JPH058228A - チツプ洗浄装置 - Google Patents
チツプ洗浄装置Info
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- JPH058228A JPH058228A JP12448891A JP12448891A JPH058228A JP H058228 A JPH058228 A JP H058228A JP 12448891 A JP12448891 A JP 12448891A JP 12448891 A JP12448891 A JP 12448891A JP H058228 A JPH058228 A JP H058228A
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- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
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- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Separation, Recovery Or Treatment Of Waste Materials Containing Plastics (AREA)
Abstract
し、洗浄されたチップを短時間に手間をかけずに取り出
すことができるチップの洗浄装置を提供する。 【構成】 横断面が円形乃至楕円形の縦型筒状容器であ
って、上部にチップ投入口が設けられ、底が該容器の中
心軸に対して傾斜した平面状であり、多数の小穴が設け
られた液切り板が、該底の上方に底面との間に間隙を空
けて該底面に実質的に平行に設けられ、該液切り板の上
方に近接して撹拌羽根が設けられ、そして、該液切り板
の最下部の位置の該容器の側壁に、その最下端が該液切
り板の上面に一致するようにチップ取出口が設けられて
なるチップの洗浄装置。
Description
に、内容物で汚れたプラスチックスの空容器や、支持体
上に種々の層が積層された材料などから得られたチップ
から、容器材料や支持体のみを短時間に洗浄して回収す
ることができるチップ洗浄装置に関する。
多くの広い分野で使用されている。例えば、セルロール
系プラスチックス、ポリエステル、その他のプラスチッ
クスの支持体上に感光層などが積層された各種の写真感
光材料、このような支持体上に磁気材料の層などが形成
された磁気テープや磁気ディスク、このような支持体上
に金属や色素の層などが積層された光ディスク、このよ
うな支持体上に金属や色素の層や感光性樹脂の層などが
積層された印刷用材料、等々の種々の材料が知られ多量
に使用されている。
られ、特殊なものを除いてガラス容器や金属容器の代わ
りに使用されており、プラスチックス容器の占める割合
は増大しつつある。使用済み後の空容器には、内容物が
付着していたり、容器へ直接印刷されたインキ層などが
付着している。
廃棄されるが、資源の有効利用、環境保全などの面か
ら、これらの積層材料の支持体や空容器のプラスチック
スを回収して再利用することが行なわれている。
るために、先ず、これらのプラスチックス形状物を切断
して得られたチップを洗浄することが行なわれる。特
に、チップに付着している積層物、容器内容物などを除
去し、できるだけ高純度にプラスチックスのみを回収す
るために、この洗浄工程で積層物を剥離し積層物、容器
内容物などを実質的に含まないようにするまでチップを
洗浄することが望ましく、一般にこのような洗浄は精洗
と呼ばれている。
収納タンクに撹拌機を取り付けた装置を使用して洗浄す
る方法、トロンメル方式の洗浄装置を使用して洗浄する
方法、コンクリート・アジターを改造した洗浄装置を使
用して洗浄する方法、網で作った袋の中にチップを収納
し業務用の衣料洗濯機方式の洗浄装置を使用して洗浄す
る方法、ベルトコンベアーの上に載せてチップを搬送し
その上に洗浄水を散布して洗浄する方法などが知られて
いる。
は、(1)洗浄装置へのチップの投入操作及び洗浄装置
からのチップの排出操作が面倒で、長時間手間がかかり
過ぎる。特にチップの排出操作が面倒であり、工業的実
施に際しては人力による操作を避けるために洗浄装置が
