナード編、マルセル・デ
ツカー発行、ニユーヨーク（1970）、第149頁〜第
207頁参照。 二酸化塩素は、以前から生物活性であることが
認められており、そして初期の研究は、二酸化塩
素が約0.20〜0.25mg／の最小濃度の水溶液中で
適用したときに殺細菌性、殺ウイルス性および殺
胞子性を有することを指摘している。W.J.マシ
エライン、Chlorine Dioxide：Chemiatry and
Environmental Impact of Oxychlorine
Compounds，R.C.ライス編、アン・アーバー・
サイエンス発行（1979）；G.M.ライドノール等、
Water＆Sewage Works，96、279（1949）参照。
しかしながら、更に最近の特許は、水性二酸化塩
素単独が安定剤および／または活性剤の存在下で
使用されないならば殺胞子性ではないことを述べ
ている。米国特許第4073888号明細書参照。水性
二酸化塩素での殺菌は、水性消毒剤の使用に関連
する一般の不利のすべて、例えば処方および取扱
いの困難さ、感湿装置または物質を消毒できない
こと、および乾燥時の残渣の付着をこうむる。 空気中の二酸化塩素の気相化学的性質について
はほとんど知られていない。約10％（即ち、約
300mg／）よりも高い濃度においては、化合物
は、不安定であり、そして多分衝撃または光触媒
作用分解で時々爆発する。この理由で、二酸化塩
素ガスは、貯蔵できない。水溶液中での同一濃度
においては、二酸化塩素は、全く安定である。 水中の二酸化塩素の化学的性質は、水和物の生
成によつて影響されると考えられる。低温（０℃
付近）においては、高濃度の二酸化塩素は、若干
変動可能な組成の水和物として沈殿する。加温
は、これらを再溶解させる。これらの加温溶液中
の二酸化塩素は、依然としてそれの回りに集まつ
た若干の水分子を有するらしい。このような水和
物は、勿論、気相中では生じないであろう。 一般に、気相中の互いの分子間距離および極性
溶媒効果の不存在は、空気中の二酸化塩素の化学
的性質を非常に変えるに違いない。最後に、多く
の大きな分子が、二酸化塩素ガスと共存するのに
十分な蒸気圧を有しているとは限らない。このよ
うに、天然水中での反応用にしばしば入手できる
化合物（例えば、タンパク質類、或るアミン酸
類、フミン酸類およびフルボ酸類並びに大抵の安
定剤）は、蒸気状態では見出されないであろう。 米国特許第3591515号明細書は、二酸化塩素ガ
ス10〜10000ppmをレリースするように処方され
得る粉末状組成物を開示している。遊離二酸化塩
素ガスは、細菌を殺し、かつ輸送時に果物上の真
菌成長を防止するのに有用であることが開示され
ている。 二酸化塩素に関連する取扱いの困難さ、気相と
溶液とでの化学的性質の差、および前記仕事での
不一致のため、二酸化塩素ガスは、如何なる濃度
においても化学消毒剤としての実用性を有するこ
とは実証されていない。 従つて、本発明の目的は、医療および歯科医療
器具および製品用に通常使用される各種の材料用
の化学消毒剤、即ち殺胞子剤として二酸化塩素ガ
スを利用することである。 本発明の別の目的は、短い暴露時間で周囲温度
付近、周囲圧力付近において化学消毒剤として二
酸化塩素ガスを利用することである。 本発明の更に他の目的は、表面への殺胞子量の
二酸化塩素ガスの適用と同時または適用前に表面
を制御湿度の雰囲気に付すことによつて、胞子で
汚染された表面を消毒する方法を提供することに
ある。 本発明の別の目的は、ガス透過性包装内で密封
される医療器具などの材料用の化学消毒剤として
二酸化塩素を利用することにある。 本発明の更に他の目的は、消毒前に乾燥される
ことのある不透過性表面用の化学消毒剤として二
酸化塩素ガスを利用することにある。 本発明の他の目的、利点および新規特徴は、以
下の説明および特許請求の範囲から当業者には明
らかになるであろう。 発明の具体的説明 本発明は、微生物汚染物品、例えば生きている
細菌および細菌胞子で汚染された医療または歯科
医療器具または他の物品の乾燥／ガス透過性表面
の消毒（滅菌）法を提供する。 本法で使用される消毒（滅菌）剤は、ガス状二
酸化塩素は、好ましくは、不活性キヤリヤーガス
中の二酸化塩素のガス状混合物の形態で使用され
る。好ましい不活性キヤリヤーガスは、窒素であ
る。一般に、不活性キヤリヤーガス（例えば、窒
素）中の二酸化塩素消毒剤の濃度は、約1.0mg／
〜約300mg／、好ましくは約８mg／〜約100
mg／、最も好ましくは約10mg／〜約40mg／
であることができる。以下に更に詳細に記載され
るであろうように、使用するのに選択されるキヤ
リヤーガス中の二酸化塩素の特定の濃度は、数種
の因子、例えば消毒剤の作用に抵抗する特定の胞
子または生きている細胞の固有の能力、並びに暴
露時間、および被消毒物がガス状消毒剤と接触さ
れる湿度条件の関数であろう。 屋内環境の相対湿度（RH）は、めつたに約60
％を超えず、そしてしばしばRH25％未満であ
る。本質上水分を含まない基材上にあり、かつ低
い屋内周囲湿度にさらされる細胞胞子は、低水分
または乾燥状態にあるであろう。乾燥胞子は、化
学消毒剤に対する高度の抵抗性を有することが技
術上良く認識されている。このように、乾燥胞子
で汚染された表面は、被乾燥状態の同一型の胞子
を消毒するのに必要であろうよりも実質上厳しい
消毒条件（例えば、より高い消毒剤濃度、より長
い暴露時間等）を必要とするであろう。 本発明の具体例によれば、二酸化塩素ガスでの
化学消毒に対する乾燥胞子の感受性は、二酸化塩
素ガス状消毒剤への胞子の暴露直前および／また
は暴露時に胞子を制御湿度のガス状雰囲気にさら
すことによつて高められる。消毒剤に対する胞子
の感受性を高めることによつて、前記湿潤化法が
使用されなかつたならば必要とされるよりも低い
濃度の二酸化塩素ガスおよび／または短い暴露時
間を有利に使用できる。本発明の増湿法に従つて
使用されるガス状雰囲気の相対湿度は、勿論、乾
燥胞子が消毒前にさらされた周囲湿度条件よりも
実質上高いであろう（例えば、10％〜15％高い）。 湿潤雰囲気暴露直前に表面上の胞子は約30％未
満の周囲相対湿度にさらされる。 本発明の増湿法の好ましい具体例においては、
乾燥胞子は、胞子をガス状消毒剤にさらす工程の
直前に、相対湿度約60％より大、例えば70％〜95
％を有する高湿潤空気に少なくとも約15分間、好
ましくは約20分〜約１時間またはそれよりも長い
時間さらすことによつて短時間に増湿される。増
湿は、大体室温において実施され得るが、より低
温度またはより高い温度（例えば25〜30℃）が所
望ならば使用され得る。増湿は好ましくは湿潤空
気で実施されるが、他の湿潤ガス類、例えば湿潤
窒素等が使用される得ることに留意すべきであ
る。 前記増湿法と一緒に使用される二酸化塩素ガス
の濃度は、好ましくは約10mg／〜約40mg／の
範囲である。消毒を受ける物品は、好ましくはガ
ス状消毒剤に少なくとも約１〜約４時間さらされ
る。更に、以下に更に詳細に記載されるように、
増湿度が密閉暴露室内で実施されるときには、増
湿操作時に使用された湿潤空気を依然として含み
ながら、二酸化塩素ガスは、室に導入され得る。 増湿法は、通常の装置を使用して実施され得
る。例えば、胞子および／または生きている細胞
で汚染された物品は、密閉室に入れられ、そして
真空を室に引くことができる。次いで、水が排気
室に注入され、そして蒸発されて室内に所望の湿
度水準を与えることができる。胞子汚染物品が室
内に与えられた湿潤雰囲気に少なくとも約15分間
さらされた後、二酸化塩素消毒剤ガスは、室の増
湿雰囲気に導入される。細菌汚染材料は、ガス状
消毒剤のガス状環境に、被処理材料を消毒するの
に十分な期間、例えば約30分〜約24時間、好まし
くは約１時間〜約３時間さらされる。 本発明の増湿法の更に他の具体例においては、
湿潤空気流および不活性キヤリヤーガス中の別個
の二酸化塩素流が、胞子汚染物品を収容する暴露
室に同時に導入され得る。或いは、不活性キヤリ
ヤーガス中の二酸化塩素が、水蒸気または湿潤空
気と混合され、そして湿潤ガス状二酸化塩素混合
物が、暴露室に導入されて胞子汚染物品を消毒す
ることができる。湿潤ガス状二酸化塩素混合物で
の滅菌は、好ましくは大体室温から約30℃で実施
され、そしてガス状二酸化塩素の相対湿度は、好
ましくは約60％よりも高く、最も好ましくはRH
約70〜95％である。汚染物品は、好ましくは湿潤
消毒剤と約１時間〜約４時間接触されるが、より
長い暴露時間が所望ならば使用され得る。 商業的応用の場合には、物品が消毒前にさらさ
れる周囲湿度条件に基づいて暴露時間および／ま
たは二酸化塩素濃度の調整の必要なしに、物品が
消毒されている信頼水準大体100％を得るために
比較的狭い範囲の暴露時間およびガス状二酸化塩
素濃度を使用することが望ましい。本明細書に開
示の増湿法は、消毒に対する胞子の感受性を標準
化するのを助長する。このことは、狭い範囲の二
酸化塩素濃度および狭い範囲の暴露時間の商業的
使用を容易にして、物品を汚染する胞子が消毒前
にさらされている周囲湿度条件に無関係に物品を
再現性良く消毒させる。 光は、塩素および酸素、場合によつて他の種へ
の二酸化塩素の分解に触媒作用を及ぼす。二酸化
塩素の酸素および塩素分解種は、二酸化塩素それ
自体よりもはるかに有効ではない消毒剤である。
更に、塩素は、本発明に従つて消毒できるゴム、
プラスチツクス、および他の材料と不相溶性であ
る腐食性物質である。本発明の消毒法を暗所また
は非常に柔らかい光の中で実施することによつ
て、余り有効ではない種への二酸化塩素の分解並
びに塩素の腐食性に関連する不利のためのガス状
消毒剤の効能の潜在的減少は、最小限にされる。 本願に開示の方法は、各種の微生物汚染物品を
消毒するのに使用され得る。特に、本発明の方法
は、ガラス、セルロース系材料、プラスチツク
ス、または周囲条件下で細菌成長用の本質上水分
を含まない基材（例えば、含水量約10％未満を有
する基材または若干の乾燥胞子を有する基材）を
与える類似物から作られる物品を消毒するのに使
用され得る。例えば、以下の通常使用される材料
の１以上から作られる医療品または歯科医療品ま
たは他の物品が、本発明の方法に従つて消毒され
得る：アルミニウム、酸化アルミニウム、クロム
メツキ黄銅、綿、ガーゼ（またはセルロース系材
料）、銅、ポリエステル類、エチレン酢酸ビニル、
ラテツクス、マイラー（Mylar）、ネオプレン、
ニツケルメツキ冷間成形鋼、ナイロン、白金、ポ
リカーボネート類、ポリエチレン、ポリメタクリ
ル酸メチル、ポリプロピレン、スチレン、テフロ
ン（Teflon）、ポリウレタン、ポリビニルアルコ
ール、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、熱分解
ガラス質カーボン類、シリコーン類、ステンレス
鋼、貨幣銀、チタン、炭化タングステン、タイゴ
ン（Tygon）、ガラス、セラミツクス等。 本発明の消毒法は、ガス状二酸化塩素に対して
透過性である包装、好ましくは水分に対しても透
過性である包装内に収容される物品を消毒するの
にも使用され得る。例えば、本法は、非消毒条件
下でガス透過性包装内に包装されている医療器具
または歯科医療器具を消毒するのに使用され得
る。各種の通常の包装材料、例えば被覆紙および
非被覆紙、プラスチツクシート等は、二酸化塩素
ガスによつて容易に透過される。 二酸化塩素ガスは、技術上既知の方法のいずれ
によつても生成され得る。好ましい方法は、空気
希釈塩素ガス流または窒素希釈塩素ガス流を所定
速度で微粉砕亜塩素酸ナトリウムのカラムに通過
させ、そして部分排気室に入れることを包含す
る。その方法は、H.グルビツシユ、E.スパン、
Monatsh.，Vol.93，p.246（1962）に開示されて
いる。 二酸化塩素ガスの第二の好適な発生法は、酸類
の存在下における亜塩素酸ナトリウム溶液の反応
である。この方法の一具体例においては、水性過
硫酸カリウムの希薄溶液は、密閉反応器内で周囲
温度、即ち20〜30℃において水性亜塩素酸ナトリ
ウムの希薄溶液で処理される。ローゼンプラツト
等、J.Org.Chem.，28，2790（1963）参照。撹拌
反応上の空間内に生成する二酸化塩素雰囲気の温
度は、外部加熱または冷却によつて調節され得
る。 所望量の二酸化塩素ガスは、好ましくは部分排
気されておりかつ被消毒物を収容する好適な暴露
室に入れられる。二酸化塩素ガスは、消毒用に使
用される濃度の二酸化塩素に不活性（即ち、非反
応性）であるキヤリヤーガスとの混合物で暴露室
に入れられる。最終内圧は、窒素、アルゴンまた
は別の不活性ガスで調節でき、即ち１気圧付近に
調節できる。暴露期間の終りに、暴露室は、排気
されて二酸化塩素を除去し、そして過不活性ガ
スまたは空気でフラツシングされる。排気二酸化
塩素は、還元剤に通過させることにより、例えば
チオ硫酸ナトリウムチツプのカラムに通過させる
ことによつて容易に破壊され得る。 各種の消毒ラン用に使用される二酸化塩素雰囲
気の組成は、標準法のいずれかにより、例えばウ
エラー等、Microchem.J.，23，p.160（1978）の
方法により比色定量され得る。暴露室内の雰囲気
の試料は、気密注射器を使用して隔壁口を経て得
られる。試料の容量は、雰囲気中の二酸化塩素の
予測濃度に応じて変化される。雰囲気は、好まし
くは暴露期間の始め、および終りにおいて監視さ
れる。注射器内容物は、反応して二酸化塩素濃度
依存色を生ずる化学薬品の適当な容量を保持する
好適な容器、即ちセルに注入される。反応完了
後、適当な波長における溶液の吸光度が、測定さ
れ、そして二酸化塩素の濃度は、参照曲線によつ
て測定される。この方法は、一般に二酸化塩素を
分析する周知の比色法のいずれを使用するのにも
適合できる。 後述の特定例の或るものにおいて二酸化塩素ガ
スの有効消毒濃度を測定するのに使用される標準
試験有機体の胞子は、バチルス・サブチリス・バ
ル・ニガー（Bacillus subtilis var.niger）の胞
子であつた（ATCC9372）。この有機体の乾燥胞
子は、消毒に対して極めて抵抗性であることが既
知であり、そしてガス状消毒剤の有効性を測定す
るのにしばしば使用されている。例えば、P.M.
ポリツクおよびR.E.ペパー、The Spore
Problem.Disinfection中、M.A.ベナード編、ア
ルセル・デツカー発行、ニユーヨーク（1970）、
第85頁〜第102頁およびA.M.クツクおよびM.R.
W.ブラウン、J.Appl.Bact.，28，361（1965）参
照。それ故、所定濃度の二酸化塩素は、10⁵〜10⁷
個の胞子の初期集団が前記濃度暴露後９日間の観
察後栄養塩地での生長を示さなかつたならば滅菌
剤として有効であると評価され得る。 以下の詳細な例においては、バチルス・サブチ
リス・バル・ニガーの胞子の標準懸濁液が、ダツ
ドおよびデレイによりJ.Appl.Bacteriel.，49，89
（1980）に記載のように調製された。培養用試験
紙ストリツプは、ガラスペトリ皿において胞子の
メタノール懸濁液0.2mlを予消毒ワツトワン３mm
紙の７×35mmのストリツプに添加することによつ
て作られた。紙は、真空乾燥され（30℃、28イン
チHgで30分）、そして使用前に周囲温度および湿
度（20〜30℃、相対湿度40〜60％）に保たれた。
このように作られた各ストリツプ上の胞子負荷
は、約1.4×10⁶個の胞子であつた。 金属箔試験片は、18×28mm平方のアルミ箔を小
カツプにすることによつて作られた。これらは、
ガスペトリ皿において消毒された。各カツプに、
胞子のメタノール懸濁液0.2mlが添加された。カ
ツプは、周囲温度で乾燥され、そして使用前に周
囲温度および湿度に保持された。各カツプ上の胞
子負荷は、約1.4×10⁶個の胞子であつた。 本発明の実施は、以下の詳細な例を参照するこ
とによつて更に例示される。 例 １ 1000mlの２口丸底フラスコは、滴下漏斗および
磁気撹拌機を備えていた。ガラスウールフイルタ
ーおよびニードル弁付きの窒素ガス用入口管は、
窒素が反応混合物の表面以下に入れられ得るよう
に位置決めされた。出口管は、ニードル弁を備
え、そしてガスが反応器の頂部から暴露容器に通
過され得るように位置決めされた。 隔壁に蓋をした口、圧力計、および入口および
出口付きの2000mlのガラス製反応がまは、暴露容
器として使用された。1000mlのフラスコの出口管
は、暴露容器の入口に連結された。 典型的なランにおいては、1000mlのフラスコに
窒素下で８％亜塩素酸ナトリウム水溶液100mlが
仕込まれた。弁のすべては、閉じられ、そして水
100ml中の過硫酸カリウム2.0ｇの溶液が、攪拌下
に滴下された。反応混合物は、27℃において30〜
45分間攪拌されて二酸化塩素ガスの発生を完了し
た。前記方法によつて発生された二酸化塩素ガス
の相対湿度は、約60％であつた。 暴露室は、３〜６個の胞子被覆紙ストリツプま
たはアルミ箔カツプで負荷された。各々は、個々
のガラスペトリ皿に収容された。胞子被覆紙スト
リツプおよびアルミ箔カツプは、前記方法で枯草
菌（B.aubtilis）の胞子のメタノール懸濁液から
作られた。文献においては、メタノール暴露は化
学滅菌に対する胞子の感度を高めることができる
ことが報告されている。室は、窒素で掃引され、
閉じられ、次いで排気された（約28インチHg）。
反応器から導く管上の出口弁は、開けられ、そし
て反応器から入れられた二酸化塩素ガスの量は、
圧力計で増圧の読みを行うことによつて制御され
た。出口弁は、閉じられ、次いで暴露容器内の圧
力は、窒素の導入によつて１気圧にされた。 暴露容器内の雰囲気は、隔壁を経て気密注射器
により雰囲気0.5〜2.0mlの除去によつて直ちに試
料採取された。二酸化塩素濃度は、ウエラー等、
Microchem.J.，23、160（1978）の方法によつて
測定された。60分が経過した後、雰囲気は、再度
試料採取された。次いで、暴露室は、排気され、
そして過空気で再充填された。排気および再充
填工程は、繰り返され、室は開けられ、そして内
容物は、消毒条件下で除去された。 紙ストリツプは、トリプチケース
（trypticase）大豆ブイヨンの個々の管の無菌的
に移され、そして37℃で培養された。胞子成長の
有無を決める観察は、24時間後および48時間後に
行われた。48時間後成長を示さなかつた管は、１
週間培養され、そして24時間毎に観察された。成
長が１週間後に観察されなかつたならば、ストリ
ツプは、陰性または消毒と記録された。 暴露後、箔は、滅菌水20mlおよび若干のガラス
ビーズを含有する個々の管に移された。強振トウ
して胞子を離しかつ懸濁させた後、懸濁液0.1ml
は、トリブチケース大豆寒天のプレート上に再度
入れられた。プレートは、37℃で培養され、そし
て紙ストリツプの場合に前に記載したように観察
された。適当なコントロールストリツプおよび箔
は、これらの測定に付された。18種の特定のラン
の結果は、例２〜19として表に総括される。

【表】

【表】 例２〜19の結果は、少なくとも40mg／の二酸
化塩素濃度が乾燥枯草菌胞子で汚染された紙スト
リツプを消毒するのに有効であり、従つて多分存
在する如何なる他の微生物を殺すのに有効であつ
たことを実証する。例５，７および14で観察され
る成長のばらつきの発生は、ランダムな実験誤差
のためと大部分無視され得る。生物標準の実験室
法の更に厳しい制御は、使用されるガス濃度の完
全な範囲にわたつて有効な消毒を示すであろうこ
とが予期される。同様の濃度は、認知できる分解
または残渣付着を生じずに他の種類の多孔有機表
面、例えばゴム、ガス透過性プラスチツク、スポ
ンジ、植物材料、木材等を消毒することが予期さ
れるであろう。 二酸化塩素の濃度少なくとも35mg／は、乾燥
胞子で汚染されたアルミ箔を消毒するのに適して
いた。例６における箔上で観察された成長は、多
分ランダムな実験誤差のためであつた。その理由
は、より低いガス濃度範囲が終始一貫して消毒を
生じたからである。この結果は、ガス消毒剤に対
して通常不透過性である他の非有孔性表面、例え
ばステンレス鋼、メツキ鋼、アルミニウムおよび
ニツケルなどの金属または非有孔性プラスチツク
ス、磁器、セラミツクス、またはガラスから作ら
れる医療器具または歯科医療器具の表面が同様の
条件下で容易に消毒されるであろうという予想を
導いた。 二酸化塩素ガスは、ガス透過性紙エンベローブ
（envelopes）に密封されている商業上入手可能な
胞子ストリツプを消毒するのにも成功裡に使用さ
れている。このような材料を消毒するのに使用で
きる方法は、後述される。 例 20 ６個のスポルジ（Spordi ）紙胞子ストリツ
プ（ペンシルバニア州エリーのアメリカン・ステ
リライザー・コーポレーシヨン）〔各々は枯草菌
およびバチルス・ステアロテルモフイルス（B.
stearothermophilus：MCTC10003）の胞子の混
合物を含有し、そして各々はグラシンペーパーの
密封消毒エンベローブ内に密閉されている）は、
例１に記載のように二酸化塩素ガス50および100
mg／を含有する雰囲気にさらされる。密封胞子
ストリツプは、例１に記載のように暴露室から取
り出され、消毒条件下で開けられ、そして培養さ
れる。成長水準は、９日の培養後に観察される。
このことは、ストリツプがこれらの条件下で有効
に消毒されることを示す。 それ故、二酸化塩素は、容器材料と著しくは反
応せずに、ガス透過性容器材料、例えば被覆紙お
よび非被覆紙、プラスチツクシート等に密封され
る汚染表面を有効に消毒するであろうことが予期
される。このようなエンクロージヤーを容易に透
過する有効濃度の二酸化塩素の能力は、輸送時お
よび貯蔵時に消毒状態で維持させるために包装後
好ましくは消毒される医療品の消毒における応力
を見出すであろう。 例 21 この実験においては、72個のスポルジ紙胞子ス
トリツプ（ペンシルバニア州エリーのアメリカ
ン・ステリライザー・コーポレーシヨン）が、使
用された。各ストリツプは、グラシンエンベロー
ブ内に密閉され、そしてストリツプは、枯草菌お
よびバチルス・ステアロテルモフイルス
（NCTC10003）の胞子の混合物で汚染された。
それらのグラシンエンベローブ内のストリツプ
は、３組に等分された。組は、通常の実験室雰
囲気中に貯蔵され、組は制御相対湿度33％の室
内に入れられ、一方組はドライライト
（Drierite）上でデシケーターに入れられた。ス
トリツプは、３日間それらの環境と平衡された。
貯蔵期間の終りに、，および組のストリツ
プは、２群ＡおよびＢに等分され、次いで後述の
方法で暴露室の暗くされた内部内で二酸化塩素に
さらされた。 Ａ群内のストリツプは、約27℃の暴露室におい
て高湿度条件にさらされた。増湿は、約27インチ
Hgの真空を２の暴露室に引き、次いで蒸留水
約0.1mlを排気室に注入することによつて達成さ
れた。暴露室内の相対湿度は、約70％よりも高か
つた。Ａ群のストリツプは、室内で湿潤条件に約
20分さらされた。所望濃度水準の二酸化塩素が、
室からの湿潤空気の前排出なしに室に導入され
た。ストリツプは、約27℃の二酸化塩素に約２時
間さらされた。 Ｂ群のストリツプがＡ群のストリツプに関して
前記した予備増湿法に付されない以外は、Ｂ群の
ストリツプは、Ａ群のものと同様の方法で二酸化
塩素にさらされた。Ｂ群を処理するのに使用され
た二酸化塩素／キヤリヤーガスの相対湿度は、約
10％未満であつた。Ａ群およびＢ群のストリツプ
の両方を処理するのに使用された二酸化塩素は、
微粉砕亜塩素酸ナトリウムへの塩素ガスの通過に
よつて発生された。 消毒後、胞子ストツリプは、例１に記載の方法
で消毒条件下で暴露室から取り出され、そして培
養された。結果は、細菌成長が観察されたストリ
ツプの数／処理ストリツプの数によつて表に総
括される。

【表】 表は、Ａ群の増湿胞子が約29mg／以上の濃
度の二酸化塩素ガスの作用によつて消毒されたこ
とを示す。対照的に、乾燥二酸化塩素ガスで処理
されかつ消毒剤の適用前に増湿されなかつたＢ群
の胞子（Ｉ組および組）は、二酸化塩素ガスに
対してはるかに抵抗性であつた。Ｂ群のストリツ
プ（組）に関して認められた細菌成長は、スト
リツプが消毒前にさらされた実験室内の低い湿度
条件（RH約15％であると概算）、並びにストリ
ツプが乾燥二酸化塩素消毒剤（RH約10％未満）
で処理されたという事実に起因する。 表は、枯草菌汚染紙ストリツプおよびアルミ
箔カツプについてのデータを示す。水性胞子懸濁
液が汚染物として使用された以外は、箔カツプお
よび紙ストリツプは、前記方法で汚染された。胞
子汚染紙ストリツプおよび箔カツプは、暴露室の
暗くした内部において表に明記の各種の濃度の
二酸化塩素にさらされた。暴露時間は、２時間で
あつた。湿度条件についての制御は、行われなか
つた。この試みにおいては、二酸化塩素ガスは、
乾燥微粉砕亜塩素酸ナトリウムのカラムへの塩素
の通過によつて乾燥形態で発生された。更に、箔
カツプおよび紙ストリツプは、乾燥しており、そ
して室温および比較的低い周囲湿度条件（RH約
15％未満）において数日間維持された。従つて、
表によつて示されるような消毒剤に対する胞子
の見掛抵抗性は、比較的乾燥状態にあるので耐消
毒性である胞子を処理するための乾燥消毒剤ガス
の使用の組み合わせのためであると信じられる。

【表】

【表】 ＊ 汚染物品上の胞子の予消毒数
＊＊ 成長した数／さらされた数
例 22 枯草菌の胞子で被覆された390個のガラスカツ
プは、Ａ群およびＢ群に等分された。Ａ群は、湿
度条件についての制御なしに例21に記載の乾燥法
によつて発生された二酸化塩素にさらされた。Ｂ
群の汚染ガラスカツプは、例21の方法に従つて増
湿され、次いで二酸化塩素ガスにさらされた。Ａ
群およびＢ群の両方は、密閉暗室においてガス状
消毒剤に約２時間さらされた。データは、表に
与えられる。表においては、肩数字のある数
（10⁶等）は、胞子の予消毒数／カツプを示し、一
方表の本文に与えられる数は、消毒後の培養時
に生きた細菌を生じたガラスカツプの数（消毒さ
れた６個のカツプのうちの数）を表わす。

【表】

【表】 ＊ 成長した数／さらされた
数；消毒は27℃で実施され
た。
例 23 この実験においては、試験物は、バチルス・サ
ブチリス・バル・ニガー胞子の水性懸濁液0.1ml
を小さいガラスカツプ（９mm×14mm）に入れるこ
とによつて作られた。カツプは、消毒ペトリプレ
ート（各々は５個の試験カツプを含む）において
２時間真空乾燥された。各試験カツプは、胞子負
荷約１×10⁶個の胞子を担持していた。消毒する
のに使用される二酸化塩素は、塩素を乾燥亜塩素
酸ナトリウムに通過させることによつて生成され
た。試験カツプは、以下の表に示された温度、暴
露時間および湿度において消毒された。

【表】

【表】

【表】

【表】 前記データは、使用された増湿法においては、
最適の消毒が暴露時間２時間を使用して27℃の消
毒温度において得られたことを示す。細菌成長が
15℃および37℃で実施された試験時に認められた
が、消毒は、二酸化塩素暴露時間を延長すること
によつてそれらの温度において達成できたと信じ
られる。前記データは、二酸化塩素による化学消
毒がプロセスを大体室温（例えば、20〜30℃）よ
りも高い温度（37℃）または低い温度（15℃）で
実施することによつては高められないことも示
す。 例 24 ガス状化学消毒剤として使用するのに好適な窒
素と二酸化塩素ガスとの乾燥混合物は、次の通り
調製される。 ニードル弁調整器付きの標準シリンダーからの
塩素ガスが、Ｔ字管によつて窒素流にゆつくりと
導入される。次いで、窒素希釈塩素流は、直列の
３個のカラムに含有された微粉砕亜塩素酸ナトリ
ウム上に通過される。最初の２個のガラスカラム
は、3.5×14cmのカラムを与えるように亜塩素酸
ナトリウムを充填したガス乾燥ピンからなる。直
列の第三カラムは、１×40cmのカラムを与えるよ
