JPH0582430A - 電子ビーム露光装置 - Google Patents
電子ビーム露光装置Info
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- JPH0582430A JPH0582430A JP23956191A JP23956191A JPH0582430A JP H0582430 A JPH0582430 A JP H0582430A JP 23956191 A JP23956191 A JP 23956191A JP 23956191 A JP23956191 A JP 23956191A JP H0582430 A JPH0582430 A JP H0582430A
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- rectangular
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- electron
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高精度な描画ができ、スループットが向上で
きることを目的とする。 【構成】 一方のビーム成形用アパーチャマスク１２の
形状を矩形に形成し、他方のビーム成形用アパーチャマ
スク１３を２つの矩形の間に４５°回転した矩形が介装
する形状に形成した。
きることを目的とする。 【構成】 一方のビーム成形用アパーチャマスク１２の
形状を矩形に形成し、他方のビーム成形用アパーチャマ
スク１３を２つの矩形の間に４５°回転した矩形が介装
する形状に形成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は可変成形ビーム方式の電
子ビーム露光装置に関する。
子ビーム露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、マスクやウェハ等の試料上に微細
パターンを形成するものとして、各種の電子ビーム描画
装置が用いられている。これらのうちで、可変成形ビー
ム方式の電子ビーム露光装置は描画スループットを向上
する上で極めて有効であり、描画装置の主流となってい
る。
パターンを形成するものとして、各種の電子ビーム描画
装置が用いられている。これらのうちで、可変成形ビー
ム方式の電子ビーム露光装置は描画スループットを向上
する上で極めて有効であり、描画装置の主流となってい
る。
【０００３】従来、この種の可変成形ビーム方式の電子
ビーム露光装置は、２つの矩形アパーチャマスクの電子
光学的重なりによりビームを成形し、この成形されたビ
ームによりパターンを描画する。つまり、図１１（ａ）
に示すように、第１及び第２の矩形アパーチャマスク５
１，５２の相対位置を制御することにより、これら第１
及び第２の矩形アパーチャマスク５１，５２の重なり部
分αで規定される矩形ビームを得る。従って、図１１
（ｂ）に示すようなパターン５４を描画するには、，
の僅か２回の露光で済むことになり、描画時間の短縮
が図れる。
ビーム露光装置は、２つの矩形アパーチャマスクの電子
光学的重なりによりビームを成形し、この成形されたビ
ームによりパターンを描画する。つまり、図１１（ａ）
に示すように、第１及び第２の矩形アパーチャマスク５
１，５２の相対位置を制御することにより、これら第１
及び第２の矩形アパーチャマスク５１，５２の重なり部
分αで規定される矩形ビームを得る。従って、図１１
（ｂ）に示すようなパターン５４を描画するには、，
の僅か２回の露光で済むことになり、描画時間の短縮
が図れる。
【０００４】ところが、図１１（ｃ）に示すようなパタ
ーン５５において、４５°の斜線を含む平行４辺形は
〜のように分割し矩形に近似して露光する方法が行わ
れるため、露光パターンに階段形状が生じパターン寸法
精度が低下する。この精度を上げるには階段形状を無視
し得るまで分割数を多くしなければならず、従って露光
回数が多くなり描画時間が増大してしまう。
ーン５５において、４５°の斜線を含む平行４辺形は
〜のように分割し矩形に近似して露光する方法が行わ
れるため、露光パターンに階段形状が生じパターン寸法
精度が低下する。この精度を上げるには階段形状を無視
し得るまで分割数を多くしなければならず、従って露光
回数が多くなり描画時間が増大してしまう。
【０００５】そこで、パターン５５を高速で描画する方
法として、図１２（ａ）に示すように、一方のアパーチ
