JPH057466B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH057466B2 JPH057466B2 JP58127242A JP12724283A JPH057466B2 JP H057466 B2 JPH057466 B2 JP H057466B2 JP 58127242 A JP58127242 A JP 58127242A JP 12724283 A JP12724283 A JP 12724283A JP H057466 B2 JPH057466 B2 JP H057466B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- abrasive
- caustic soda
- aqueous solution
- supply tank
- soda aqueous
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 24
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は例えばシリコンウエーハを研摩する場
合の研摩作業を簡便化ないしは一定化するための
装置に係るものである。
合の研摩作業を簡便化ないしは一定化するための
装置に係るものである。
従来のシリコンウエーハの研摩作業は、研摩剤
を純水で希釈してタンクに保管し、このタンクか
ら一定量ずつ研摩面に供給するものであつた。
を純水で希釈してタンクに保管し、このタンクか
ら一定量ずつ研摩面に供給するものであつた。
このため研摩剤希釈液は適宜補充せねばなら
ず、これがかなり煩雑な作業であつた。即ち、研
摩剤を純水で希釈するに際し一定濃度とするため
の秤量を正確に行なわなければならず、しかも研
摩希釈液のPHを制御するためのPH値データをフイ
ードバツクした場合の希釈条件の変更に対しすみ
やかに対応できないという不都合がある。
ず、これがかなり煩雑な作業であつた。即ち、研
摩剤を純水で希釈するに際し一定濃度とするため
の秤量を正確に行なわなければならず、しかも研
摩希釈液のPHを制御するためのPH値データをフイ
ードバツクした場合の希釈条件の変更に対しすみ
やかに対応できないという不都合がある。
本発明は上記諸点を考慮し、研摩剤調合の手間
を省き、また調合した研摩剤を連続的、定量的に
安定供給する装置を提供することである。
を省き、また調合した研摩剤を連続的、定量的に
安定供給する装置を提供することである。
以下に本発明の一実施例を概略図によつて説明
する。第１図において１は合成樹脂製研摩剤供給
用タンクで、２はその流量計、３はその開閉制御
用電磁弁である。４は純水供給用パイプで、５は
その流量計、６はその電磁弁である。研摩剤およ
び純水はこれらタンク１及びパイプ４からその流
量を測定しつつ各電磁弁を経て混合される。混合
希釈された研摩剤は次いでポリシング装置（図示
せず）に供給されるが、この時希釈された研摩剤
のPH値を連続的に測定するためのPH検出器７を経
由する。PH検出器７によつて検出されたPH値は、
その情報が苛性ソーダの供給制御用電磁弁８にフ
イードバツクされ、苛性ソーダ水溶液供給用タン
ク９からの供給量を制御するように調整されてい
る。１０はその流量計である。
する。第１図において１は合成樹脂製研摩剤供給
用タンクで、２はその流量計、３はその開閉制御
用電磁弁である。４は純水供給用パイプで、５は
その流量計、６はその電磁弁である。研摩剤およ
び純水はこれらタンク１及びパイプ４からその流
量を測定しつつ各電磁弁を経て混合される。混合
希釈された研摩剤は次いでポリシング装置（図示
せず）に供給されるが、この時希釈された研摩剤
のPH値を連続的に測定するためのPH検出器７を経
由する。PH検出器７によつて検出されたPH値は、
その情報が苛性ソーダの供給制御用電磁弁８にフ
イードバツクされ、苛性ソーダ水溶液供給用タン
ク９からの供給量を制御するように調整されてい
る。１０はその流量計である。
本発明における研摩剤供給用ポリシング装置は
上述のように構成されているから、濃度の高いポ
リシング研摩剤をタンク１に入れて純水によつて
連続的に希釈供給できるので、従来の希釈された
研摩剤をタンクから供給する場合と比較して希釈
状態に差を生ずる可能性が少なく、また仮に差が
生じてもPH検出器７によつてすみやかに検出し、
これを苛性ソーダの供給量に反映させられるか
ら、ポリシング処理を一定条件で連続的に行なう
ことができるという効果を奏する。
上述のように構成されているから、濃度の高いポ
リシング研摩剤をタンク１に入れて純水によつて
連続的に希釈供給できるので、従来の希釈された
研摩剤をタンクから供給する場合と比較して希釈
状態に差を生ずる可能性が少なく、また仮に差が
生じてもPH検出器７によつてすみやかに検出し、
これを苛性ソーダの供給量に反映させられるか
ら、ポリシング処理を一定条件で連続的に行なう
ことができるという効果を奏する。
更に、ポリシング条件を代えてPH値を変化せて
研摩する場合でも、PH検出器７の情報を電磁弁
８にフイードバツクさせる場合の設定条件を変え