大がかりになる、(2)撹拌効果を上げるために多大の
撹拌動力を必要とする、(3)液切り時間が長い、特
に、薬剤精洗を行なう際は、薬剤を回収するために液切
り時間はできるだけ短いことが望ましい、(4)チップ
に対する洗浄液の割合が大きく、洗浄に使用した洗浄液
の後処理が面倒で不経済である、などの欠点を有してい
る。
ップの洗浄方法が有する欠点が改良され、短時間の洗浄
処理でチップを効率的に洗浄し、洗浄されたチップを短
時間に手間をかけずに取り出すことができるチップ洗浄
装置を提供する。
乃至楕円形の縦型筒状容器であって、上部にチップ投入
口が設けられ、底が該容器の中心軸に対して傾斜した平
面状であり、多数の小穴が設けられた液切り板が、該底
の上方に底面との間に間隙を空けて該底面に実質的に平
行に設けられ、該液切り板の上方に近接して撹拌羽根が
設けられ、そして、該液切り板の最下部の位置の該容器
の側壁に、その最下端が該液切り板の上面に一致するよ
うにチップ取出口が設けられてなることを特徴とするチ
ップ洗浄装置である。
が10〜30度であることを特徴とする上記のチップ洗
浄装置。
する小穴が2〜10mmの穴端間隔で設けられているこ
とを特徴とする上記のチップ洗浄装置。
いることを特徴とする上記のチップ洗浄装置。
形である場合は、長径+短径の1/2を内径とする)と
内高さHとの比が、D:H=1:1〜2であることを特
徴とする上記のチップ洗浄装置。
を参照して詳細に説明する。図1は、本発明のチップ洗
浄装置の一実施例の概略を示す斜視図である。図2は、
図1におけるA−A線断面(拡大)概略図である。
は、架台2に固定された容器3及び撹拌羽根駆動機構4
からなる。容器3は、横断面が円形乃至楕円形の縦型筒
状容器であり、上部に蓋部5が設けられ、蓋部5にはチ
ップ投入口6が設けられ、チプ投入口6は蓋7により開
閉できるようになっている。蓋部5には更に洗浄液供給
口8が設けられている。容器3の底9は、容器3の中心
軸Xに対して傾斜した平面状に形成されている。底9の
上方には、間隙10をあけて底9の面に実質的に平行に
液切り板11が設けられている。液切り板11にはそれ
を貫通する多数の小穴12が設けられている。液切り板
11の上方には、液切り板11に近接して撹拌羽根13
が設けられ、撹拌羽根13は、撹拌羽根駆動機構4のモ
ータ14により変速機15を経て駆動され、底9及び液
切り板11を貫通して設けられた撹拌軸16に固着され
回転駆動される。液切り板11の最下部の位置の容器3
の側壁には、チップ取出口17が設けられており、チッ
プ取出口17の最下端が液切り板11の上面に一致する
ように設けられている。チップ取出口17は蓋18によ
り開閉できるようになっている。底9には、液排出管1
9及びバルブ20が設けられている。
て、洗浄液を液状に維持するに必要な圧力に耐え得るよ
うな容器であり、蓋7は密閉できるものであることが好
ましい。容器3には、例えば加熱冷却媒体を循環するた
めのジャケット(図示せず)のような適当な加熱冷却手
段が設けられていることが好ましい。容器の形状は上記
の条件を満足する限り特に限定されないが、その内径D
(容器の横断面が楕円形である場合は、長径+短径の1
/2を内径とする)と内高さHとの比が、D:H=1:
1〜2である形状を有するものが、内容物の撹拌効率、
温度制御などの点で好ましい。また、容器の横断面が楕
円形である場合は、その長径と短径との比が長径:短径
=1〜2:1であることが、内容物の撹拌効率の点で好
ましい。蓋部5又は蓋7に、容器3の内部の照明及び観
察用の窓を設けてもよい。更に、容器3の外部に、容器
3の内容物の量を示す液面計を設けてもよい。
る程度は特に限定されないが、容器3の底面と容器3の
中心軸Xに垂直な平面Yとの狭角αが10〜30度であ
るように傾斜していることが好ましい。狭角αが、上記
範囲よりも小さいと洗浄されたチップの取り出し速度が
遅くなり、上記範囲よりも大きいと洗浄処理中のチップ
の撹拌効果が低下し洗浄時間が長くなる傾向にある。容
器3が円形乃至楕円形の横断面を有しており、底9が上
記のように形成されているので、底9の平面形状は円形
乃至楕円形である。容器3の横断面形状及び底の平面形
状は特に限定されないが、底の平面形状が円形である
と、洗浄処理して液切りを行なった後、撹拌羽根を回転
させることにより洗浄されたチップを取り出すことが容
易であるので好ましい。
に、洗浄処理されたチップをその上に残し、汚染された
洗浄液及びすすぎ水を下に通し排出する役割をする。従
って、液切り板11に設けられた小穴12の大きさ及び
密度は、チップの大きさや排液量などを考慮して適宜定
めればよいが、一般に小穴12の直径が1〜10mmで
あり、小穴12の穴端間隔が2〜10mmであることが
好ましい。更に、排液中にチップから除去された層片な
どの物質が未溶解のまま残留している場合には、チップ
以外の未溶解部分が排液と共に小穴12を通過するよう
に小穴の大きさを定めることが好ましい。小穴の形状は
特に限定されないが、円形乃至楕円形であることが液切
り板11の製作上好ましい。
浄液中に十分分散させる役割をなし、洗浄処理して液切
りを行なった後、洗浄されたチップをチップ取出口から
排出させる役割をなす。従って、撹拌羽根13は、液切
り板11に近接して設けられ、洗浄処理中は容器3の内
容物を上方に送って対流運動させるような機能を有する
ものであることが好ましい。撹拌羽根13の形状は、図
3に平面図(a)及び側面図(b)を示すようなファン
タービン型羽根や、湾曲ファンタービン型羽根、角度付
きファンタービン型羽根、ファウドラー型羽根などであ
ることが好ましいが、その他の形状のものであってもよ
い。撹拌羽根13の長さは特に限定されないが、洗浄さ
れたチップの取り出しを容易にするために、撹拌羽根1
3の先端ができるだけ容器3の側壁内面に近接するよう
にすることが好ましい。
で取り付けられており、液切り板11との間にはチップ
が通過しない程度の間隙があってもよい。図1及び図2
には、撹拌羽根13を容器3の下方から駆動させる態様
を示したが、撹拌軸を容器3の蓋部5又は側壁を貫通さ
せて設け、撹拌羽根を上方から駆動させるようにしても
よい。
にスライド方式で開閉できるようにしてもよい。
洗浄を継続している内に、液切り板11の小穴12が除
去物質で閉塞されることがある。その場合、液切り板1
1の下側から上方に洗水を流して小穴12の閉塞物質を
除去するために、液排出管19に洗水管21を設けても
よい。勿論、バルブ20から洗水を容器3内へ逆流させ
ることもできる。
積層されたチップ、汚れたチップなどを洗浄する方法に
ついて説明する。
きるチップは、初めから又は、例えば切断、破砕若しく
は粉砕などによりチップ形状を有するものであれば特に
限定されることなく、どのようなものであってもよい。
洗浄し得るチップの例としては、汚れた又は他の物質の
層が積層された、プラスチックスのフィルム、シート及
びその他の成形品、天然物及び/又は合成物の紙及び布
などを挙げることができる。チップの大きさは特に限定
されないが、一般に約100mm角以下、特に約30m
m角以下(概略の大きさを示すものであり、方形のもの
に限定するものではなく任意の形状のものであってよ
い)の大きさを有するものであることが好ましい。
ることができるチップとしては、例えば、セルロール系
プラスチックス、ポリエステル、その他のプラスチック
スの支持体上に感光層などが積層された各種の写真感光
材料、このような支持体上に磁気材料の層などが形成さ
れた磁気テープや磁気ディスク、このような支持体上に
金属や色素の層などが積層された光ディスク、このよう
な支持体上に金属や色素の層や感光性樹脂の層などが積
層された印刷用材料、内容物で汚れたプラスチックスの
空容器などを挙げることができる。
プ投入口6から洗浄すべきチップを容器3に投入し、蓋
7により密閉する。次いで、洗浄液供給口8から所定量
の所定組成を有する洗浄液を入れバルブを閉める。次
に、撹拌羽根13を回転させ容器の内容物を撹拌する。
回転数を徐々に増加させ、所定の回転数で所定時間撹拌
しながら洗浄処理する。洗浄処理が終了した後、バルブ
20を開け、液排出管19から洗浄液を排出する。洗浄
液に使用する薬剤をチップ投入口6から添加してもよ
い。これで一段の洗浄処理を終了するが、必要があれ
ば、洗浄液の組成を変えて別の洗浄処理を行なってもよ
い。洗浄処理の間に、チップに付着していた汚れやチッ
プの支持体に積層されていた層は剥離され、洗浄液に溶
解したり微細な屑となって洗浄液と共に液排出管から排
出され、液切り板11上に洗浄処理されたチップが残留