うに充填されたガラス管からなる。最後のカラム
を出るガスは、排気暴露室（例えば、約27インチ
Hg）に直接導入され、または後に使用する排気
フラスコに導入され得る。 本発明の或る代表的具体例が本発明を例示する
目的でここに記載されているが、本発明の範囲お
よび精神から逸脱せずに、その修正を施すことが
できることが当業者によつて認識されるであろ
う。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 本質上水分を含まない表面上の胞子を湿潤ガ
   ス状雰囲気にさらして、その後の化学消毒に対す
   る前記胞子の感受性を高め、次いで前記胞子を不
   活性キヤリヤーガス中の、前記表面を消毒するの
   に有効な量のガス状二酸化塩素にさらすことを特
   徴とする胞子で汚染された本質上水分を含まない
   表面の消毒法。 ２ 前記湿潤ガス状雰囲気が、湿潤空気からなる
   特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ３ 前記湿潤ガス状雰囲気が、大体室温から約30
   ℃までの範囲内の温度である湿潤空気からなり、
   その前記湿潤空気の相対湿度が、約60％よりも高
   い特許請求の範囲第２項に記載の方法。 ４ 前記表面が、前記湿潤空気に少なくとも約15
   分間さらされ、直後に前記胞子が、前記表面を消
   毒するのに十分な時間前記ガス状二酸化塩素にさ
   らされる特許請求の範囲第２項に記載の方法。 ５ 前記不活性キヤリヤーガス中の二酸化塩素の
   濃度が、少なくとも約10mg／である特許請求の
   範囲第１項、第２項、第３項または第４項に記載
   の方法。 ６ 前記胞子が、バチルス・サブチリス・バル・
   ニガーの胞子である特許請求の範囲第３項に記載
   の方法。 ７ 前記表面を消毒するのに使用される前記ガス
   状二酸化塩素が、塩素を乾燥亜塩素酸ナトリウム
   に通過させることによつて生成され、前記不活性
   キヤリヤーガス中の前記二酸化塩素の濃度が、約
   10〜約40mg／であり、そして前記相対湿度が、
   少なくとも約70％である特許請求の範囲第３項に
   記載の方法。 ８ 前記表面を消毒するのに使用される前記二酸
   化塩素が、水性亜塩素酸ナトリウムを過硫酸塩化
   合物と反応させることによつて生成される特許請
   求の範囲第３項に記載の方法。 ９ 前記湿潤雰囲気暴露直前に、前記表面上の前
   記胞子が、約30％未満の周囲相対湿度にさらされ
   た特許請求の範囲第３項に記載の方法。 １０ 前記相対湿度が、約70〜95％であり、そし
   て前記表面を汚染する前記胞子が、乾燥状態であ
   る特許請求の範囲第３項に記載の方法。 １１ 前記胞子が、前記二酸化塩素ガスに少なく
   とも約２時間さらされる特許請求の範囲第５項に
   記載の方法。 １２ 前記表面が、物品の表面からなり、そして
   消毒時に、前記物品が水分／二酸化塩素ガス透過
   性である材料内に収容される特許請求の範囲第１
   項または第３項に記載の方法。 １３ 前記胞子が、暗所または柔らかな光の中で
   前記ガス状二酸化塩素にさらされる特許請求の範
   囲第１項、第３項または第７項に記載の方法。 １４ 前記二酸化塩素ガスが、約27℃の温度であ
   る特許請求の範囲第１１項に記載の方法。 １５ 前記表面が、医療器具または歯科医療器具
   のガス不透過性表面からなる特許請求の範囲第１
   １項に記載の方法。 １６ (a) 胞子で汚染された本質上水分を含まな
   い表面を包含する物品を暴露室に入れ、そして
   前記室において (b) ガス状二酸化塩素での化学消毒に対する前記
   物品を汚染する胞子の感受性を高めるのに十分
   な湿潤ガス状雰囲気と前記胞子との接触を与
   え、そして (c) 前記物品を消毒するのに有効な量の二酸化塩
   素ガスを前記ガス状雰囲気に導入することを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 １７ 前記湿潤ガス状雰囲気が、前記室内で大体
   室温よりも高い温度から約30℃までに加熱されて
   いる湿潤空気からなり、そして前記湿潤空気の相
   対湿度が約60％よりも高い特許請求の範囲第１６
   項に記載の方法。 １８ 前記相対湿度が、約70％〜約95％であり、
   そして前記室に入れられる直前に、前記胞子が、
   約30％未満の周囲相対湿度にさらされた特許請求
   の範囲第１７項に記載の方法。 １９ 前記二酸化塩素が、不活性キヤリヤーガス
   中の二酸化塩素のガス状混合物からなり、そして
   二酸化塩素の濃度が、少なくとも約10mg／であ
   る特許請求の範囲第１７項に記載の方法。 ２０ 前記物品を消毒するのに使用される前記二
   酸化塩素が、塩素を乾燥亜塩素酸ナトリウムに通
   過させることによつて生成される特許請求の範囲
   第１９項に記載の方法。 ２１ 前記二酸化塩素ガスが、大体室温から約30
   ℃までの温度である特許請求の範囲第１９項に記
   載の方法。 ２２ 前記表面が、金属、ガラス、磁器、ゴムま
   はプラスチツクからなり、そして前記胞子が、乾
   燥状態である特許請求の範囲第２１項に記載の方
   法。 ２３ 前記湿潤空気が、前記室内の水を、水を蒸
   発するのに十分な減圧にさらすことによつて与え
   られる特許請求の範囲第１７項に記載の方法。 ２４ 前記胞子が、バチルス・サブチリス・バ
   ル・ニガーの胞子である特許請求の範囲第１９項
   に記載の方法。 ２５ 消毒時に、前記物品が、水分／二酸化塩素
   ガス透過性材料内に収容される特許請求の範囲第
   １７項に記載の方法。 ２６ 前記二酸化塩素ガスが、約27℃の温度であ
   る特許請求の範囲第２１項に記載の方法。 ２７ 前記表面が、前記二酸化塩素ガスに少なく
   とも約２時間さらされる特許請求の範囲第２１項
   または第２６項に記載の方法。 ２８ 不活性キヤリヤーガスが、窒素である特許
   請求の範囲第１９項に記載の方法。 ２９ 前記表面が、暗所または柔らかい光の中で
   二酸化塩素にさらされる特許請求の範囲第１９項
   に記載の方法。 ３０ 胞子で汚染された本質上水分を含まない表
   面を二酸化塩素ガスと水蒸気とからなるガス状雰
   囲気にさらすことからなり、そして前記雰囲気中
   の水蒸気の量は、前記二酸化塩素の殺胞子作用に
   対する前記胞子の感受性を高めるのに適している
   ことを特徴とする胞子で汚染された本質上水分を
   含まない表面を具備する物品の消毒法。 ３１ 前記ガス状雰囲気が、湿潤空気と、不活性
   キヤリヤーガス中の二酸化塩素の予調製混合物と
   を混合することによつて調製される特許請求の範
   囲第３０項に記載の方法。 ３２ 前記不活性キヤリヤーガスが、窒素である
   特許請求の範囲第３１項に記載の方法。 ３３ 前記ガス状消毒剤が、二酸化塩素、水蒸気
   および不活性キヤリヤーガスの混合物からなる特
   許請求の範囲第３０項に記載の方法。 ３４ 前記不活性キヤリヤーガスが、窒素である
   特許請求の範囲第３３項に記載の方法。 ３５ 前記混合物中に二酸化塩素の濃度が、少な
   くとも約10mg／である特許請求の範囲第３３項
   に記載の方法。 ３６ 前記ガス状雰囲気が、大体室温から約30℃
   までの温度であり、そして前記雰囲気の相対湿度
   が、少なくとも約60％である特許請求の範囲第３
   １項または第３３項に記載の方法。 ３７ 前記胞子が、バチルス・サブチリス・バ
   ル・ニガーの胞子である特許請求の範囲第３６項
   に記載の方法。 ３８ 前記物品が、医療器具または歯科医療器具
   である特許請求の範囲第３０項に記載の方法。 ３９ 前記表面が、暗所または柔らかい光の中で
   前記雰囲気にさらされる特許請求の範囲第３０項
   に記載の方法。 ４０ 消毒時に、前記物品が、水分／二酸化塩素
   ガス透過性材料内に収容される特許請求の範囲第
   ３０項に記載の方法。 ４１ 消毒直前に、前記胞子が、約30％未満の周
   囲相対湿度にさらされた特許請求の範囲第３０
   項、第３１項または第３３項に記載の方法。 ４２ 前記混合物中の二酸化塩素が、塩素ガスを
   乾燥亜塩素酸ナトリウムに通過させることによつ
   て生成された特許請求の範囲第３１項または第３
   ３項に記載の方法。 ４３ 表面上の乾燥胞子を湿潤ガス状雰囲気にさ
   らしてその後の化学消毒に対する前記胞子の感受
   性を高め、次いで前記胞子を不活性キヤリヤーガ
   ス中の、前記表面を消毒するのに有効な量のガス
   状二酸化塩素にさらすことを特徴とする乾燥胞子
   で汚染された表面の消毒法。 ４４ 乾燥胞子で汚染された表面を二酸化塩素ガ
   スと水蒸気とからなるガス状雰囲気にさらすこと
   からなり、そして前記雰囲気中の水蒸気の量は、
   前記二酸化塩素の殺胞子作用に対する前記胞子の
   感受性を高めるのに適していることを特徴とする
   乾燥胞子で汚染された表面を包含する物品の消毒
   法。