JPS6133659A - 化学消毒剤としての二酸化塩素ガスの使用 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 放射線または熱消毒できな−か液体系暴露によって消毒
できない新規物質の技術的用途への連続的導入は、別の
消毒手段の開発を必要としている。

この目的用の大部分の現代法は、ガス状化学薬剤の使用
に基づく。しかしながら、胞子を殺すものだけが化学消
毒剤として分類され得るので、このような化学化合物は
、選択的に使用されなければならない。各種の抗菌剤が
入手可能であるが、大部分の場合、それらは対性細菌胞
子を殺さない。

殺微生物剤は、詳細には「殺」という頭辞をつけた有機
体の種類の破壊に限定され、例えば殺殺菌剤は細菌を殺
すことを意味し、殺真菌剤は真菌を殺すことを意味し、
殺ウイルス剤はウィルスを殺すことを意味し、そして殺
胞子剤は細菌および真菌の両方の胞子を殺すことを意味
する。細菌胞子は、一般に破壊することが最も困難であ
るので、殺胞子剤のみが化学消毒剤と同意語であると考
えられ得る。これらは、適当に利用されたときに、すべ
ての形態の微生物、例えば細菌胞子および真菌胞子およ
びウィルスを破壊できる化学薬剤と定義され得る。

ガス状エチレンオキシドおよびホルムアルヒトは、容易
には熱または液体消毒できな込装置または仕事場を消毒
するために多くの病院および医療研究施設にお込て使用
される。ホルムアルデヒドは、高濃度で適用されるなら
ば、固体ホルムアルデヒドの残渣を残すらし因。この理
由で、それは、デリケートな装置の消毒の場合、または
この物質へのアレルギー反応が生ずると、とがある場合
にはしばしば回避される。ホルムアルデヒドと異なシ多
孔物質に良く浸透するエチレンオキシドは、ボームおよ
び多くのプラスチックスによって強く吸収され、それ故
蒸気は、短い曝気によってでは容易には排除されない。

エチレンオキシドおよびホルムアルデヒドの両方の突然
変異誘発性および発癌性に関する研究刊行物は、無条件
の禁止ではな−としても、消毒剤。

としてのこれらの化合物の使用についての厳し込制限を
もたらしそうである。これらの制限は、エチレンオキシ
ドおよびホルムアルデヒド消毒に関連するコストを著し
く増大するであろう。

その潜在的健康障害は別として、エチレンオキシドを有
効な消毒に必要な濃度および温度において取り扱うこと
は、困難である。空気中で３〜ざＯチ濃度のエチレンオ
キシドは、強爆発性であ９、それ故エチレンオキシドは
、通常フルオロカーボンなどの不活性ガスとの混合物〔
例えば、エチレンオキシド１７、チおよびフレオン／Ｊ
　（Ｆｒｅｏｎ　／−２；Ｅ、　　１．デュポン・カン
パニー〕♂ｌｒ％〕で使用サレる。医療品の滅菌にお−
ては／３０〜／≠０１２（約評℃〜約６０℃）程度の高
温が、エチレンオキシド３θｏ　−ｉ、２ｏｏ　ｑ７ｔ
の室濃度におりて消毒性を保証するために通常使用され
る。予備増湿後に少なくともＵ、Ｏ時間のガス暴露時間
暴露することが、通常使用される。また、エチレンオキ
シドは、ガラス、セラミックス、硬質プラスチックスお
よび金属などの非有孔物質上よりも紙または布帛などの
多孔物質上の乾燥胞子を殺す際に有効である。

Ｃ，Ｗ、プルッチおよびＭ、　Ｋ、プルッチ、Ｇａ５ａ
ｏｕｓＤｉｓｉｎｆｅｃｔｉｏｎ、　　Ｄｉａｌｎｆｅ
ｃｔｌｏｎ中、Ｍ、　Ａ、ベナード編、マルセル・デツ
カ−発行、ニューヨーク（／り７０）、第１４Ｚタ頁〜
第λ０７頁参照。

二酸化塩素は、以前から生物活性であることが認められ
ておフ、そして初期の研究は、二酸化塩素が約００．２
０−０．λｊツμの最小濃度の水溶液中で適用したとき
に殺細菌性、殺ウイルス性および殺胞子性を有すること
を指摘している。Ｗ、　Ｊ、マシエライン、Ｃｈｌｏｒ
ｉｎ＠Ｄ１ｏｘｉｄ＠ｒ　　Ｃｈｅｍ’１−ａｔｒｙ　
　ａｎｄ　　Ｅｎｖｌｒｏｎｍｓｎｔａｌ　　Ｉｍｐａ
ｏｔ　　ｏｆＯｘｙｏｈｌｏｒｉｎｅ　　Ｃｏｍｐｏｕ
ｎｄｓ　、　　Ｒ＋Ｃ，ライス編、アン・アーバー・サ
イエンス発行（ｌり７り）；Ｇ−Ｍ、ライドノール等、
Ｗａｔ＠ｒ　＆　８ｅｗａｇｅ　Ｗｏｒｋａ。

１８、、コ７り（／タダタ）参照。しかしながら、更に
最近の特許は、水性二酸化塩紫単独が安定剤および／ま
たは活性剤の存在下で使用されないならば殺胞子性では
ないことを述べて−る。米国特許第１Ｉ、　ｏ　７　Ｊ
、　ｒ　ｒ　ｒ号明細書参照。水性二酸化塩素での殺菌
は、水性消毒剤の使用に関連する一般の不利のすべて、
例えば処方および取扱−の困難さ、感湿装置または物質
を消毒できないこと、および乾燥時の残渣の付着をこう
むる。

空気中の二酸化塩素の気相化学的性質についてはほとん
ど知られていない。約ｔｏｎ（即ち、約Ｊ　００１１ｙ
／Ｌ　）よりも高い濃度にお込ては、化合物は、不安定
であｐｌそして多分衝撃または光触媒作用１分解で時々
爆発する。この理由で、二酸化塩素ガスは、貯蔵できな
い。水溶液中での同一濃度におりては、二酸化塩素は、
全く安定である。

水中の二酸化塩素の化学的性質は、水和物の生成によっ
て影響されると考えられる。低温（０℃付近）におりて
は、高濃度の二酸化塩素は、若干変動可能な組成の水和
物として沈殿する。加温は、これらを再溶解させる。こ
れらの加温溶液中の二酸化塩素は、依然としてそれの回
フに集まった若干の水分子を有するらし−６このような
水和物は、勿論、気相中では生じな込であろう。

一般に、気相中の互いの分子間距離および極性溶媒効果
の不存在は、空気中の二酸化塩素の化学的性質を非常に
変えるに違すない。最後に、多くの大きな分子が、二酸
化塩素ガスと共存するのに十分な蒸気圧を有していると
は限らない。このように、天然水中での反応用にしばし
ば入手できる化合物（例えば、タンパク質類、成るアミ
ン酸類、フミン酸類およびフルボ酸類並びに大抵の安定
剤）は、蒸気状態では見出されな込であろう。

