JPH0577751U - ガスサンプリング装置 - Google Patents
ガスサンプリング装置Info
- Publication number
- JPH0577751U JPH0577751U JP2388692U JP2388692U JPH0577751U JP H0577751 U JPH0577751 U JP H0577751U JP 2388692 U JP2388692 U JP 2388692U JP 2388692 U JP2388692 U JP 2388692U JP H0577751 U JPH0577751 U JP H0577751U
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 サンプルガスの導入管に、サンプルガスの乱
流や校正ガスの滞留要因となる校正ガスの合流接続部を
なくして、サンプルガスあるいは校正ガスのみを層流状
態でガス分析計に導入できるようにする。 【構成】 サンプルガスをガス分析計2に導入させるガ
ス導入管3の外周部に、当該ガス導入管とによって二重
管を構成させる状態で校正ガスAの供給管6を設け、こ
の供給管の校正ガス導出口bに対して前記ガス導入管の
サンプルガス導入口cを校正ガス供給管の内方に控えさ
せてある。
流や校正ガスの滞留要因となる校正ガスの合流接続部を
なくして、サンプルガスあるいは校正ガスのみを層流状
態でガス分析計に導入できるようにする。 【構成】 サンプルガスをガス分析計2に導入させるガ
ス導入管3の外周部に、当該ガス導入管とによって二重
管を構成させる状態で校正ガスAの供給管6を設け、こ
の供給管の校正ガス導出口bに対して前記ガス導入管の
サンプルガス導入口cを校正ガス供給管の内方に控えさ
せてある。
Description
【0001】
本考案は、サンプルガス源からのサンプルガスをガス分析計に導入させて、当 該サンプルガスを例えば定量分析するためのガスサンプリング装置に関する。
【0002】
上記のガスサンプリング装置において、高精度のガス分析を行わせる上で、ガ ス分析に先立って校正ガスによる装置の校正が行われるが、従来は図2に示すよ うに、サンプルガス源11からガス分析計12にわたるサンプルガスSの導入管13に 校正ガスAの供給管14を合流接続させて、必要に応じてガス分析計12に校正ガス Aを供給させるようにしている。
【0003】
しかし、かゝる校正ガスAの供給形態によれば、サンプルガスSの導入管13に 対する校正ガス供給管14の合流接続部14aでサンプルガスSの乱れが生じ、例え ばエンジン排ガスの分析に際してエンジン爆発時の排ガスに爆発前後の排ガスが 混合され、更には、前記合流接続部14aに滞留している校正ガスAが徐々にサン プルガスSに混入して、エンジン爆発時における排ガスそのものや爆発前後の排 ガスの定量分析ができない問題があった。 また校正ガスAの供給時に、当該校正ガスAにサンプルガスSが引き込まれて 校正ガスAにサンプルガスSが混入し、正確な装置の校正を行えない問題もあっ た。
【0004】 本考案は、かゝる実情に鑑みて成されたものであって、校正ガスの導入に際し ての上記の不都合を解消して、ガス分析の高速応答化が達成されるに至ったガス サンプリング装置を提供することを目的としている。
上記の目的を達成するに至った本考案のガスサンプリング装置は、サンプルガ スをガス分析計に導入させるガス導入管の外周部に、当該ガス導入管とによって 二重管を構成させる状態で校正ガスの供給管を設け、この供給管の校正ガス導出 口に対して前記ガス導入管のサンプルガス導入口を校正ガス供給管の内方に控え させた点に特徴がある。
【0005】
上記の特徴構成によれば、校正ガスをサンプルガスの導入口に供給させるよう にしたことで、サンプルガスの導入管には、サンプルガスを乱流にしたり校正ガ スを滞留させたりする要因がなくなり、サンプルガスだけが層流状態でガス分析 計に導入されることになる。 一方、校正ガスの導出口に対してサンプルガスの導入口を内方に控えさせたこ とで、校正ガスの供給時には当該校正ガスによってサンプルガスの導入口まわり がシールドされる状態となり、ガス分析計に対して校正ガスのみが供給されるこ とになる。
【0006】
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明する。図1は例えばエンジン排ガ スを分析の対象としたガスサンプリング装置の原理図を示し、図において、1は サンプルガス源としてのエンジン、2はエンジン1から排出される排ガス(サン プルガス)Sを定量分析するためのセル式のガス分析計、3はサンプルガスSを ガス分析計2に導入させるためのガス導入管、4はサンプル吸引用のポンプであ る。 5は校正ガスAの供給ラインで、前記ガス導入管3の外周部に当該ガス導入管 3とによって二重管を構成させる状態で校正ガスAの供給管6を設ける一方、そ れぞれ電磁弁7付きのゼロガスとスパンガスの供給管8,9を合流させた校正ガ スAの合流管10を、前記供給管6の校正ガス導入口aに連結し、かつ、前記供給 管6の校正ガス導出口bをガス導入管3の排ガス導入口cよりも突出させて、前 記校正ガスAを導出口bよりも内方に控えた位置の導入口cからガス分析計2に 導入させるようにしている。
【0007】 上記の構成によれば、排ガス導入口cを通してガス分析計2に校正ガスAを供 給させるようにして、サンプルガスSを乱流にしたり校正ガスAを滞留させたり する要因を排ガス導入管3から取り除いたことで、サンプルガスSだけが層流状 態でガス分析計2に導入されることになり、エンジン爆発時の排ガスに爆発前後 の排ガスを混入させないで、サンプルガスSを応答性良く定量分析することがで きる。