ャマスク５２を４５°回転し、直角３角形の重なり部分
αを得る電子ビーム露光装置が提案されている。即ち、
図１２（ｂ）に示すように、かかる装置はパターン５５
を全て直角３角形に分割して露光する方式であり、パタ
ーン５５の平行４辺形部は，と少ない露光回数で寸
法精度良く描画される。しかし、矩形部に対する露光回
数は，と少なくとも２倍に増加する。つまり、斜線
を含まないパターンに対する描画時間は２倍になってし
まう。
法として、図１２（ａ）に示すように、一方のアパーチ
ャマスク５２を４５°回転し、直角３角形の重なり部分
αを得る電子ビーム露光装置が提案されている。即ち、
図１２（ｂ）に示すように、かかる装置はパターン５５
を全て直角３角形に分割して露光する方式であり、パタ
ーン５５の平行４辺形部は，と少ない露光回数で寸
法精度良く描画される。しかし、矩形部に対する露光回
数は，と少なくとも２倍に増加する。つまり、斜線
を含まないパターンに対する描画時間は２倍になってし
まう。
【０００６】そこで、図１３（ａ）に示すように、第１
及び第２のアパーチャマスク５６，５７の重なり部分α
により矩形ビーム及び直角３角形ビームを生成し、露光
回数を少なくする電子ビーム露光装置が「特開昭６０−
３０１３１号公報」に開示されている。即ち、この装置
では、第１のアパーチャマスク５６が矩形に形成され、
第２のアパーチャマスク５７は４５°回転した矩形の一
側に矩形を組み合わせた形状に形成されている。従っ
て、かかる装置によれば、図１３（ｂ）に示すように、
パターン５５の矩形部はと１回の露光で済ませること
ができ、平行４辺形部は，と２回の露光回数で寸法
精度良く描画できるので、描画時間の短縮化に有効であ
った。
及び第２のアパーチャマスク５６，５７の重なり部分α
により矩形ビーム及び直角３角形ビームを生成し、露光
回数を少なくする電子ビーム露光装置が「特開昭６０−
３０１３１号公報」に開示されている。即ち、この装置
では、第１のアパーチャマスク５６が矩形に形成され、
第２のアパーチャマスク５７は４５°回転した矩形の一
側に矩形を組み合わせた形状に形成されている。従っ
て、かかる装置によれば、図１３（ｂ）に示すように、
パターン５５の矩形部はと１回の露光で済ませること
ができ、平行４辺形部は，と２回の露光回数で寸法
精度良く描画できるので、描画時間の短縮化に有効であ
った。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】然し乍ら、上述した従
来の電子ビーム露光装置においては、第２のアパーチャ
マスク５７は４５°回転した矩形の一側に矩形を組み合
わせた形状なので、第１及び第２のアパーチャマスク５
６，５７により成形される矩形ビ−ムにより第１のアパ
ーチャマスク５６の全ての直角部の非直角性の有無が評
価できない。このため、第１及び第２のアパーチャマス
ク５６，５７の重なり部分αにより複種類の直角３角形
ビームを発生させる場合、各々の直角３角形ビームは第
１のアパーチャマスク５６の直角部を使用する場所が全
て異なるため、第１のアパーチャマスク５６の直角部の
何れかが非直角であるとき、各々の直角３角形の寸法精
度が高精度に得られないという問題点があった。
来の電子ビーム露光装置においては、第２のアパーチャ
マスク５７は４５°回転した矩形の一側に矩形を組み合
わせた形状なので、第１及び第２のアパーチャマスク５
６，５７により成形される矩形ビ−ムにより第１のアパ
ーチャマスク５６の全ての直角部の非直角性の有無が評
価できない。このため、第１及び第２のアパーチャマス
ク５６，５７の重なり部分αにより複種類の直角３角形
ビームを発生させる場合、各々の直角３角形ビームは第
１のアパーチャマスク５６の直角部を使用する場所が全
て異なるため、第１のアパーチャマスク５６の直角部の
何れかが非直角であるとき、各々の直角３角形の寸法精
度が高精度に得られないという問題点があった。
【０００８】また、矩形ビーム或いは直角３角形ビーム
を発生させる場合、各々のビームで基準点に対する振り
戻し量が異なるため、パターン形成時に振り戻し量の差
異による精度の劣化が生じるという問題点があった。
を発生させる場合、各々のビームで基準点に対する振り
戻し量が異なるため、パターン形成時に振り戻し量の差
異による精度の劣化が生じるという問題点があった。
【０００９】更に、図１３（ｃ）に示すように、直角３
角形ビームを用いてそのビーム寸法より大きな幅を有す
る平行４辺形のパタ−ン５８を描画する場合、矩形ビー
ムを併用しなければならず、露光回数が増大するという
問題点があった。
角形ビームを用いてそのビーム寸法より大きな幅を有す
る平行４辺形のパタ−ン５８を描画する場合、矩形ビー
ムを併用しなければならず、露光回数が増大するという
問題点があった。
【００１０】本発明の目的は、上述した問題点に鑑み、
高精度な描画ができ、スループットが向上できる電子ビ
ーム露光装置を提供するものである。
高精度な描画ができ、スループットが向上できる電子ビ
ーム露光装置を提供するものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は上述した目的を
達成するため、２枚のビーム成形用アパーチャマスクを
備え、前記２枚のビーム成形用アパーチャマスクの電子
光学的重なりにより成形された電子ビームを試料上に照
射して、前記試料を所望パターンに露光する電子ビーム
露光装置において、一方の前記ビーム成形用アパーチャ
マスクの形状を矩形に形成し、他方の前記ビーム成形用
アパーチャマスクを２つの矩形の間に４５°回転した矩
形が介装する形状に形成したものである。
達成するため、２枚のビーム成形用アパーチャマスクを
備え、前記２枚のビーム成形用アパーチャマスクの電子
光学的重なりにより成形された電子ビームを試料上に照
射して、前記試料を所望パターンに露光する電子ビーム
露光装置において、一方の前記ビーム成形用アパーチャ
マスクの形状を矩形に形成し、他方の前記ビーム成形用
アパーチャマスクを２つの矩形の間に４５°回転した矩
形が介装する形状に形成したものである。
【００１２】また、一方の前記ビーム成形用アパーチャ
マスクの形状を矩形に形成し、他方の前記ビーム成形用
アパーチャマスクを少なくとも４つの直角３角形がビー
ム振り戻しの中心点を中心とする同心円上に同一方向に
配置される形状に形成したものである。
マスクの形状を矩形に形成し、他方の前記ビーム成形用
アパーチャマスクを少なくとも４つの直角３角形がビー
ム振り戻しの中心点を中心とする同心円上に同一方向に
配置される形状に形成したものである。
【００１３】
【作用】本発明においては、一方のビーム成形用アパー
チャマスクを２つの矩形の間に４５°回転した矩形が介
装する形状にしたので、矩形のアパーチャマスクの全て
の直角部の非直角性の有無が高精度に評価される。
チャマスクを２つの矩形の間に４５°回転した矩形が介
装する形状にしたので、矩形のアパーチャマスクの全て
の直角部の非直角性の有無が高精度に評価される。
【００１４】また、一方のビーム成形用アパーチャマス
クを少なくとも４つの直角３角形がビーム振り戻しの中
心点を中心とする同心円上に同一方向に配置される形状
にしたので、成形されるビーム形状に依存せず振り戻し
量が一定となり、振り戻し量の相違による寸法精度の劣
化が低減される。更に、台形ビームが成形され、描画に
おけるショット数が低減される。
クを少なくとも４つの直角３角形がビーム振り戻しの中
心点を中心とする同心円上に同一方向に配置される形状
にしたので、成形されるビーム形状に依存せず振り戻し
量が一定となり、振り戻し量の相違による寸法精度の劣
化が低減される。更に、台形ビームが成形され、描画に
おけるショット数が低減される。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の電子ビーム露光装置に係る実
施例を図１乃至図１０に基づいて説明する。
施例を図１乃至図１０に基づいて説明する。
【００１６】図１は可変成形ビーム方式の電子ビーム露
光装置の構成図である。同図において、１０は電子銃で
あり、この電子銃１０から発射された電子ビーム１１は
ビーム振り戻しの中心を軸に回転可能な第１のビーム成
形用アパーチャマスク１２を通って、投影レンズ１６に
よりビーム振り戻しの中心を軸に回転可能な第２のビー
ム成形用アパーチャマスク１３上に結像される。２つの
アパーチャマスク１２，１３の各アパーチャ１２ａ，１
３ａによって合成された成形アパーチャ像は縮小レンズ
１７，１８により縮小される。この縮小された成形アパ
ーチャ像は対物レンズ１９により試料面２０上に結像さ
れ描画される。
光装置の構成図である。同図において、１０は電子銃で
あり、この電子銃１０から発射された電子ビーム１１は
ビーム振り戻しの中心を軸に回転可能な第１のビーム成
形用アパーチャマスク１２を通って、投影レンズ１６に
よりビーム振り戻しの中心を軸に回転可能な第２のビー
ム成形用アパーチャマスク１３上に結像される。２つの
アパーチャマスク１２，１３の各アパーチャ１２ａ，１
３ａによって合成された成形アパーチャ像は縮小レンズ
１７，１８により縮小される。この縮小された成形アパ
ーチャ像は対物レンズ１９により試料面２０上に結像さ
れ描画される。
【００１７】ここで、１４，１５はコンデンサレンズ、
２１，２２は試料面２０上でのビーム位置を制御するた
めの偏向コイル、２３，２４は電子ビーム１１を所望の
位置に向けるための偏向板、２５，２６は軸合せコイ
ル、２７はブランキング板、２８，２９，３０は第１の
ビーム成形用アパーチャマスク１２のアパーチャ像を第
２のビーム成形用アパーチャマスク１３に対して位置合
せし、合成アパーチャの寸法・形状を制御するための偏
向器である。
２１，２２は試料面２０上でのビーム位置を制御するた
めの偏向コイル、２３，２４は電子ビーム１１を所望の
位置に向けるための偏向板、２５，２６は軸合せコイ
ル、２７はブランキング板、２８，２９，３０は第１の
ビーム成形用アパーチャマスク１２のアパーチャ像を第
２のビーム成形用アパーチャマスク１３に対して位置合
せし、合成アパーチャの寸法・形状を制御するための偏
向器である。
【００１８】図２に示すように、前記第１のアパーチャ
１２ａは矩形に形成され（図２ａ参照）、第２のアパー
チャ１３ａは２つの矩形の間に４５°回転した矩形が介
在する形状に形成されている（図２ｂ参照）。
１２ａは矩形に形成され（図２ａ参照）、第２のアパー
チャ１３ａは２つの矩形の間に４５°回転した矩形が介
在する形状に形成されている（図２ｂ参照）。
【００１９】かかる第１及び第２のアパーチャ１２ａ，
１３ａによれば、図３に示すように、第１のアパーチャ
１２ａと第２のアパーチャ１３ａの２つの矩形部との重
なり部分αによる矩形ビ−ムにより第１のアパーチャ１
２ａの４つの直角部の非直角性の有無が評価される。つ
まり、図４に示すように、第１のアパーチャ１２ａの直
角部が直角で、第１及び第２のアパーチャ１２ａ，１３
ａに回転ずれのない理想的な矩形ビームにより形成され
たテストパタ−ン５９と、図５に示すようなテストパタ
−ン６０とを比較することにより、第１のアパーチャ１
２ａの直角部の非直角性が評価される。同様に、図６に
示すようなテストパタ−ン６１により第１のアパーチャ
１２ａの回転ずれが評価される。このように、第１のア
パーチャ１２ａの非直角性及び回転ずれを評価すること
により、第１のアパーチャ１２ａの形状が調整される。
よって、図７に示すような４種類の直角３角形の寸法形
状精度が高精度に得られ、斜辺を含むパターンが高精度
かつ高速に描画される。
１３ａによれば、図３に示すように、第１のアパーチャ
１２ａと第２のアパーチャ１３ａの２つの矩形部との重
なり部分αによる矩形ビ−ムにより第１のアパーチャ１
２ａの４つの直角部の非直角性の有無が評価される。つ
まり、図４に示すように、第１のアパーチャ１２ａの直
角部が直角で、第１及び第２のアパーチャ１２ａ，１３
ａに回転ずれのない理想的な矩形ビームにより形成され
たテストパタ−ン５９と、図５に示すようなテストパタ
−ン６０とを比較することにより、第１のアパーチャ１
２ａの直角部の非直角性が評価される。同様に、図６に
示すようなテストパタ−ン６１により第１のアパーチャ
１２ａの回転ずれが評価される。このように、第１のア
パーチャ１２ａの非直角性及び回転ずれを評価すること
により、第１のアパーチャ１２ａの形状が調整される。
よって、図７に示すような４種類の直角３角形の寸法形
状精度が高精度に得られ、斜辺を含むパターンが高精度
かつ高速に描画される。
【００２０】図８は他の実施例に係る第１及び第２のア
パーチャ１２ａ，１３ａの平面図である。同図におい
て、第１のアパーチャ１２ａは矩形に形成され（図８ａ
参照）、第２のアパーチャ１３ａは４つの直角３角形１
３ｂがビーム振り戻しの中心点Ｏを中心とする同心円上
に同一方向かつ等間隔に配置される形状に形成されてい
る。
パーチャ１２ａ，１３ａの平面図である。同図におい
て、第１のアパーチャ１２ａは矩形に形成され（図８ａ
参照）、第２のアパーチャ１３ａは４つの直角３角形１
３ｂがビーム振り戻しの中心点Ｏを中心とする同心円上
に同一方向かつ等間隔に配置される形状に形成されてい
る。
【００２１】かかる第１及び第２のアパーチャ１２ａ，
１３ａによれば、図９（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すよ
うに、第１のアパーチャ１２ａと第２のアパーチャ１３
ａの直角３角形１３ｂとの重なり部分αにより形成され