ることによつて容易にかえることができる。なお
本発明において各液体の供給は流量計によつてそ
の流量を知ることができるが、この流量計に代え
て定量吐き出しポンプを用いることもできる。
研摩する場合でも、PH検出器７の情報を電磁弁
８にフイードバツクさせる場合の設定条件を変え
ることによつて容易にかえることができる。なお
本発明において各液体の供給は流量計によつてそ
の流量を知ることができるが、この流量計に代え
て定量吐き出しポンプを用いることもできる。
第１図は本発明の一実施例を示す概略説明図で
ある。 １……合成樹脂製研摩剤供給用タンク、２……
流量計、３……開閉制御用電磁弁、４……純水供
給用パイプ、５……流量計、６……電磁弁、７…
…PH検出器、８……電磁弁、９……苛性ソーダ水
溶液供給用タンク。
ある。 １……合成樹脂製研摩剤供給用タンク、２……
流量計、３……開閉制御用電磁弁、４……純水供
給用パイプ、５……流量計、６……電磁弁、７…
…PH検出器、８……電磁弁、９……苛性ソーダ水
溶液供給用タンク。
Claims (1)
- １ それぞれ電磁弁によつて定量供給できる流量
計又は定量ポンプを備えた研摩剤供給用タンク並
びに希釈および洗滌用純水供給源と、これらタン
クおよび供給源からの研摩剤および純水を混合す
るための配管と、この配管の下流に接続され、電
磁弁によつて定量供給できる流量計又は定量ポン
プを備えた苛性ソーダ水溶液供給用タンクと、こ
の苛性ソーダ水溶液供給用タンクの下流において
上記配管に接続され、各混合液のPH値を検出して
苛性ソーダ水溶液供給量を制御するフイードバツ
ク回路を備えたPH検出器とを有することを特徴と
するポリシング用研摩剤供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12724283A JPS6021386A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | ポリシング用研摩剤供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12724283A JPS6021386A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | ポリシング用研摩剤供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6021386A JPS6021386A (ja) | 1985-02-02 |
| JPH057466B2 true JPH057466B2 (ja) | 1993-01-28 |
Family
ID=14955223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12724283A Granted JPS6021386A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | ポリシング用研摩剤供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6021386A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100475015B1 (ko) * | 1997-11-10 | 2005-04-14 | 삼성전자주식회사 | 슬러리공급장치를포함하는반도체장치제조용화학적기계적연마설비 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5539902A (en) * | 1978-08-09 | 1980-03-21 | Hitachi Denshi Ltd | Integrating system of digital differential analyzer |
| JPS5654390A (en) * | 1979-10-11 | 1981-05-14 | Tokyo Shibaura Electric Co | Feedwater nozzle |
-
1983
- 1983-07-13 JP JP12724283A patent/JPS6021386A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5539902A (en) * | 1978-08-09 | 1980-03-21 | Hitachi Denshi Ltd | Integrating system of digital differential analyzer |
| JPS5654390A (en) * | 1979-10-11 | 1981-05-14 | Tokyo Shibaura Electric Co | Feedwater nozzle |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6021386A (ja) | 1985-02-02 |
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