する。
水を使用して同様に操作して、洗浄されたチップを水洗
する。水洗した水は液排出管から排出され、液切り板1
1上に水洗処理されたチップが残留する。洗浄及び水洗
の間、必要に応じて液温度を所定の温度に維持する。
て、蓋18を開いて撹拌機13を低速で回転させなが
ら、チップ取出口17から洗浄、水洗処理されたチップ
を排出させる。必要ならば、容器3の内壁に付着したチ
ップを水のシャワーリングにより洗い流す。
造を有しているので、チップの洗浄及水洗を有効に行な
うことができ、使用した洗浄液及水洗水の排出が容易で
あり、更に、水洗処理されたチップを少ない労力で円滑
に短時間に容器から取り出すことが可能になる。
内容に応じて最適なものを適宜選択することができる。
例えば、水、温熱水、酸、アルカリ、界面活性剤、酵素
などの薬剤を添加した水、メタノールやアセトンなどの
有機溶剤、及これらの混合物等々を挙げることができ
る。洗浄液の量は特に限定されないが、一般に処理すべ
きチップ1重量部当たり洗浄液3〜4重量部であること
が好ましい。洗浄液量が少な過ぎると撹拌効果が低下し
洗浄能率が低下し、洗浄液量が多過ぎると洗浄処理後の
洗浄液の後処理(排水処理、洗浄液からの有効成分の回
収処理など)の能率が低下する傾向がある。また、水洗
水の代わりに有機溶剤又は有機溶剤と水との混合物を使
用してもよい。
チップを洗浄する具体例を示す。
ムのチップを洗浄処理して、支持体(ポリエチレンテレ
フタレート・フィルム)及銀を回収する例を示す。
粉砕して、平均約15mm角のチップを得た。図1及図
2に示すようなチップ洗浄装置(容器3の内容積:約4
m3)の容器3に、上記チップ1000kgを投入し、
約50℃の温水4000lを入れ、更にゼラチン分解酵
素(大和化成株式会社製、商品名プロチン)1000g
を添加し、撹拌羽根13を100r.p.m.で回転させなが
ら30分間洗浄処理した。洗浄処理を終了した後水切り
し、水で3回撹拌しながら断続的に水洗した。水洗終了
後十分水切りをし、撹拌羽根13を40r.p.m.で回転さ
せながらチップ取出口から洗浄されたチップを取り出し
た。ほぼ全部のチップの取り出しに要した時間は約3分
間であった。このチップを脱水し、乾燥して洗浄済みチ
ップを得た。
ころ、熔融物は略透明であった。また、洗浄処理した排
液から、pH調整、凝集沈殿分離、乾燥、熔煉、電解す
ることにより銀を回収することができた。
のチップを、業務用洗濯機(アサヒ製作所製:BM型)
を使用して洗浄及水洗処理して、上記と同じ透明度を有
するチップを得た。
用洗濯機を使用した場合に比較して、ゼラチン分解酵素
の使用量が半分になり、処理時間が30%短縮され、処
理済みチップの取り出しに要する時間が80%短縮され
た。
リエチレンテレフタレート(PET)製空ボトルのチッ
プを洗浄処理する例を示す。
15mm角のチップを得た。洗浄例1で使用したものと
同じチップ洗浄装置を使用し、ゼラチン分解酵素の代わ
りに洗剤(花王アトラス株式会社製、商品名エマルゲン
A60)500gを使用し、チップ重量及50℃の温水
量を洗浄例1におけると同じにして、洗浄例1における
と同じ操作条件で、上記チップを洗浄処理した。
ころ、熔融物は透明であった。
濯機(アサヒ製作所製:BM型)を使用して洗浄及水洗
処理して、上記と同じ透明度を有するチップを得た。
用洗濯機を使用した場合に比較して、処理時間が約1/
2に短縮された。
処理する例を示す。
均約15mm角のチップ(支持体はPET製で厚さ15
μm)を得た。洗浄例1で使用したものと同じチップ洗
浄装置を使用し、ゼラチン分解酵素の代わりにアルカリ
剤(水酸化ナトリウム)80kg(2%液)を使用し、
チップ重量及50℃の温水量を洗浄例1におけると同じ
にして、洗浄例1におけると同様にして60分間洗浄処
理し、水洗後酸で中和処理して、洗浄されたチップを取
り出した。ほぼ全部のチップの取り出しに要した時間は
約5分間であった。このチップを脱水し、乾燥して洗浄
済みチップを得た。
ころ、熔融物の透明度は前記洗浄例で得たチップの透明
度と同等であった。また、洗浄処理した排液中には、細
かくなった磁性体層が含まれていた。
におけると同様にして業務用洗濯機を使用して洗浄処理
したところ、支持体のチップと磁性体膜との分離が困難
であった。
効率が高いので、洗浄剤に使用する薬品の量を減少させ
ることができ、処理時間を短縮することができる、
(2)水切り時間を短縮することができる、(3)洗浄
されたチップの排出が容易であるので、チップの排出時
間を短縮できる、(4)洗浄操作を自動化することが容
易であるなどの顕著に優れた効果を奏する洗浄装置であ
る。
す斜視図である。
る。
撹拌羽根の側面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 横断面が円形乃至楕円形の縦型筒状容器
であって、上部にチップ投入口が設けられ、底が該容器
の中心軸に対して傾斜した平面状であり、多数の小穴が
設けられた液切り板が、該底の上方に底面との間に間隙
を空けて該底面に実質的に平行に設けられ、該液切り板
の上方に近接して撹拌羽根が設けられ、そして、該液切
り板の最下部の位置の該容器の側壁に、その最下端が該
液切り板の上面に一致するようにチップ取出口が設けら
れてなることを特徴とするチップ洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12448891A JP2640786B2 (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | チップ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12448891A JP2640786B2 (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | チップ洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH058228A true JPH058228A (ja) | 1993-01-19 |
JP2640786B2 JP2640786B2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=14886755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12448891A Expired - Lifetime JP2640786B2 (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | チップ洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2640786B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US6623564B2 (en) | 2000-02-22 | 2003-09-23 | Panac Industries, Inc. | Method of recovering synthetic substrates |
CN105562390A (zh) * | 2016-01-18 | 2016-05-11 | 浙江宝绿特环保技术有限公司 | 一种热洗机 |
KR20210052254A (ko) * | 2019-10-31 | 2021-05-10 | 토와 가부시기가이샤 | 세정 모듈, 절단 장치 및 절단품의 제조 방법 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1991
- 1991-04-30 JP JP12448891A patent/JP2640786B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
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Also Published As
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---|---|
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Date | Code | Title | Description |
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