る矩形、３角形及び台形の各々の４種類のビームは振り
戻しの中心点Ｏから夫々等距離に成形される。更に、図
９（ｄ）に示すように、同一寸法幅の形状の異なるビー
ムを形成する場合も振り戻し量の差異がほとんど存在し
ない。従って、ビーム形状の相違による振り戻し量はほ
ぼ一定となり、高精度な描画が可能になる。
１３ａによれば、図９（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すよ
うに、第１のアパーチャ１２ａと第２のアパーチャ１３
ａの直角３角形１３ｂとの重なり部分αにより形成され
る矩形、３角形及び台形の各々の４種類のビームは振り
戻しの中心点Ｏから夫々等距離に成形される。更に、図
９（ｄ）に示すように、同一寸法幅の形状の異なるビー
ムを形成する場合も振り戻し量の差異がほとんど存在し
ない。従って、ビーム形状の相違による振り戻し量はほ
ぼ一定となり、高精度な描画が可能になる。
【００２２】また、図１０に示すように、ビーム寸法よ
り大きな幅を有する平行４辺形のパタ−ン５８を描画す
る際、台形ビームを用いることにより、従来例の図１３
（ｃ）に示す６回の露光回数に比べ〜と４回の露光
回数で済み、スループットが向上する。
り大きな幅を有する平行４辺形のパタ−ン５８を描画す
る際、台形ビームを用いることにより、従来例の図１３
（ｃ）に示す６回の露光回数に比べ〜と４回の露光
回数で済み、スループットが向上する。
【００２３】尚、本実施例は電子ビームに限定されず、
イオンビームを含む荷電ビームに適用しても良い。
イオンビームを含む荷電ビームに適用しても良い。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、一
方のビーム成形用アパーチャマスクを２つの矩形の間に
４５°回転した矩形が介装する形状にしたので、矩形の
アパーチャマスクの全ての直角部の非直角性の有無が高
精度に評価される。従って、高精度に矩形ビーム及び直
角３角形ビームが成形できる。
方のビーム成形用アパーチャマスクを２つの矩形の間に
４５°回転した矩形が介装する形状にしたので、矩形の
アパーチャマスクの全ての直角部の非直角性の有無が高
精度に評価される。従って、高精度に矩形ビーム及び直
角３角形ビームが成形できる。
【００２５】また、一方のビーム成形用アパーチャマス
クを少なくとも４つの直角３角形がビーム振り戻しの中
心点を中心とする同心円上に同一方向に配置される形状
にしたので、成形されるビーム形状に依存せず振り戻し
量が一定となり、振り戻し量の相違による寸法精度の劣
化が低減され、高精度な描画ができる。更に、台形ビー
ムが成形されるので、描画におけるショット数が低減さ
れ、スループットが向上できる。
クを少なくとも４つの直角３角形がビーム振り戻しの中
心点を中心とする同心円上に同一方向に配置される形状
にしたので、成形されるビーム形状に依存せず振り戻し
量が一定となり、振り戻し量の相違による寸法精度の劣
化が低減され、高精度な描画ができる。更に、台形ビー
ムが成形されるので、描画におけるショット数が低減さ
れ、スループットが向上できる。
【図１】本発明の電子ビーム露光装置の構成図である。
【図２】本発明のビーム成形用アパーチャの平面図であ
る。
る。
【図３】本発明のアパーチャの重なりによる矩形ビーム
を示す図である。
を示す図である。
【図４】本発明のアパーチャ重なりの理想状態及び理想
パタ−ンを説明する図である。
パタ−ンを説明する図である。
【図５】本発明アパーチャの非直角性の評価例を示す図
である。
である。
【図６】本発明アパーチャの回転ずれの評価例を示す図
である。
である。
【図７】本発明のアパーチャの重なりによる直角３角形
ビームを示す図である。
ビームを示す図である。
【図８】本発明の他のビーム成形用アパーチャの平面図
である。
である。
【図９】本発明の他のアパーチャの重なりによるビーム
形状を示す図である。
形状を示す図である。
【図１０】本発明のビーム寸法より大きな幅を有する平
行４辺形パタ−ンにおけるショット分割を示す図であ
る。
行４辺形パタ−ンにおけるショット分割を示す図であ
る。
【図１１】従来のアパーチャマスクの重なりによる矩形
ビーム及びパタ−ンのショット分割を示す図である。
ビーム及びパタ−ンのショット分割を示す図である。
【図１２】従来のアパーチャマスクの重なりによる直角
３角形ビーム及びパタ−ンのショット分割を示す図であ
る。
３角形ビーム及びパタ−ンのショット分割を示す図であ
る。
【図１３】従来のアパーチャマスクの重なりによるビー
