JPH0574566A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
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- JPH0574566A JPH0574566A JP3234295A JP23429591A JPH0574566A JP H0574566 A JPH0574566 A JP H0574566A JP 3234295 A JP3234295 A JP 3234295A JP 23429591 A JP23429591 A JP 23429591A JP H0574566 A JPH0574566 A JP H0574566A
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- JP
- Japan
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- short
- waveguide
- cooking chamber
- high frequency
- sub
- Prior art date
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- Pending
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/72—Radiators or antennas
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/70—Feed lines
- H05B6/707—Feed lines using waveguides
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/70—Feed lines
- H05B6/705—Feed lines using microwave tuning
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な構成で複数の出射口から照射される高
周波の強度を調整する。 【構成】 調理室１には出射口４，５が配設されてい
る。導波管７は出射口４，５と接続されている。マグネ
トロン８からの高周波は導波管７を通じて出射口４，５
から調理室１に照射される。導波管７の端部には副導波
管９，１０が連結されている。この副導波管９，１０に
は短絡面部１３，１４が配設され、制御装置により移動
する。マグネトロン８からの高周波は短絡面部１３，１
４で反射するので、その位置に応じて第１，第２の出射
口４，５から調理室１内に照射される高周波の強度を見
掛け上調整することができる。
周波の強度を調整する。 【構成】 調理室１には出射口４，５が配設されてい
る。導波管７は出射口４，５と接続されている。マグネ
トロン８からの高周波は導波管７を通じて出射口４，５
から調理室１に照射される。導波管７の端部には副導波
管９，１０が連結されている。この副導波管９，１０に
は短絡面部１３，１４が配設され、制御装置により移動
する。マグネトロン８からの高周波は短絡面部１３，１
４で反射するので、その位置に応じて第１，第２の出射
口４，５から調理室１内に照射される高周波の強度を見
掛け上調整することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マグネトロンからの高
周波を出射口を通じて調理室内に照射する高周波加熱装
置に関する。
周波を出射口を通じて調理室内に照射する高周波加熱装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、電子レンジにおいては、調理
室に設けられた出射口に導波管を接続することにより、
その出射口を通じてマグネトロンからの高周波を調理室
内に照射するようにしている。
室に設けられた出射口に導波管を接続することにより、
その出射口を通じてマグネトロンからの高周波を調理室
内に照射するようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来構成の場合、
出射口は調理室の上部に設けられているのが一般的であ
る。このため、調理物の種類，形状に応じて調理物に対
する加熱効率が異なって加熱むらを生じることがある。
つまり、従来構成の電子レンジでは、出射口からの高周
波は調理物の上方から照射されるので、例えば縦長の容
器に収納された液体を加熱する場合には、液体の上部の
温度が特に高くなって加熱むらを生じる欠点がある。
出射口は調理室の上部に設けられているのが一般的であ
る。このため、調理物の種類，形状に応じて調理物に対
する加熱効率が異なって加熱むらを生じることがある。
つまり、従来構成の電子レンジでは、出射口からの高周
波は調理物の上方から照射されるので、例えば縦長の容
器に収納された液体を加熱する場合には、液体の上部の
温度が特に高くなって加熱むらを生じる欠点がある。
【０００４】この場合、調理室の上下部位置に出射口を