米国特許第３．Ｊ′り４！／！号明細書は、二酸化塩素
ガス１０〜１０，０００ｐｐｒｎをレリースするように
処方され得る粉末状組成物を開示している。遊離二酸化
塩素ガスは、細菌を殺し、かつ輸送時に果物上の真菌成
長を防止するのに有用であることが開示されてｈる。

二酸化塩素に関連する取扱いの困難さ、気相と溶液とで
の化学的性質の差、および前記仕事での不一致のため、
二酸化塩素ガスは、如何なる濃度においても化学消毒剤
としての、実用性を有することは実証されていない。

従って、本発明の目的は、医療および歯科医療器具およ
び製品用に通常使用される各種の材料用の化学消毒剤、
即ち殺胞子剤として二酸化塩素ガスを利用することであ
る。

本発明の別の目的は、短込暴露時間で周囲温度付近、周
囲圧力付近にお込て化学消毒剤として二酸化塩素ガスを
利用することである。

本発明の更に他の目的は、表面への殺胞子量の二酸化塩
素ガスの適用と同時または適用前に表面を制御湿度の雰
囲気に付すことによって、胞子で汚染された表面を消毒
する方法を提供することにある。

本発明の別の目的は、ガス透過性包装内で密封される医
療器具などの材料用の化学消毒剤として二酸化塩素を利
用することにある。

本発明の更に他の目的は、消毒前に乾燥されることのあ
る不透過性表面用の化学消毒剤として二酸化塩素ガスを
利用することにある。

本発明の他の目的、利点および新規特徴は、以下の説明
および特許請求の範囲から当業者には明らかになるであ
ろう。

発明の詳細な説明 本発明は、微生物汚染物品、例えば生きている細菌およ
び細菌胞子で汚染された医療または歯科医療器具または
他の物品の乾燥／ガス透過性表面の消毒（ｍ菌）法を提
供する。

水沫で使用される消毒（滅Ｎ）剤は、ガス状二酸化塩素
は、好ましくは、不活性キャリヤーガス中の二酸化塩素
のガス状混合物の形態で使用される。好まし込不活性キ
ャリヤーガスは、窒素である。一般に、不活性キャリヤ
ーガス中ガスば、窒素）中の二酸化塩素消毒剤の濃度は
、約へｏ　？ｔ〜約ｊ　００１１５！／ｌ　、好ましく
は約ｒ　ｔｙ７ｔ−約１００’Ｉｌｆ！／ｌ、最も好ま
しくは約１０り／ｌ〜約ｔｍｑ７ｔであることができる
。以下に更に詳細に記載されるであろうように、使用す
るのに選択されるキャリヤーガス中の二酸化塩素の特定
の濃度は、数種の因子、例えば消毒剤の作用に抵抗する
特定の胞子または生きて込る細胞の固有の能、力、並び
に暴露時間、および被消毒物がガス状消毒剤と接触され
る湿度条件の関数であろう。

屋内環境の相対湿度（ＲＨ）は、めったに約６０チを超
えず、そしてしばしばＲＨ１５％未満である。

本質上水分を含まない基材上にあ９、かつ低い屋内周囲
湿度にさらされる細胞胞子は、低水分または乾燥状態に
あるであろう。乾燥胞子は、化学消毒剤に対する高度の
抵抗性を有することが技術上良く認識されている。この
ように、乾燥胞子で汚染された表面は、非乾燥状態の同
−型の胞子な消毒するのに必要であろうよりも実質上厳
しい消毒条件（例えば、よシ高−消毒剤濃度、より長い
暴露時間等）を必要とするであろう。

本発明の具体例によれば、二酸化塩素ガスでの化学消毒
に対する乾燥胞子の感受性は、二酸化塩素ガス状消毒剤
への胞子の暴露直前および／または暴露時に胞子を制御
湿度のガス状雰囲気にさらすことによって高められる。

消毒剤に対する胞子の感受性を高めることによって、前
記湿潤化法が使用されなかったならば必要とされるより
も低−濃度の二酸化塩素ガスおよび／または短込暴露時
間を有利に使用できる。本発明の増湿法に従って使用さ
れるガス状雰囲気の相対湿度は、勿論、乾燥胞子が消毒
前にさらされた周囲湿度条件よりも実質上高いであろう
（例えば、１０チ〜ｌＳ優高論）。

本発明の増湿法の好まし騒具体例においては、乾燥胞子
は、胞子をガス状消毒剤にさらす工程の直前に、相対温
度約ＡＯｆｙよｐ大、例えば７０％〜り！優を有する高
湿潤空気に少なくとも約ｉｓ分間、好ましくは約〃分〜
約１時間またはそれよりも長Ａ時間さらすことによって
短時間に増湿される。増湿は、大体室温において実施さ
れ得るが、よシ低い温度またはよシ高い温度（例えば５
〜３０℃）゛が所望ならば使用され得る。増湿は好まし
くは湿潤空気で実施されるが、他の湿潤ガス類、例えば
湿潤窒素等が使用され得ることに留意すべきである。

前記増湿法と一緒に使用される二酸化塩素ガスの濃度は
、好ましくは約１０ｍｇ／ｌ〜約％ｑ／ｌの範囲である
。消毒を受ける物品は、好ましくはガス状消毒剤に少な
くとも約ｌ〜、約弘時間さらされる。更に、以下に更に
詳細に記載されるように、増湿が密閉暴露室内で実施さ
れるときには、増湿操作時に使用された湿潤空気を依然
として含みながら、二酸化塩素ガスは、室に導入され得
る。

増湿法は、通常の装置を使用して実施され得る。

例えば、胞子および／または生きている細胞で汚染され
た物品は、密閉室に入れられ、そして真空を室に引くこ
とができる。次いで、水が排気室に注入され、そして蒸
発されて室内に所望の湿度水準を与えることができる。

胞子汚染物品が室内に与えられた湿潤雰囲気に少なくと
も約１５分間さらされた後、二酸化塩素消毒剤ガスは、
室の増湿雰囲気に導入される。細菌汚染材料は、ガス状
消毒剤のガス状環境に、被処理材料を消毒するのに十分
な期間、例えば約３０分〜約Ｊ時間、好ましくは約／時
間〜約３時間さらされる。

本発明の増湿法の更に他の具体例においては、湿潤空気
流および不活性キャリヤーガス中の別個の二酸化塩素流
が、胞子汚染物品を収容する暴露室に同時に導入され得
る。或いは、不活性キャリヤーガス中の二酸化塩素が、
水蒸気または湿潤空気と混合され、そして湿潤ガス状二
酸化塩素混合物が、暴露室に導入されて胞子汚染物品を
消毒することができる。湿潤ガス状二酸化塩素混合物で
の滅菌は、好ましくは大体室温から約３０℃で実施され
、そしてガス状二酸化塩素の相対湿度は、好ましくは約
６０俤よりも高く、最も好ましくはＲＩ（約７０〜り！
チである。汚染物品は、好ましくは湿潤消毒剤と約７時
間〜約≠時間接触されるが、よシ長い暴露時間が所望な
らば使用され得る。

商業的応用の場合には、物品が消毒前にさらされる周囲
湿度条件に基づいて暴露時間および／または二酸化塩素
濃度の調整の必要なしに、物品が消毒されてＡる信頼水
準大体１ｏｏｓを得るために比較的狭い範囲の暴露時間
およびガス状二酸化塩素濃度を使用することが望まし−
。本明細書に開示の増湿法は、消毒に対する胞子の感受
性を標準化するのを助長する。このととは、狭い範囲の
二酸化塩素濃度および狭い範囲の暴露時間の商業的使用
を容易にして、物品を汚染する胞子が消毒前にさらされ
ている周囲湿度条件に無関係に物品を再現性良く消毒さ
せる。

光は、塩素および酸素、場合によって他の種への二酸化
塩素の分解に触媒作用を及ぼす。二酸化塩素の酸素およ
び塩素分解種は、二酸化塩素それ自体よりもはるかに有
効ではない消毒剤である。

更に、塩素は、本発明に従って消毒できるゴム・プラス
チックス、および他の材料と不相容性である腐食性物質
である。本発明の消毒法を暗所または非常に柔らか−光
の中で実施することによって、余夛有効ではない種への
二酸化塩素の分解並びに塩素の腐食性に関連する不利の
ためのガス状消毒剤の効能の潜在的減少は、最小限にさ
れる。

本願に開示の方法は、各種の微生物汚染物品を消毒する
のに使用され得る。特に、本発明の方法は、ガラス、セ
ルロース系材料、プラスチックス、または周囲条件下で
細菌成長用の本質上水分を含、　まない基材（例えば、
含水量約１０９６未満を有する基材または若干の乾燥胞
子を有する基材）を与える類似物から作られる物品を消
、毒するのに使用され得る。例えば、以下の通常使用さ
れる材料の７以上から作られる医療品または歯科医療品
または他の物品が、本発明の方法に従って消毒され得る
１アルミニウム、酸化アルミニウム、クロムメッキ黄銅
、綿、ガーゼ（またはセルロース系材料）、銅、ポリエ
ステル類、エチレン酢酸ビニル、ラテックス、マイラー
（Ｍｙｌａｒ）　％ネオブレン、ニッケルメッキ冷間成
形鋼、ナイロン、白金、ポリカーボネート類、ポリエチ
レン、ポリメタクリル酸メチル、ボリプロビンン、スチ
レン、テ゛フロン（Ｔ＊ｆｌｏｎ　）　％ポリウレタン
、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビ
ニル、熱分解ガラス質カーボン類、シリコーン類、ステ
ンレス鋼、貨幣銀、チタン、炭化タングステン、タイボ
ン（Ｔｙｇｏｎ）　、ガラス、セラミックス等。

本発明の消毒法は、ガス状二酸化塩素に対して透過性で
ある包装、好ましくは水分に対しても透過性である包装
内に収容される物品を消毒するのにも使用され得る。例
えば、水洗は、非消毒条件下でガス透過性包装内に包装
されて込る医療器具または歯科医療器具を消毒するのに
使用され得る。

各種の通常の包装材料、例えば被覆紙および非被覆紙、
プラスチックシート等は、二酸化塩素ガスによって容易
に透過される。

二酸化塩素ガスは、技術上既知の方法のいずれによって
も生成され得る。好ましい方法は、空気希釈塩素ガス流
または窒素希釈塩素ガス流を所定速度で微粉砕亜塩素酸
す）　１７　Ｍムのカラムに通過させ、そして部分排気
室に入れることを包含する。

その方法は、Ｈ，グルビツシ１、Ｅ、スパン、Ｍｏｎａ
ｔｍｈ、、　Ｖｏｌ、　　タ３．ｐ、コ＋ｔＡ　（／り
ぶコ）に開示されている。

二酸化塩素ガスの第二の好適な発生法は、酸類の存在下
における亜塩素酸ナトリウム溶液の反応である。この方
法の一具体例においては、水性過硫酸カリウムの希薄溶
液は、密閉反応器内で周囲温度、即ち、２６〜３０℃に
おいて水性亜塩素酸ナトリウムの希薄溶液で処理される
。ローゼンプラット等、Ｊ、　　Ｏｒｇ、　　Ｃｈｕｍ
−、ＪＪ’　、　　λ７り０　（／９ｔＪ　）参照。

攪拌反応上の空間内に生成する二酸化塩素雰囲気の温度
は、外部加熱または冷却によって調節され得る。

所望量の二酸化塩素ガスは、好ましくは部分排気されて
おｐかつ被消毒物を収容する好適な暴露室に入れられる
。二酸化塩素ガスは、消毒用に使用される濃度の二酸化
塩素に不活性（即ち、非反応性）であるキャリヤーガス
との混合物で暴露室に入れられる。最終内圧は、窒素、
アルゴンまたは別の不活性ガスで調節でき、即ちｌ気圧
付近に調節できる。暴露期間の終りに、暴露室は、排気
されて二酸化塩素を除失し、そしてｆ過不活性ガスまた
は空気でフラッシングされる。排気二酸化塩素は、還元
剤に通過させることによ９、例えばチオ硫酸ナトリウム
チップのカラムに通過させることによって容易に破壊さ
れ得る。

各種の消毒ラン用に使用される二酸化塩素雰囲気の組成
は、標準法の−ずれかによ９、例えばウェラー等、Ｍｌ
　ａｒｏｃｈ＠ｒｎ、　　Ｊ、、　　２３　、　　ｐ、
　／６０（ｌり７ｔ）の方法によ）比色定量され得る。

暴露室内の雰囲気の試料は、気密注射器を使用して隔壁
口を経て得られる。試料の容量は、雰囲気中の二酸化塩
素の予測濃度に応じて変化される。雰囲気は、好ましく
は暴露期間の始め、および終少におＵて監視される。注
射器内容物は、反応して二酸化塩素濃度依存色を生ずる
化学薬品の適当な容量を保持する好適な容器、即ちセル
に注入される。

反応完了後、適当な波長における溶液の吸光度が、測定
され、そして二酸化塩素の濃度は、参照曲線によって測
定される。この方法は、一般に二酸化塩素を分析する周
知の比色法のいずれを使用するのにも適合できる。

後述の特定例の成るものにおいて二酸化塩素ガスの有効
消毒濃度を測定するのに使用される標準試験有機体の胞
子は、バチルス・サブチリス−バルーニガー（Ｂａｅｌ
ｌｌｕｉ　　ａｕｂｔｌｌｌｓ　　ｖａｒ、　ｎ１ｇ＠
ｒ）の胞子であった（ＡＴＣＣりＪ７コ）。この有機体
の乾燥胞子は、消毒に対して極めて抵抗性であることが
既知であ９、そしてガス状消毒剤の有効性を測定するの
にしばしば使用されている。例えば、Ｐ、　Ｍ、ポリツ
クおよび４３、１，ペパー、Ｔｈ＠５ｐｏｒｔＰｒｏｂ
ｌ＠ｎ＋、　　Ｄｌａｉｎｆｅｅｔｉｏｎ中、Ｍ、　Ａ
、ベナード編、マルセル・デツカ−発行、二Ｚ−ヨーク
（ｌり７０）、第２３頁〜第１０．２頁　およびＡ、　
Ｍ、クックおよびＭ、　Ｒ，Ｗ、ブラウン、Ｊ、　Ａｐ
ｐｌ、　　Ｂａａ８、。

メＩ、Ｊｔ／（Ｉりｔよ〕参照。それ故、所定濃度の二
酸化塩素は、１０’〜１０７個の胞子の初期集団が前記
濃度暴露後２日間の観察後栄養塩地での生長を示さなか
ったならば滅菌剤として有効であると評価され得る。

以下の詳細な例にお−ては、バチルス・テプチリス・パ
ル・ニガーの胞子の標準懸濁液が、ダツドおよびプレイ
によ夕Ｊ、　Ａｐｐｌ−Ｂａａｔ＠ｒｉｏｌ−。

ｆｌｌ　　Ｉり（ｔｙｔｏ　）に記載のよ５に調製され
た。

培養用試験紙ストリップは、ガラスペトリ皿において胞
子のメタノール懸濁液０．Ｊｄを予消毒ワットマン３ｍ
ｍ紙の７　Ｘ　３１ｍｍのストリップに添加することに
よって作られた。紙は、真空乾燥され（３０℃１．ｚｒ
インチＨｇ−で３θ分）、そして使用前に周囲温度およ
び湿度（コＯ〜３０℃、相対湿度侵〜ｂｏｇ）に保たれ
た。このように作られた各ストリップ上の胞子負荷は、
約１．≠×７０６個の胞子であった。

金属箔試験片は、／ｌＸ２ｔｍｍ平方のアルミ箔を小カ
ップにすることによって作られた。とれらは、ガスベト
リ皿において消毒された。各カップに、胞子のメタノー
ル懸濁液ｏ、、２ｄが添加された。カップは、周囲温度
で乾燥され、そして使用前に周囲温度および湿度に保持
された。各カップ上の胞子負荷は、約７．≠×ＩＯ′個
の胞子であった。

本発明の実施は、以下の詳細な例を参照するととにより
て更に例示される。

例１ ｔｏｏｏｙｘｌの一ロ丸底フラスコは、滴下漏斗および
磁気攪拌機を備えて−た。ガラスウールフィルターおよ
びニードル弁付きの窒素ガス用入口管は、窒素が反応混
合物の表面以下に入れられ得るよ５に位置決めされた。

出口管は、ニードル弁を備え、そしてガスが反応器の頂
部から暴露容器に通過され得るように位置決めされた。

隔壁に蓋をした口、圧力計、および入口および出口付き
の２０００−のガラス製反応がまは、暴露容器として使
用された。１ｏｏｏｖｔｔのフラスコの出口管は、暴露
容器の入口に連結された。

典型的なランにおいては、１０１００Ｏのフラスコに窒
素下でＪ’Ｓ亜塩素酸ナトリウム水溶液１００１１１が
仕込まれた。弁のすべては、閉じられ、そして水（ｏｏ
ｒｎｌ中の過硫酸カリウム４．０ｇの溶液が、攪拌下に
滴下された。反応混合物は、２７℃においてｓｏ、ｔｉ
ｓ分間攪拌されて二酸化塩素ガスの発生を完了した。前
記方法によって発生された二酸化塩素ガスの相対湿度は
、約ｂｏ４であった。

暴露室は、３〜６個の胞子被覆紙ストリップまたはアル
ミ箔カップで負荷された。各々は、個々のガラスベトリ
皿に収容された。胞子被覆紙ストリップおよびアルミ箔
カップは、前記方法で枯草菌（Ｂ−ａｕｂｔｉ　１１ｉ
＋　）の胞子のメタノール懸濁液から作られた。文献に
おいては、メタノール暴露は化学滅菌に対する胞子の感
度を高めることができることが報告されている。室は、
窒素で掃引さへ閉じられ、次Ａで排気された（約３イン
チＨｇ）。

反応器から導く管上の出口弁は、開けられ、そして反応
器から入れられた二酸化塩素ガスの量は、圧力計で増圧
の読みを行５ことによって制御された。出口弁は、閉じ
られ、次いで暴露容器内の圧力は、窒素の導入によって
ｌ気圧にされた。

暴露容器内の雰囲気は、隔壁を経て気密注射器によフ雰
囲気ｏ、ｓ−，ｚ、ｏｔｘｔの除去によって直ちに試料
採取された。二酸化塩素濃度は、ウェラー等、Ｍｉｏｒ
ｏｏｈ＠ｍ、　　Ｊ、、　　２３　、　１４０　（／り
７１）　　の方法によって測定された。Ｗ分が経過した
後、雰囲気は、再度試料採取された。次いで、暴露室は
、排気され、そして−過空気で再充填された。排気およ
び再売填工租は、繰ル返され、室は開けられ、そして内
容物は、消毒条件下で除去された。

紙ストリップは、トリブチケース（ｔｒｙｐｔｉｏａｓ
＠）　’大豆ブイヨンの個々の管に無菌的に移され、そ
して３７℃で培養された。胞子成長の有無を決める観察
は、３時間後および４時間後に行われた。弘Ｓ時間後成
長を示さなかった管は、１週間培養され、そして１時間
毎に観察された。成長が１週間後に観察されなかりたな
らば、ストリップは、陰性または消毒と記録された。

暴露後、箔は、滅菌水〃ｄおよび若干のガラスピーズを
含有する個々の管に移された。強振トウして胞子を離し
かつ懸濁させた後、懸濁液０．／Ｉｄは、トリブチケー
ス大豆寒天のプレート上に再度入れられた。プレートは
、３７℃で培養され、そして紙ストリップの場合に前に
記載したように観察された。適当なコントロールストリ
ップおよび箔は、これらの測定に付された。１１種の特
定の２ンの結果は、例コ〜ｌりとして表工に総括される
。

表Ｉ λ　　　　　／　／　　　　　　　０／ｌ　　　　　ら
４Ｊ　　　　　　／、２　　　　　　　ｏＡ０７１４を
一！　　　　　　　φ　　　　ル４ｊ　　　　　　ｊ　
／　　　　　　　１１ｌ　　　　　Ｏ／ｌぶ　　　　　
３４！　　　　　　　φ　　　　よ潰７　　　　　　、
？　ｊ　　　　　　　１６Ｏ／１１　　　　　４ｔ０　
　　　　　０７１　　　　　０／ＩＰ　　　　　グｌ　
　　　　　Φ４　　　　の４１０　　　　　杯　　　　
　Φリ　　　　φ１１　　　　　≠！　　　　　　の／
ｌ　　　　　Ｏ／ｌ／　、２　　　　　４ｔＪ　　　　
　　　Ｏ／ｌ　　　　　Ｏ／ｌｉ３＆ｒ　　　　　　　
ｏ／６　　　　　ｏろ／弘　　　　　　　６タ　　　　
　　　　１１ｌｏ１６／Ｊ　　　　　　７１　　　　　
０ろ　　　　０ろｌΔ　　　　　ｔ≠　　　　　　Ｏろ
　　　　０ろ１７　　　　　　　　　タ＄　　　　　　
　　　　　ｏ７ｔ　　　　　　　　　ｏ７ｔ／　ｆ　　
　　　　　　　’Ｆ　ｌｒ　　　　　　　　　　Ｏ／ｌ
　　　　　　　　Ｏ／ｌ／タ　　　　　　１１Ｊ　　　
　　　　　　０Ａ　　　　　　の４☆　暴露時間／時間
、成長が観察されるストリップまたはカップの数／さら
されたストリップまたはカップの数の結果。

例２〜／りの結果は、少なくとも１１０ｍ９／ｌの二酸
化塩素濃度が乾燥枯草菌胞子で汚染された紙ストリップ
を消毒するのに有効であシ、従って多分存在する如何な
る他の微生物を殺すのに有効であったことを実証する。

例５、７および／４！で観察される成長のばらつきの発
生は、ランダムな実験誤差のためと大部分無祈され得る
。生物標準の実験室法の更に厳しい制御は、使用される
ガス濃度の完全な範囲にわたって有効な消毒を示すであ
ろうことが予期される。同様の濃度は、認知できる分解
または残渣付着を生じずに他の種類の多孔有機表面１例
えばゴム、ガス透過性プラスチック、スポンジ、植物材
料、木材等を消毒することが予期されるであろう。

二酸化塩素の濃度少なくとも３５■／ｌは、乾燥胞子で
汚染されたアルミ箔を消毒するのに適していた。例乙に
おける苗土で観察された成長は、多分ランダムな実験誤
差のためであった。その理由は、よシ低いガス濃度範囲
が終始一貫して消毒を生じたからである。この結果は、
ガス消毒剤に対して通常不透過性である他の非有孔性表
面、例えばステンレス鋼、メッキ鋼、アルミニウムおよ
びニッケルなどの金属または非有孔性プラスチックス、
磁器、セラミックス、またはガラスから作られる医療器
具または歯科医療器具の表面が同様の条件下で容易に消
毒されるであろ′うという予想を導いた。

二酸化塩素ガスは、ガス透過性紙エンベロープ（ｅｎｖ
ｅｌｏｐｅｓ　）に密封されている商業上人手可能な胞
子ストリップを消毒するのにも成功裡に使用されている
。このような材料を消毒するのに使用できる方法は、後
述される。

例２０ ６個のスボルジ（５ｐｏｒｄｉ■）紙胞子ストリップ（
ペンシルバニア州エリ−のアメリカン・ステリライザー
・コーボレーシ盲ン）〔各々は枯草菌おヨヒバチルス・
ステアロテルモフィルス（Ｂ。

ｓｔｅａｒｏｔｂｅｒｍｏｐｂｉｌｕｓ　：　ＮＣＴＣ
１０００３）の胞子の混合物を含有し、そして各々はグ
ラシンペーパーの密封消毒エンベロープ内に密閉されて
いる）は、例１に記載のように二酸化塩素ガス３ｏおよ
びｉｏ。

ｍ９／ＩＩを含有する雰囲気にさらされる。密封胞子ス
トリップは１例１に記載のよ５に暴露室から取シ出され
、消毒条件下で開けられ、そして培養される。成長水準
は、２日の培養後に観察される。

このことは、ストリップがこれらの条件下で有効に消毒
されることを示す。

それ故、二酸化塩素は、容器材料と著しくは反応せずに
、ガス透過性容器材料、例えば被覆紙および非被覆紙、
プラスチックシート等に密封される汚染表面を有効に消
毒するであろうことが予期される。このようなエンクロ
ージャーを容易に透過する有効濃度の二酸化塩素の能力
は、輸送時および貯蔵時に消毒状態で維持させるために
包装後好ましくは消毒される医療品の消毒における応力
を見出すであろう。

例Ｕ この実験においては、７２個のスボルジ紙胞子ストリッ
プ（ペンシルバニア州エリ−のアメリカン参ステリライ
ザー〇コーボレーシ璽ン）が、使用された。各ストリッ
プは、グラシンエンベロープ内に密閉され、そしてスト
リップは、枯草菌およびバチルス・ステアロテルモフィ
ルス（Ｎ　ＣＴ’Ｃ１０００３）の胞子の混合物で汚染
された。それらのグラシンエンベロープ内のストリップ
は、３組に等分された。１組は、通常の実験室雰囲気中
に貯蔵され、■組は制御相対湿度３３４の室内に入れら
れ、一方■組はドライライト（Ｄｒｉｓｒｉｔａ　）上
でデシケルターに入れられた。ストリップは、３日間そ
れらの環境と平衡された。貯蔵期間の終シに。

■、■および■組のストリップは、２群ＡおよびＢに等
分され、次いで後述の方法で暴露室の暗くされた内部内
で二酸化塩素にさらされた。

Ａ群内のストリップは、約、２７℃の暴露室において高
湿度条件にさらされた。増湿は、約：１フインチｎｇ　
の真空を２１の暴露室に引き、次いで蒸留水約０．／ｒ
ａｌを排気室に注入することによって達成された。暴露
室内の相対湿度は、約７０４よりも高かった。Ａ群のス
トリップは、室内で湿潤条件に約２０分さらされた。所
望濃度水準の二酸化塩素が、室からの湿潤空気の前排出
なしに室に導入された。

ストリップは、約：２７℃の二酸化塩素に約２時間さら
された。

Ｂ群のストリップがＡ群のストリップに関して前記した
予備増湿法に付されない以外は、Ｂ群のス）４１ツブは
、Ａ群のものと同様の方法で二酸化塩素にさらされた。

Ｂ群を処理するのに使用された二酸化塩素／キャリヤー
ガスの相対湿度は、約ｌｏ４未満であった。Ａ群および
Ｂ群のストリップの両方を処理するのに使用された二酸
化塩素は、微粉砕亜塩素酸ナトリウムへの塩素ガスの通
過によって発生された。

消毒後、胞子′ストリップは１例１に記載の方法で消毒
条件下で暴露室から取シ出され、そして培養された。結
果は、細菌成長が観察されたストリップの数／処理スト
リップの数によって表■に総括される。