ム形状及びパタ−ンのショット分割を示す図である。
ム形状及びパタ−ンのショット分割を示す図である。
１０ 電子銃 １１ 電子ビーム １２ 第１のアパーチャマスク １２ａ 第１のアパーチャ １３ 第２のアパーチャマスク １３ａ 第２のアパーチャ １４，１５ コンデンサレンズ １６ 投影レンズ １７，１８ 縮小レンズ １９ 対物レンズ ２０ 試料面 ２１，２２ 偏向コイル ２３，２４ 偏向板 ２８，２９，３０ 偏向器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 滝川 忠宏 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１ 株式会 社東芝総合研究所内 (72)発明者 安瀬 博人 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１ 株式会 社東芝総合研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 ２枚のビーム成形用アパーチャマスクを
備え、前記２枚のビーム成形用アパーチャマスクの電子
光学的重なりにより成形された電子ビームを試料上に照
射して、前記試料を所望パターンに露光する電子ビーム
露光装置において、一方の前記ビーム成形用アパーチャ
マスクの形状を矩形に形成し、他方の前記ビーム成形用
アパーチャマスクを２つの矩形の間に４５°回転した矩
形が介装する形状に形成したことを特徴とする電子ビー
ム露光装置。 - 【請求項２】 ２枚のビーム成形用アパーチャマスクを
備え、前記２枚のビーム成形用アパーチャマスクの電子
光学的重なりにより成形された電子ビームを試料上に照
射して、前記試料を所望パターンに露光する電子ビーム
露光装置において、一方の前記ビーム成形用アパーチャ
マスクの形状を矩形に形成し、他方の前記ビーム成形用
アパーチャマスクを少なくとも４つの直角３角形がビー
ム振り戻しの中心点を中心とする同心円上に同一方向に
配置される形状に形成したことを特徴とする電子ビーム
露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23956191A JPH0582430A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | 電子ビーム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23956191A JPH0582430A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | 電子ビーム露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0582430A true JPH0582430A (ja) | 1993-04-02 |
Family
ID=17046635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23956191A Pending JPH0582430A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | 電子ビーム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0582430A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009231659A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Nuflare Technology Inc | ビーム照射位置誤差の検出方法、ビーム照射位置誤差の補正方法および荷電粒子ビーム描画装置 |
-
1991
- 1991-09-19 JP JP23956191A patent/JPH0582430A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009231659A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Nuflare Technology Inc | ビーム照射位置誤差の検出方法、ビーム照射位置誤差の補正方法および荷電粒子ビーム描画装置 |
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