設け、その出射口に対してマグネトロンからの高周波を
サーキュレータを用いて分配することが考えられるが、
サーキュレータは非常に高価であるので、そのような構
成は実現されていないのが現状である。
設け、その出射口に対してマグネトロンからの高周波を
サーキュレータを用いて分配することが考えられるが、
サーキュレータは非常に高価であるので、そのような構
成は実現されていないのが現状である。
【０００５】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的は、簡単な構成で調理室に収納された調理
物に加熱むらを生じることを防止することができる等の
効果を奏する高周波加熱装置を提供するにある。
で、その目的は、簡単な構成で調理室に収納された調理
物に加熱むらを生じることを防止することができる等の
効果を奏する高周波加熱装置を提供するにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の高周波加熱装置
は、調理室を臨むように複数の出射口を設け、マグネト
ロンからの高周波を前記出射口を通じて前記調理室に導
くように導波管を設け、前記出射口及び前記導波管に連
通して副導波管を設け、この副導波管内を移動可能に且
つ前記導波管からの高周波を前記出射口に反射する短絡
手段を設けたものである。
は、調理室を臨むように複数の出射口を設け、マグネト
ロンからの高周波を前記出射口を通じて前記調理室に導
くように導波管を設け、前記出射口及び前記導波管に連
通して副導波管を設け、この副導波管内を移動可能に且
つ前記導波管からの高周波を前記出射口に反射する短絡
手段を設けたものである。
【０００７】この場合、出射口を、調理室の上部位置及
び下部位置に設けるようにしてもよい。
び下部位置に設けるようにしてもよい。
【０００８】また、短絡手段を、電磁波を遮蔽するチョ
ーク構造に構成するようにしてもよい。
ーク構造に構成するようにしてもよい。
【０００９】
【作用】マグネトロンからの高周波は導波管を進行して
出射口から調理室に照射され、これにより、調理室の調
理物は加熱される。
出射口から調理室に照射され、これにより、調理室の調
理物は加熱される。
【００１０】さて、調理物の種類、或は形状に変更を生
じたときは、それに応じて短絡手段の位置を調整する。
即ち、短絡手段の位置を調整すると、導波管から出射口
を通じて調理室に出射される高周波と、短絡手段により
反射されて副導波管を往復することにより出射口から調
理室内に出射される高周波との位相差が異なるので、そ
れらの高周波が干渉して出射口から調理室に出力される
高周波の強度は見掛け上減衰するようになる。従って、
出射口からの高周波の強度を短絡手段の位置に応じて調
整することができる。
じたときは、それに応じて短絡手段の位置を調整する。
即ち、短絡手段の位置を調整すると、導波管から出射口
を通じて調理室に出射される高周波と、短絡手段により
反射されて副導波管を往復することにより出射口から調
理室内に出射される高周波との位相差が異なるので、そ
れらの高周波が干渉して出射口から調理室に出力される
高周波の強度は見掛け上減衰するようになる。従って、
出射口からの高周波の強度を短絡手段の位置に応じて調
整することができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を電子レンジに適用した第１実
施例を図１乃至図４を参照して説明する。電子レンジの
構成を概略的に示した図１において、調理室１にはター
ンテーブル２が配設されており、これは、モータ３の駆
動に応じて回転する。また、調理室１の側面の上下部位
置に第１の出射口４，第２の出射口５が形成されてい
る。また、機械室６には調理室１の裏側に沿って上下方
向に指向する導波管７が設けられており、その端部は出
射口４，５に接続されている。そして、機械室６にはマ
グネトロン８が配設されており、そのアンテナ８ａが導
波管７内に臨んでいる。
施例を図１乃至図４を参照して説明する。電子レンジの
構成を概略的に示した図１において、調理室１にはター
ンテーブル２が配設されており、これは、モータ３の駆
動に応じて回転する。また、調理室１の側面の上下部位
置に第１の出射口４，第２の出射口５が形成されてい
る。また、機械室６には調理室１の裏側に沿って上下方
向に指向する導波管７が設けられており、その端部は出
射口４，５に接続されている。そして、機械室６にはマ
グネトロン８が配設されており、そのアンテナ８ａが導
波管７内に臨んでいる。
【００１２】一方、導波管７の端部にはこれと直交する
方向に第１の副導波管９，第２の副導波管１０が連結さ
れていると共に、それらの副導波管９，１０が各出射口
４，５に連通している。そして、第１，第２の副導波管
９，１０に対応して第１，第２の短絡手段１１，１２が
設けられている。
方向に第１の副導波管９，第２の副導波管１０が連結さ
れていると共に、それらの副導波管９，１０が各出射口
４，５に連通している。そして、第１，第２の副導波管
９，１０に対応して第１，第２の短絡手段１１，１２が
設けられている。
【００１３】第１，第２の短絡手段１１，１２は同一構
成であるので、第１の短絡手段１１のみを説明し、第２
の短絡手段１２には第１の短絡手段１１に相当する部分
の番号を括弧内に付して説明を省略する。第１の短絡手
段１１の構成を示す図２において、第１の副導波管９
（１０）内にはこれを閉鎖するように短絡面部１３（１
４）が配設されており、その短絡面部１３（１４）にラ
ック１５が固定されていると共に、そのラック１５に歯
車１６が噛合っている。そして、第１，第２の短絡手段
１１，１２における歯車１６はモータ１７，１８（図３
参照）により回転されるようになっている。
成であるので、第１の短絡手段１１のみを説明し、第２
の短絡手段１２には第１の短絡手段１１に相当する部分
の番号を括弧内に付して説明を省略する。第１の短絡手
段１１の構成を示す図２において、第１の副導波管９
（１０）内にはこれを閉鎖するように短絡面部１３（１
４）が配設されており、その短絡面部１３（１４）にラ
ック１５が固定されていると共に、そのラック１５に歯
車１６が噛合っている。そして、第１，第２の短絡手段
１１，１２における歯車１６はモータ１７，１８（図３
参照）により回転されるようになっている。
【００１４】電気的構成を概略的に示す図３において、
制御装置１９は、操作パネル２０の被操作状態に応じて
マグネトロン８及びターンテーブル用モータ３を駆動す
る。また、メモリ２１には調理メニューに応じた駆動デ
ータが記憶されており、制御装置１９は、操作パネル２
０により調理メニューが選択されたときは、メモリ２１
に記憶された駆動データに基づいてモータ１７，１８を
駆動する。
制御装置１９は、操作パネル２０の被操作状態に応じて
マグネトロン８及びターンテーブル用モータ３を駆動す
る。また、メモリ２１には調理メニューに応じた駆動デ
ータが記憶されており、制御装置１９は、操作パネル２
０により調理メニューが選択されたときは、メモリ２１
に記憶された駆動データに基づいてモータ１７，１８を
駆動する。
【００１５】次に上記構成の作用について説明する。例
えば調理メニューとして、図１に示すように偏平な調理
物を操作パネル２１により選択したときは、制御装置１
９は、メモリ２１に記憶された駆動データに基づいて各
モータ１７，１８を駆動制御して、第１の短絡手段１１
における短絡面部１３を図２に二点鎖線で示す位置に移
動すると共に、第２の短絡手段１２における短絡面部１
４を実線で示す位置に移動する。つまり、制御装置１９
による制御により、第１の短絡面部１３は導波管７の内
周面と面一となる位置に移動すると共に、第２の短絡手
段１２における短絡面部１４は導波管７から所定距離離
間した位置に移動する。このとき、短絡面部１４の移動
位置としては、短絡面部１４から導波管７までの距離が
マグネトロン８から出力される高周波の波長の１／４と
なるように設定されている。
えば調理メニューとして、図１に示すように偏平な調理
物を操作パネル２１により選択したときは、制御装置１
９は、メモリ２１に記憶された駆動データに基づいて各
モータ１７，１８を駆動制御して、第１の短絡手段１１
における短絡面部１３を図２に二点鎖線で示す位置に移
動すると共に、第２の短絡手段１２における短絡面部１
４を実線で示す位置に移動する。つまり、制御装置１９
による制御により、第１の短絡面部１３は導波管７の内
周面と面一となる位置に移動すると共に、第２の短絡手
段１２における短絡面部１４は導波管７から所定距離離
間した位置に移動する。このとき、短絡面部１４の移動
位置としては、短絡面部１４から導波管７までの距離が
マグネトロン８から出力される高周波の波長の１／４と
なるように設定されている。
【００１６】そして、上述のように各短絡面部１３，１
４の位置決めが終了したところで、制御装置１９はマグ
ネトロン８を駆動する。これにより、マグネトロン８か
ら高周波が出力されるので、その高周波は導波管７を進
行して第１，第２の出射口４，５から調理室１内に照射
される。このとき、第２の出射口５に向けて導波管７を
進行した高周波の一部は、副導波管１０に侵入して短絡
面部１４で反射することにより副導波管１０を戻って第
２の出射口５から調理室１内に照射される。これによ
り、短絡面部１４で反射することにより副導波管１０を
往復して第２の出射口５から調理室１内に照射された高
周波は、導波管７を進行して第２の出射口５から調理室
１内に直接照射された高周波よりも波長の１／２だけ長
い距離を進行することになるので、両者の位相は波長の
１／２（位相で１８０°）だけずれることになる。この
結果、事なる経路を進行して第２の出射口５から調理室
１内に照射された高周波同士は逆位相となって打消され
るので、第２の出射口５から照射される高周波の強度は
見掛け上略零に減衰され、これにより、調理室１の上部
位置に設けられている第１の出射口４からのみ調理室１
内にマグネトロン８からの高周波が照射されることにな
る。従って、調理室１内に収納されているな偏平な調理
物を上方から均等に加熱することができる。
４の位置決めが終了したところで、制御装置１９はマグ
ネトロン８を駆動する。これにより、マグネトロン８か
ら高周波が出力されるので、その高周波は導波管７を進
行して第１，第２の出射口４，５から調理室１内に照射
される。このとき、第２の出射口５に向けて導波管７を
進行した高周波の一部は、副導波管１０に侵入して短絡
面部１４で反射することにより副導波管１０を戻って第
２の出射口５から調理室１内に照射される。これによ
り、短絡面部１４で反射することにより副導波管１０を
往復して第２の出射口５から調理室１内に照射された高
周波は、導波管７を進行して第２の出射口５から調理室
１内に直接照射された高周波よりも波長の１／２だけ長
い距離を進行することになるので、両者の位相は波長の
１／２（位相で１８０°）だけずれることになる。この
結果、事なる経路を進行して第２の出射口５から調理室
１内に照射された高周波同士は逆位相となって打消され
るので、第２の出射口５から照射される高周波の強度は
見掛け上略零に減衰され、これにより、調理室１の上部
位置に設けられている第１の出射口４からのみ調理室１
内にマグネトロン８からの高周波が照射されることにな
る。従って、調理室１内に収納されているな偏平な調理
物を上方から均等に加熱することができる。
【００１７】また、図４に示す牛乳の容器のように縦長
の調理物を操作パネル２０により選択したときは、制御
装置１９は、各モータ１７，１８を制御して第１の短絡
手段１１における短絡面部１３を図２に二点鎖線で示す
位置に移動すると共に、第２の短絡手段１２における短
絡面部１４を実線で示す位置に移動する。これにより、
第１の出射口４からの高周波の強度が見掛け上略零とな
るので、調理物は第２の出射口５から照射される高周波
のみによって加熱されることになる。従って、縦長に起
立した調理物は下方から加熱することになるので、調理
物の上下方向の温度むらを減少することができる。
の調理物を操作パネル２０により選択したときは、制御
装置１９は、各モータ１７，１８を制御して第１の短絡
手段１１における短絡面部１３を図２に二点鎖線で示す
位置に移動すると共に、第２の短絡手段１２における短
絡面部１４を実線で示す位置に移動する。これにより、
第１の出射口４からの高周波の強度が見掛け上略零とな
るので、調理物は第２の出射口５から照射される高周波
のみによって加熱されることになる。従って、縦長に起
立した調理物は下方から加熱することになるので、調理
物の上下方向の温度むらを減少することができる。
【００１８】要するに、上記実施例の場合、調理物の種
類，形状に応じて第１，第２の短絡手段１１，１２にお
ける短絡面部１３，１４の位置を制御することにより、
第１，第２の出射口４，５から出射される高周波の強度
を任意に調整することができるので、出射口が１つしか
設けられてない従来例と違って、各出射口４，５からの
高周波の強度を適宜設定することにより、調理物の種
類，形状に応じて加熱調理することができる。
類，形状に応じて第１，第２の短絡手段１１，１２にお
ける短絡面部１３，１４の位置を制御することにより、
第１，第２の出射口４，５から出射される高周波の強度
を任意に調整することができるので、出射口が１つしか
設けられてない従来例と違って、各出射口４，５からの
高周波の強度を適宜設定することにより、調理物の種
類，形状に応じて加熱調理することができる。
【００１９】この場合、短絡面部１３，１４の位置を調
整するのみで各出射口４，５からの高周波の強度を調整
することができるので、構成が複雑化することなく実現
することができると共に、高周波の強度の比率を任意に
設定することにより調理物に対する加熱強度の分布を制
御することが可能となる。
整するのみで各出射口４，５からの高周波の強度を調整
することができるので、構成が複雑化することなく実現
することができると共に、高周波の強度の比率を任意に
設定することにより調理物に対する加熱強度の分布を制
御することが可能となる。
【００２０】さらに、上記実施例の場合、第１，第２の
出射口４，５を調理室１の上下部位置に設けたので、異
なる高さ寸法の調理物に対する加熱調理に有効である。
出射口４，５を調理室１の上下部位置に設けたので、異
なる高さ寸法の調理物に対する加熱調理に有効である。
【００２１】図５は本発明の第２実施例を示しており、
第１実施例と同一部分には同一符号を付して説明を省略
し、異なる部分についてのみ説明する。即ち、副導波管
２２は導波管７と連続した直線延長上に形成されている
と共に、その副導波管２２に短絡手段たる短絡面部１３
が移動可能に配設されている。
第１実施例と同一部分には同一符号を付して説明を省略
し、異なる部分についてのみ説明する。即ち、副導波管
２２は導波管７と連続した直線延長上に形成されている
と共に、その副導波管２２に短絡手段たる短絡面部１３
が移動可能に配設されている。
【００２２】この第２実施例の場合、短絡面部１３の位
置を調整することにより、導波管７を進行して第１，第
２の出射口４，５から調理室１内に直接照射される高周
波と、短絡面部１３で反射することにより副導波管２２
を往復して各出射口４，５から照射される高周波との位
相差を任意に調整することができるので、各出射口４，
５から照射される高周波の強度を制御することができ
る。従って、第１実施例と同様に、各出射口４，５から
の強度を適宜設定することにより、調理物の種類，形状
に応じて加熱調理することができる。
置を調整することにより、導波管７を進行して第１，第
２の出射口４，５から調理室１内に直接照射される高周
波と、短絡面部１３で反射することにより副導波管２２
を往復して各出射口４，５から照射される高周波との位
相差を任意に調整することができるので、各出射口４，
５から照射される高周波の強度を制御することができ
る。従って、第１実施例と同様に、各出射口４，５から
の強度を適宜設定することにより、調理物の種類，形状
に応じて加熱調理することができる。
【００２３】また、図６は本発明の第３実施例を示して
いる。即ち、短絡面部１３（１４）の構造として、図６
に示すようなチューク構造が用いられている。つまり、
短絡面部１３の背面部には副導波管９（１０）に沿った
空洞２３が形成されており、その空洞２３の長さがマグ
ネトロン８からの高周波の波長の１／４に設定されてい
る。この場合、マグネトロン８からの高周波が短絡面部
１３の外周面と副導波管９の内周面との間の間隙に侵入
した場合であっても、その高周波の一部と空洞２３を往
復した高周波との位相が半波長だけずれて減衰してしま
うので、短絡面部１３と副導波管９との間隙を通過した
高周波が副導波管９から外部に漏れてしまうことはな
い。これにより、短絡面部１３の外周面と副導波管９の
内周面とを非接触状態に構成することができるので、高
周波が漏れないように短絡面部１３と副導波管９とを接
しなければならない構成に比べて、短絡面部１３の移動
を円滑に行うことができる。
いる。即ち、短絡面部１３（１４）の構造として、図６
に示すようなチューク構造が用いられている。つまり、
短絡面部１３の背面部には副導波管９（１０）に沿った
空洞２３が形成されており、その空洞２３の長さがマグ
ネトロン８からの高周波の波長の１／４に設定されてい
る。この場合、マグネトロン８からの高周波が短絡面部
１３の外周面と副導波管９の内周面との間の間隙に侵入
した場合であっても、その高周波の一部と空洞２３を往
復した高周波との位相が半波長だけずれて減衰してしま
うので、短絡面部１３と副導波管９との間隙を通過した
高周波が副導波管９から外部に漏れてしまうことはな
い。これにより、短絡面部１３の外周面と副導波管９の
内周面とを非接触状態に構成することができるので、高
周波が漏れないように短絡面部１３と副導波管９とを接
しなければならない構成に比べて、短絡面部１３の移動
を円滑に行うことができる。
【００２４】また、上記実施例では、第１，第２の出射
口４，５に対応して第１，第２の短絡手段１１，１２を
設けるようにしたが、これに代えて、何れか一方の出射
口４，５に対応して短絡手段を設けるようにしてもよ
く、さらに、出射口の数を３つ以上設けるようにしても
よい。
口４，５に対応して第１，第２の短絡手段１１，１２を
設けるようにしたが、これに代えて、何れか一方の出射
口４，５に対応して短絡手段を設けるようにしてもよ
く、さらに、出射口の数を３つ以上設けるようにしても
よい。
【００２５】加えて、操作パネル２０により選択された
調理物に応じて短絡手段１１，１２を駆動するのに代え
て、調理室１内に収納された調理物の形状を判断する光
センサを設け、その光センサによる検出状態に基づいて
短絡手段１１，１２を駆動するようにしてもよい。
調理物に応じて短絡手段１１，１２を駆動するのに代え
て、調理室１内に収納された調理物の形状を判断する光
センサを設け、その光センサによる検出状態に基づいて
短絡手段１１，１２を駆動するようにしてもよい。
【００２６】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の高周波加熱装置は以下の効果を奏する。
の高周波加熱装置は以下の効果を奏する。
【００２７】請求項１記載の高周波加熱装置によれば、
調理室を臨むように複数の出射口を設け、マグネトロン
からの高周波を前記出射口を通じて前記調理室に導くよ
うに導波管を設け、前記導波管に連通する副導波管を設
け、この副導波管内を移動可能に且つ前記導波管からの
高周波を上記出射口に反射する短絡手段を設けたので、
簡単な構成で調理室に収納された調理物に加熱むらを生
じることを防止することができる。
調理室を臨むように複数の出射口を設け、マグネトロン
からの高周波を前記出射口を通じて前記調理室に導くよ
うに導波管を設け、前記導波管に連通する副導波管を設
け、この副導波管内を移動可能に且つ前記導波管からの
高周波を上記出射口に反射する短絡手段を設けたので、
簡単な構成で調理室に収納された調理物に加熱むらを生
じることを防止することができる。
【００２８】また、請求項２記載の高周波加熱装置によ
れば、出射口を、調理室の上部位置及び下部位置に設け
るようにしたので、高さが異なる調理物に対して加熱む
らを生じることを防止することができる。
れば、出射口を、調理室の上部位置及び下部位置に設け
るようにしたので、高さが異なる調理物に対して加熱む
らを生じることを防止することができる。
【００２９】さらに、請求項３記載の高周波加熱装置に
よれば、短絡手段を、電磁波を遮蔽するチョーク構造に
構成したので、短絡手段から漏れる高周波を減衰させる
ことができる。
よれば、短絡手段を、電磁波を遮蔽するチョーク構造に
構成したので、短絡手段から漏れる高周波を減衰させる
ことができる。
【図１】本発明の第１実施例を示す全体の概略構成図
【図２】要部を示す縦断側面図
【図３】電気的構成を示すブロック図
【図４】異なる作用状態で示す図１相当図
【図５】本発明の第２実施例を示す図２相当図
【図６】本発明の第３実施例を示す図２相当図
１は調理室、４，５は調理室、７は導波管、８はマグネ
トロン、９，１０は副導波管、１１，１２は短絡手段、
１３，１４は短絡面部、２２は短絡手段である。
トロン、９，１０は副導波管、１１，１２は短絡手段、
１３，１４は短絡面部、２２は短絡手段である。
Claims (3)
- 【請求項１】 調理室を臨むように設けられた複数の出
射口と、マグネトロンからの高周波を前記出射口を通じ
て前記調理室に導くように設けられた導波管と、前記出
射口及び前記導波管に連通して設けられた副導波管と、
この副導波管内を移動可能に設けられ前記導波管からの
高周波を前記出射口に反射する短絡手段とを備えたこと
を特徴とする高周波加熱装置。 - 【請求項２】 出射口は、調理室の上部位置及び下部位
置に設けられているとを特徴とする請求項１記載の高周
波加熱装置。 - 【請求項３】 短絡手段は、電磁波を遮蔽するチョーク
構造に構成されていることを特徴とする請求項１記載の
高周波加熱装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3234295A JPH0574566A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 高周波加熱装置 |
| KR1019920016464A KR950002414B1 (ko) | 1991-09-13 | 1992-09-09 | 고주파 가열장치 |
| FR9210815A FR2681410B1 (fr) | 1991-09-13 | 1992-09-10 | Appareil de chauffage par les hautes frequences. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3234295A JPH0574566A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0574566A true JPH0574566A (ja) | 1993-03-26 |
Family
ID=16968755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3234295A Pending JPH0574566A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 高周波加熱装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0574566A (ja) |
| KR (1) | KR950002414B1 (ja) |
| FR (1) | FR2681410B1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996013140A1 (en) * | 1994-10-20 | 1996-05-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | High-frequency heating device |
| US6274859B1 (en) | 1994-04-07 | 2001-08-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | High frequency heating apparatus for selective heating of a desired portion of an object |
| US6469286B1 (en) | 1997-11-13 | 2002-10-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Variable-impedance unit, microwave device using the unit, and microwave heater |
| JP2010005861A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Mimaki Engineering Co Ltd | インクジェットプリンタ |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2705440B1 (fr) * | 1993-05-13 | 1995-08-18 | Lorraine Laminage | Four à micro-ondes. |
| KR100239552B1 (ko) * | 1997-10-15 | 2000-03-02 | 윤종용 | 전자렌지 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2909635A (en) * | 1957-07-29 | 1959-10-20 | Raytheon Co | Electronic oven systems |
| FR1339088A (fr) * | 1961-10-25 | 1963-10-04 | Philips Nv | Four à haute fréquence |
| CH393577A (de) * | 1961-12-13 | 1965-06-15 | Patelhold Patentverwertung | Vorrichtung zum dielektrischen Erwärmen von Stoffen |
| GB977777A (en) * | 1962-02-02 | 1964-12-16 | Lyons & Co Ltd J | Improvements in or relating to radio frequency ovens |
| NL290163A (ja) * | 1962-03-14 | |||
| FR1378280A (fr) * | 1963-10-04 | 1964-11-13 | Procédé et dispositif d'excitation d'un four de chauffage à ondes d'hyperfréquence | |
| US4133997A (en) * | 1977-02-09 | 1979-01-09 | Litton Systems, Inc. | Dual feed, horizontally polarized microwave oven |
| FR2478930A1 (fr) * | 1980-03-20 | 1981-09-25 | Technics Lambda Internal | Applicateur a micro-ondes, notamment pour la vulcanisation ou la reticulation en continu de profiles, de tuyaux ou de cables a base de caoutchouc |
-
1991
- 1991-09-13 JP JP3234295A patent/JPH0574566A/ja active Pending
-
1992
- 1992-09-09 KR KR1019920016464A patent/KR950002414B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-09-10 FR FR9210815A patent/FR2681410B1/fr not_active Expired - Fee Related
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| US6172348B1 (en) | 1994-04-07 | 2001-01-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | High frequency heating apparatus |
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| WO1996013140A1 (en) * | 1994-10-20 | 1996-05-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | High-frequency heating device |
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| US6469286B1 (en) | 1997-11-13 | 2002-10-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Variable-impedance unit, microwave device using the unit, and microwave heater |
| JP2010005861A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Mimaki Engineering Co Ltd | インクジェットプリンタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR930007309A (ko) | 1993-04-22 |
| FR2681410B1 (fr) | 1995-03-17 |
| FR2681410A1 (fr) | 1993-03-19 |
| KR950002414B1 (ko) | 1995-03-17 |
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