表■ ＪＪ−６Ｏ／４ｔ　　０／４ｔ　　　ψ、２５Ｆ、０　
　　　０／Ｉｔ　　　　　Ｏμ　　　　　Ｏ／ぴ９、／
　　　　　　　　　　　３μ　　　　　　　　　コ／Ｘ
ＧＺ　　　　　　　　　　　３７メ弘６１．７　　　　
　φ　　　　Ｏμ　　　　　φ！９、タ　　　　　　　
　　　ダ／イｌ　　　　　　　　　Ｏ／乙ｌ　　　　　
　　　　　グ／〆１３１　／　　　　　１１ｌＡＯ／４
Ａ　　　　　４１／Ｉｔ表■は、Ａ群の増湿胞子が約２
９”９　／　１以上の濃度の二酸化塩素ガスの作用によ
って消毒されたことを示す。対照的に、乾燥二酸化塩素
ガスで処理されかつ消毒剤の適用前に増湿されなかった
Ｂ群の胞子（Ｉ組および■組）は、二酸化塩素ガスに対
してはるかに抵抗性であった。Ｂ群のストリップ（Ｉ組
）に関して認められた細菌成長は、ストリップが消毒前
にさらされた実験室内の低い湿度条件（ＲＨ約／Ｓ憾で
あると概算）、並びにストリップが乾燥二酸化塩素消毒
剤（ＲＨ約１ｏｅｉｒ未満）で処理されたという事実に
起因する。

表■は、枯草菌汚染紙ストリップおよびアルミ箔カップ
についてのデータを示す。水性胞子懸濁液が汚染物とし
て使用された以外は、箔カップおよび紙ストリップは、
前記方法で汚染された。胞子汚染紙ストリップおよび箔
カップは、暴露室の暗くした内部において表■に明記の
各種の濃度の二酸化塩素にさらされた。暴露時間は、２
時間であった。湿度条件についての制御は、行われなか
った。この試みにおいては、二酸化塩素ガスは。

乾燥微粉砕亜塩素酸ナトリウムのカラムへの塩素の通過
によって乾燥形態で発生された。更に、箔カップおよび
紙ス）ＩＪツブは、乾燥しておシ、そして室温および比
較的低い周囲湿度条件（ＲＨ約７５壬未満）において数
日間維持された。従って、表■によって示されるような
消毒剤に対する胞子の見掛抵抗性は、比較的乾燥状態に
あるので耐消毒性である胞子を処理するための乾燥消毒
剤ガスの使用の組み合わせのためであると信じられる。

表■ 箔カップ ｔｏ、ｒ　　　φ　　φ　φ　０ρ　θＡ３８、３　　
　慢４　　λ／≠　φ　１１７／４！　　０／’１．２
３．≠　　４’／４’　　　の乍　ｏ／ｌｉ　　φ　０
／Ｉｆ／９、ｌ　　　　　　φ　　　　　　φ　　　　
２／ｕ　　　　　３７ンレ　　　　Ｉ１１しｉ４８、ｚ
　　　φ　　Ｊ／ｉｉ　　φ　ｉ／ｌ　　Ｏρ／、２．
７　　　φ　　φ　の’４’　　０／’Ｉ　　１１４’
７、Ｊ　　　４Ｌ／４ｔｊ／４’　　φ　慢４０Ａｊ、
ｔ　　　汐４　　≠汐　φ　φ　３Ａリ　　汐４　　作
４　作４　φ　０ 紙ストリップ ＪＯ，ｌｒ　　　４’／４’　　　４’／４’　　　０
／’Ｉ　　　Ｏ／ｕ　　　Ｏ／’１ｓｂ、Ｊ４Ｌ／４ｔ
４ｔ／ｐ　　　ｏ／ｐ　　　ｏ／ａ　　　ｏ汐λ３．≠
　　４’／４’　　　、２／４ｔ１１４’　　　φ　　
０Ａ／？、／　　　　　　４’／４’　　　　　　４’
／４’　　　　　−２／４’　　　　　０／’Ｉ　　　
　　Ｏ／４ｔ１４、！　　φ　　≠汐　　ｌ汐　　Φ４
０７４／、２．７　　　ｊＡ　　３汐　　ｏ／ａ　　　
φ　　Ｏ／≠７．３　　　φ　　φ　３２４　　　ウ乍
　　ｏ／ｐｊ、　ｒ　　　４’／４！　　　Ｉ／−１１
−の乍　　１６　　Φ４４、≠　　４ｔ／４Ａ　　　φ
　コβ　　Ｏ汐　　Φ４☆　汚染物品上の胞子の予消毒
数 酋成長した数／さらされた数 例ｎ 枯草菌の胞子で被覆された３’？０個のガラスカップは
、Ａ群およびＢ群に等分された。Ａ群は、湿度条件につ
いての制御なしに例２ノに記載の乾燥法によって発生さ
れた二酸化塩素にさらされた。Ｂ群の汚染ガラスカップ
は、例２ノの方法に従って増湿され、次いで二酸化塩素
ガスにさらされた。Ａ群およびＢ群の両方は、密閉暗室
においてガス状消毒剤に約２時間さらされた。データは
、表■に与えられる。表■においては、肩数字のある数
（ＪＯ６等）は、胞子の予消毒数／カップを示し、一方
表■の本文に与えられる数は、消毒後の培養時に生きた
細菌を生じたガラスカップの数（消毒された６個のカッ
プのうちの数）を表わす。

表■ Ａ群 予増湿なし １１４’、Ｊ　　　Ａｌ１”　　　ｔＡＪ１６　　Ｏ／
４　０／＆ハ、≠　　６／乙　　　６Ａ　　〜４　　よ
β　　Ｏμｕ、ｙ　　　ｉ７ｔ　　　　ｔ７ｔ　　　＜
ｘ７ｇ　　　３７ａ　　　／７ｔ４Ｉよ、４ｔ　　　ｔ
／ｌ　　　　ｔ／ｌ　　　←／ｌ　　　！／ｌ　　　Ｏ
／ｌλ９、ＯｊＡ　　　　　　４／ｊ　　　　　ｊ／ｊ
　　　　　よ７’Ｇ　　　　　ｌ／１．２＋４．Ｊ　　
　ぶＡ７／４　　４／ｊ　　　リ４　　≠ろｒ、２　　
４Ａ　　　　←／Ｊ　　　Ｊ／ｊ　　　ｊ／７　　　Ａ
ｌ１３、ｔ　　　〜／７　　　　ｊＡ　　４Ａ　　４Ａ
　　ＪＡＢ群 予増湿 ｌ１７、．７　　　　０ン／ｌ’　　　　　　　０／ｌ
　　　　　Ｏ／イ　　　　ｏ７ｔ　　　　　ｏン／７４
！７．．２　　０座　　　Ｏ潰　　〜４　０ろ　　０ｈ
ｊＯ，Ｉ　　　Ｏ１６　　　　Ｏ／６　　０／ｌ　　　
Ｏ／ｌ　　　Ｏ／＆☆　成長した数／さらされた数；　
消毒は２７℃で実施された。

例Ｊ この実験においては、試験物は、バチルス・サブチリス
・バル・ニガー胞子の水性懸濁液０，１ｍｌを小さいガ
ラスカップ（り＋ａｘＸ／！■）に入れるととによって
作られた。カップは、消毒ベトリブレート（各々は５個
の試験カップを含む）において２時間真空乾燥された。

各試験カップは、胞子負ナトリウムに通過させるととに
よって生成された。

試験カップは、以下の表に示された温度、暴露時間およ
び湿度において消毒された。

表Ｖ −２０の４並 ／７６Ａ ｌコ　　　ｉ１６ ｉｏ　　　　ｔろ ７　　　　　　　ｔ／ｌ ｔ　　　ダ／５、ｔろ ｚＡｌｌＡ ≠　　　コβ Ｊ　　　　　　　ｊＡ ☆　室および内容物は、室への表示濃度の二酸化塩素の
導入前に２フインチＨｇ真空において　水ｏ、ｔｍｌで
３分間増湿された。室内の相対湿度は、約ざＯチであっ
た。

☆☆　値は、成長を示すカップのｅ、／さらされたカッ
プの数として与えられる。

表■ ３２　　　　　　　　　　　　　　　　よｈ顛コア　　
−座 、２３３Ａ 、２＋２１６ λ／　　　　　１１ｌ。

ｌタ　　　　　　　　Ｊ／ｌ　　　　　　　　　　　　
　　／７ｔＩＩ　　　≠　　　　！ろ ／７　　　　　１１ｌ ＩＪ　　　　　Ｏ７ｔ ／！　　　　　　　　Ｊ／Ｇ ／４’１Ａ ｉｉ　　　　　　　　を汐 ｔ　　　　　０７１　１４ Ｊ″　　　　　　　　φ コ　　／ろ　φ ／　　３ろ　３潰　！座、Ａ／ｊ ☆　室および内容物は、室内への二酸化塩素ガスの導入
前に２フインチＨｇＸ空におりて水０．／ｄで３分間増
湿された。室内の相対湿度は、約♂ｏ％であった。

★☆　値は、成長を示すカップの数／さらされたカップ
の数として与えられる。

表■ ６７　　．２１１コア ｊ／　　　　　　　　　０／６．　ｏ１６≠７０１１コ ４’４’　　ｌ１１２ ３タ　　　　　　　　　　　０／ｌ Ｊ／　　　　　　　ｌ、１１コ ．２／　　　　　　　φコ 、２００座 ／タ　　　　ｏ１１λ　　　　の４７☆／ｒ　　７１１
２ １７１Ｏ１１コ ｉＡ　　　　　　　　　ｌ／ｌ、　０１６ｌグ　　　　
　　７１１コ ＩＪ　　　　　　　　　を座、λろ ／λ　７０／Ｉλ 表　■　（つづき） ／　０　　　　　　　　０／ｌ　　　　ψλタ　　　　
　　ン１１ン、２ 　　Ｖｋ ｔ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ＯＡ、Ｏ
Ａｊ　　　　　　　　０／７ １１、２１１コ ０、　ｊ　　　　　　　　　　　　　　／　、２１１λ
０、λ　　／　１１１７、 ☆　室および内容物は、二酸化塩素ガスの導入前に２フ
インチＨｇ真空で水ｏ、ｔｗｌで３分間増湿された。室
の相対湿度は、約ｒｏ％であった。

☆☆増湿は、２フインチＨｇ真空で水Ｏ，コゴで６０分
間行われ、ＲＨは約ｑｏ％であった。

☆☆☆値は、成長を示すカップの数／さらされたカップ
の数として与えられる。

☆☆☆☆　データは、実験誤差のためであると信じられ
る。

前記データは、使用された増湿法にお込ては、最適の消
毒が暴露時間コ時間を使用して２７℃の消毒温度におり
で得られたことを示す。細菌成長が１５℃および３７℃
で実施された試験時に認められたが、消毒は、二酸化塩
素暴露時間を延長することによってそれらの温度におい
て達成できたと信じられる。前記データは、二酸化塩素
による化学消毒がプロセスを大体室温（例えば、３〜３
０℃）よりも高一温度（３７℃）または低い温度（ｚＳ
’ｃ）で実施することによっては高められないことも示
す。

例評 ガス状化学消毒剤として使用するのに好適な窒素と二酸
化塩素ガスとの乾燥混合物は、次の通Ｑ調製される。

ニードル弁調整器付きの標準シリンダーからの塩素ガス
が、Ｔ字管によって窒素流にゆつ〈９と導入される。次
いで、窒素希釈塩素流は、直列の３個のカラムに含有さ
れた微粉砕亜塩素酸ナトリウム上に通過される。最初め
コ個のガラスカラムは、Ｊ、ｊＸ／４４０１のカラムを
与えるように亜塩素酸ナトリウムを充填したガス乾燥ビ
ンからなる。直列の第゛三カラムは、１ｘｔｍｃｘｔの
カラムを与えるよ５に充填されたガラス管からなる。最
後のカラムを出るガスは、排気暴露室（例えば、約２フ
インチＫｇ）に直接導入され、または後に使用する排気
フラスコに導入され得る。

本発明の成る代表的具体例が本発明を例示する目的でこ
こに記載されて込るが、本発明の範囲および精神から逸
脱せずに、その修正を施すことができることが当業者に
よって認識されるであろう。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、本質上水分を含まない表面上の胞子を湿潤ガス状雰
   囲気にさらして、雨後化学消毒に対する前記胞子の感受
   性を高め、次いで前記胞子を不活性キヤリヤーガス中の
   、前記表面を消毒するのに有効な量のガス状二酸化塩素
   にさらすことを特徴とする胞子で汚染された本質上水分
   を含まない表面の消毒法。 ２、前記湿潤ガス状雰囲気が、湿潤空気からなる特許請
   求の範囲第１項に記載の方法。 ３、前記湿潤ガス状雰囲気が、大体室温から約３０℃ま
   での範囲内の温度である湿潤空気からなり、そして前記
   湿潤空気の相対湿度が、約６０％よりも高い特許請求の
   範囲第２項に記載の方法。 ４、前記表面が、前記湿潤空気に少なくとも約１５分間
   さらされ、直後に前記胞子が、前記表面を消毒するのに
   十分な時間前記ガス状二酸化塩素にさらされる特許請求
   の範囲第２項に記載の方法。 ５、前記不活性キヤリヤーガス中の二酸化塩素の濃度が
   、少なくとも約１０ｍｇ／ｌである特許請求の範囲第１
   項、第２項、第３項または第４項に記載の方法。 ６、前記胞子が、バチルス・サブチリス・バル・ニガー
   の胞子である特許請求の範囲第３項に記載の方法。 ７、前記表面を消毒するのに使用される前記ガス状二酸
   化塩素が、塩素を乾燥亜塩素酸ナトリウムに通過させる
   ととによつて生成され、前記不活性キヤリヤーガス中の
   前記二酸化塩素の濃度が、約１０〜約４０ｍｇ／ｌであ
   り、そして前記相対湿度が、少なくとも約７０％である
   特許請求の範囲第３項に記載の方法。 ８、前記表面を消毒するのに使用される前記二酸化塩素
   が、水性亜塩素酸ナトリウムを過硫酸塩化合物と反応さ
   せることによつて生成される特許請求の範囲第３項に記
   載の方法。 ９、前記湿潤雰囲気暴露直前に、前記表面上の前記胞子
   が、約３０％未満の周囲相対湿度にさらされた特許請求
   の範囲第３項に記載の方法。 １０、前記相対湿度が、約７０〜９５％であり、そして
   前記表面を汚染する前記胞子が、乾燥状態である特許請
   求の範囲第３項に記載の方法。 １１、前記胞子が、前記二酸化塩素ガスに少なくとも約
   ２時間さらされる特許請求の範囲第５項に記載の方法。 １２、前記表面が、物品の表面からなり、そして消毒時
   に、前記物品が水分／二酸化塩素ガス透過性である材料
   内に収容される特許請求の範囲第１項または第３項に記
   載の方法。 １３、前記胞子が、暗所または柔らかな光の中で前記ガ
   ス状二酸化塩素にさらされる特許請求の範囲第１項、第
   ３項または第７項に記載の方法。 １４、前記二酸化塩素ガスが、約２７℃の温度である特
   許請求の範囲第１１項に記載の方法。 １５、前記表面が、医療器具または歯科医療器具のガス
   不透過性表面からなる特許請求の範囲第１１項に記載の
   方法。 １６、（ａ）胞子で汚染された本質上水分を含まない表
   面を包含する物品を暴露室に入れ、そして前記室におい
   て （ｂ）ガス状二酸化塩素での化学消毒に対する前記物品
   を汚染する胞子の感受性を高めるのに十分な湿潤ガス状
   雰囲気と前記胞子との接触を与え、そして （ｃ）前記物品を消毒するのに有効な量の二酸化塩素ガ
   スを前記湿潤ガス状雰囲気に導入することを特徴とする
   胞子で汚染された本質上水分を含まない表面を包含する
   物品の消毒法。 １７、前記湿潤ガス状雰囲気が、前記室内で大体室温よ
   りも高い温度から約３０℃までに加熱されている湿潤空
   気からなり、そして前記湿潤空気の相対湿度が約６０％
   よりも高い特許請求の範囲第１６項に記載の方法。 １８、前記相対湿度が、約７０％〜約９５％であり、そ
   して前記室に入れられる直前に、前記胞子が、約３０％
   未満の周囲相対湿度にさらされた特許請求の範囲第１７
   項に記載の方法。 １９、前記二酸化塩素が、不活性キヤリヤーガス中の二
   酸化塩素のガス状混合物からなり、そして二酸化塩素の
   濃度が、少なくとも約１０ｍｇ／ｌをである特許請求の
   範囲第１７項に記載の方法。 ２０、前記物品を消毒するのに使用される前記二酸化塩
   素が、塩素を乾燥亜塩素酸ナトリウムに通過させること
   によつて生成される特許請求の範囲第１９項に記載の方
   法。 ２１、前記二酸化塩素ガスが、大体室温から約３０℃ま
   での温度である特許請求の範囲第１９項に記載の方法。 ２２、前記表面が、金属、ガラス、磁器、ゴムまたはプ
   ラスチツクからなり、そして前記胞子が、乾燥状態であ
   る特許請求の範囲第２１項に記載の方法。 ２３、前記湿潤空気が、前記室内の水を、水を蒸発する
   のに十分な減圧にさらすことによつて与えられる特許請
   求の範囲第１７項に記載の方法。 ２４、前記胞子が、バチルス・サブチリス・バル・ニガ
   ーの胞子である特許請求の範囲第１９項に記載の方法。 ２５、消毒時に、前記物品が、水分／二酸化塩素ガス透
   過性材料内に収容される特許請求の範囲第１７項に記載
   の方法。 ２６、前記二酸化塩素ガスが、約２７℃の温度である特
   許請求の範囲第２１項に記載の方法。 ２７、前記表面が、前記二酸化塩素ガスに少なくとも約
   ２時間さらされる特許請求の範囲第２１項または第２６
   項に記載の方法。 ２８、不活性キヤリヤーガスが、窒素である特許請求の
   範囲第１９項に記載の方法。 ２９、前記表面が、暗所または柔らかい光の中で二酸化
   塩素にさらされる特許請求の範囲第１９項に記載の方法
   。 ３０、胞子で汚染された本質上水分を含まない表面を二
   酸化塩素ガスと水蒸気とからなるガス状雰囲気にさらす
   ことからなり、そして前記雰囲気中の水蒸気の量は、前
   記二酸化塩素の殺胞子作用に対する前記胞子の感受性を
   高めるのに適していることを特徴とする胞子で汚染され
   た本質上水分を含まない表面を具備する物品の消毒法。 ３１、前記ガス状雰囲気が、湿潤空気と、不活性キヤリ
   ヤーガス中の二酸化塩素の予調製混合物とを混合するこ
   とによつて調製される特許請求の範囲第３０項に記載の
   方法。 ３２、前記不活性キヤリヤーガスが、窒素である特許請
   求の範囲第３１項に記載の方法。 ３３、前記ガス状消毒剤が、二酸化塩素、水蒸気および
   不活性キヤリヤーガスの混合物からなる特許請求の範囲
   第３０項に記載の方法。 ３４、前記不活性キヤリヤーガスが、窒素である特許請
   求の範囲第３３項に記載の方法。 ３５、前記混合物中の二酸化塩素の濃度が、少なくとも
   約１０ｍｇ／ｌである特許請求の範囲第３３項に記載の
   方法。 ３６、前記ガス状雰囲気が、大体室温から約３０℃まで
   の温度であり、そして前記雰囲気の相対湿度が、少なく
   とも約６０％である特許請求の範囲第３１項または第３
   ３項に記載の方法。 ３７、前記胞子が、バチルス・サブチリス・バル・ニガ
   ーの胞子である特許請求の範囲第３６項に記載の方法。 ３８、前記物品が、医療器具または歯科医療器具である
   特許請求の範囲第３０項に記載の方法。 ３９、前記表面が、暗所または柔らかい光の中で前記雰
   囲気にさらされる特許請求の範囲第３０項に記載の方法
   。 ４０、消毒時に、前記物品が、水分／二酸化塩素ガス透
   過性材料内に収容される特許請求の範囲第３０項に記載
   の方法。 ４１、消毒直前に、前記胞子が、約３０％未満の周囲相
   対湿度にさらされた特許請求の範囲第３０項、第３１項
   または第３３項に記載の方法。 ４２、前記混合物中の二酸化塩素が、塩素ガスを乾燥亜
   塩素酸ナトリウムに通過させることによつて生成された
   特許請求の範囲第３１項または第３３項に記載の方法。 ４３、表面上の乾燥胞子を湿潤ガス状雰囲気にさらして
   爾後化学消毒に対する前記胞子の感受性を高め、次いで
   前記胞子を不活性キヤリヤーガス中の、前記表面を消毒
   するのに有効な量のガス状二酸化塩素にさらすことを特
   徴とする乾燥胞子で汚染された表面の消毒法。 ４４、乾燥胞子で汚染された表面を二酸化塩素ガスと水
   蒸気とからなるガス状雰囲気にさらすことからなり、そ
   して前記雰囲気中の水蒸気の量は、前記二酸化塩素の殺
   胞子作用に対する前記胞子の感受性を高めるのに適して
   いることを特徴とする乾燥胞子で汚染された表面を包含
   する物品の消毒法。