【0008】 一方、校正ガスAの導出口bに対してサンプルガスSの導入口cを内方に控え させたので、校正ガスAの供給に際してサンプルガスSの導入口cが当該校正ガ スAによってシールドされることになり、ガス分析計に対して校正ガスAのみが 供給されることによって正確な校正を完遂される。 因に、ガス導入管3として内径が2mmで外径が3mmのものを用いて、1分 間当たり5リットルのガスを分析計2に吸引させるようにする一方、校正ガスの 供給管9として内径が4mmで外径が6mmのものを用いて、その校正ガスの導 出口aに対して排ガスの導入口bを約10mm内方に控えさせ、かつ、1分間当 たり7リットルの校正ガスを流した場合、排ガスの混じりがない校正ガスのみの 供給が達成された。
【0009】
以上説明したように本考案のガスサンプリング装置は、サンプルガス導入管の ガス導入口に校正ガスを供給させるようにして、サンプルガスの導入管に、サン プルガスの乱流や校正ガスの滞留要因となる校正ガスの合流接続部をなくしたこ とで、サンプルガスだけを層流状態でガス分析計に導入させることができるよう になり、例えばエンジン爆発時における排ガスそのものや爆発前後の排ガスを応 答性良く定量分析することができるようになった。 また、校正ガスの導出口に対してサンプルガスの導入口を内方に控えさせて、 校正ガスの供給時にサンプルガスの導入口まわりを校正ガスでシールドさせるよ うにしたので、サンプルガスの混じりのない校正ガスのみがガス分析計に供給さ れるようになり、装置の校正が正確に行われるに至ったのである。
【図1】本考案に係るガスサンプリング装置の原理図で
ある。
ある。
【図2】従来のガスサンプリング装置の原理図である。
1…サンプルガス源、2…ガス分析計、3…サンプルガ
ス導入管、6…校正ガスの供給管、b…校正ガス導出
口、c…サンプルガス導入口。
ス導入管、6…校正ガスの供給管、b…校正ガス導出
口、c…サンプルガス導入口。
Claims (1)
- 【請求項1】 サンプルガス源からのサンプルガスをガ
ス分析計に導入させるガス導入管の外周部に、当該ガス
導入管とによって二重管を構成させる状態で校正ガスの
供給管を設け、この供給管の校正ガス導出口に対して前
記ガス導入管のサンプルガス導入口を校正ガス供給管の
内方に控えさせてあることを特徴とするガスサンプリン
グ装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1992023886U JP2572406Y2 (ja) | 1992-03-21 | 1992-03-21 | ガスサンプリング装置 |
DE4308191A DE4308191C2 (de) | 1992-03-21 | 1993-03-15 | Gasanalysegerät |
US08/313,558 US5543113A (en) | 1992-03-21 | 1994-09-27 | Gas analyzing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1992023886U JP2572406Y2 (ja) | 1992-03-21 | 1992-03-21 | ガスサンプリング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0577751U true JPH0577751U (ja) | 1993-10-22 |
JP2572406Y2 JP2572406Y2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=12122936
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1992023886U Expired - Fee Related JP2572406Y2 (ja) | 1992-03-21 | 1992-03-21 | ガスサンプリング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2572406Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170088929A (ko) * | 2015-01-15 | 2017-08-02 | 에이브이엘 에미션 테스트 시스템즈 게엠베하 | 배기 가스 샘플링 시스템 및 상기 유형의 배기 가스 샘플링 시스템의 작동 방법 |
-
1992
- 1992-03-21 JP JP1992023886U patent/JP2572406Y2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170088929A (ko) * | 2015-01-15 | 2017-08-02 | 에이브이엘 에미션 테스트 시스템즈 게엠베하 | 배기 가스 샘플링 시스템 및 상기 유형의 배기 가스 샘플링 시스템의 작동 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2572406Y2 (ja) | 1998-05-25 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |