JPH0574183B2 - - Google Patents
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- JPH0574183B2 JPH0574183B2 JP59050568A JP5056884A JPH0574183B2 JP H0574183 B2 JPH0574183 B2 JP H0574183B2 JP 59050568 A JP59050568 A JP 59050568A JP 5056884 A JP5056884 A JP 5056884A JP H0574183 B2 JPH0574183 B2 JP H0574183B2
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
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- Analytical Chemistry (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技術分野)
本発明は、動的観察表示装置、特に被観察試料
自体に機械的応力を高速に繰り返して印加すると
共に、被観察試料を電子線プローブ等で走査する
ことによつて得られた画像信号から特定位相の画
像を抽出して観察・表示を行う動的観察表示装置
に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Technical Field of the Invention) The present invention is directed to a dynamic observation display device, in particular, to repeatedly apply mechanical stress to the observed sample itself at high speed, and to apply mechanical stress to the observed sample using an electron beam probe or the like. The present invention relates to a dynamic observation and display device that extracts an image of a specific phase from an image signal obtained by scanning and performs observation and display.
(技術の背景と問題点)
磁歪素子および電歪素子等の特定位相における
磁区あるいは誘電体の分域等を観察することは、
各種材料の特質を知る上で重要である。(Technical background and problems) Observing magnetic domains or domains of dielectric materials at specific phases of magnetostrictive elements and electrostrictive elements, etc.
It is important to know the characteristics of various materials.
しかし、従来は前記磁歪素子等に静的に応力を
順次印加し、該所定の応力が印加された静止時の
走査線を得ることが行われていた。このため、動
的に変化する使用状態における特定応力印加時の
走査像とは必ずしも一致せず、十分な解析が行わ
れ得なかつた。 However, in the past, stress was applied statically and sequentially to the magnetostrictive element, etc., and a scanning line at rest to which the predetermined stress was applied was obtained. For this reason, the scanned image at the time of application of a specific stress under dynamically changing usage conditions does not necessarily match, and sufficient analysis could not be performed.
また、商用周波数で多用される電磁鋼板等の磁
性材料の振動に伴う動的変化は、TVスキヤン等
では遅すぎて観察し得ず、特定位相についての観
察が行い難い問題点があつた。 Furthermore, dynamic changes caused by vibrations in magnetic materials such as electromagnetic steel sheets, which are often used at commercial frequencies, are too slow to be observed using TV scans, etc., making it difficult to observe specific phases.
(発明の目的と構成)
本発明の目的は、前記問題点を解決することに
あり、応力発生素子によつて被観察試料に応力を
印加すると共に、該被観察試料をプローブで走査
し、該被観察試料から生じた信号のうち特定位相
の信号のみを抽出してデイスプレイ等に表示を行
うことにより、応力印加時の特定位相の画像を得
ることにある。そのため、本発明の動的観察表示
装置は、被観察試料に印加する応力を周期的かつ
高速に変化させると共に前記被観察試料をプロー
ブで照射することによつて得られた画像信号から
特定位相の画像を抽出してデイスプレイに表示を
行う動的観察表示装置において、前記被観察試料
に印加する応力をプローブの水平走査信号に同期
しそれを分周した繰り返し周波数により周期的に
変化させる応力印加部と、該応力印加部によつて
前記の繰り返し周波数により周期的に応力が変化
させられている前記被観察試料をプローブで走査
するプローブ走査部と、該プローブ走査部によつ
て走査することによつて前記被観察試料から生じ
る信号を検出し画像信号として出力する信号検出
部と、該信号検出部から出力された画像信号から
前記の繰り返し周波数の周期中の所定位相のかつ
前記の繰り返し周波数の周期にくらべて十分に短
期間の画像信号を前記の繰り返し周波数に同期さ
せて順次抽出する特定画像抽出部とを備え、該特
定画像抽出部によつて順次抽出された繰り返し周
波数の周期中の特定位相における短期間の画像信
号の各々をデイスプレイの画面の順次の水平走査
線に対応づけかつ該水平走査線上に拡張して表示
することを特徴としている。(Objective and Structure of the Invention) An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, by applying stress to a sample to be observed using a stress generating element, and scanning the sample to be observed with a probe. The objective is to obtain an image of a specific phase when stress is applied by extracting only a signal of a specific phase from among the signals generated from a sample to be observed and displaying it on a display or the like. Therefore, the dynamic observation display device of the present invention changes the stress applied to the observed sample periodically and at high speed, and generates a specific phase from the image signal obtained by irradiating the observed sample with a probe. In a dynamic observation display device that extracts an image and displays it on a display, a stress applying unit that periodically changes the stress applied to the sample to be observed according to a repetition frequency obtained by synchronizing with a horizontal scanning signal of a probe and dividing the frequency thereof. a probe scanning unit that scans the observed sample with a probe, the stress of which is periodically changed by the stress applying unit at the repetition frequency; a signal detection section that detects a signal generated from the observed sample and outputs it as an image signal; and a signal detection section that detects a signal generated from the observed sample and outputs it as an image signal; a specific image extraction section that sequentially extracts image signals of a sufficiently short period of time compared to the above repetition frequency in synchronization with the repetition frequency, and a specific phase in the period of the repetition frequency sequentially extracted by the specific image extraction section. The present invention is characterized in that each of the short-term image signals is associated with successive horizontal scanning lines on the screen of the display, and is expanded and displayed on the horizontal scanning lines.
(発明の実施例) 以下図面に基づいて本発明を詳細に説明する。(Example of the invention) The present invention will be explained in detail below based on the drawings.
第1図は本発明の1実施例構成図、第2図およ
び第3図は第1図図示本発明の1実施例構成を説
明する説明図、第4図は本発明の他の実施例構成
図を示す。 FIG. 1 is a configuration diagram of one embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 3 are explanatory diagrams explaining the configuration of one embodiment of the present invention shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a configuration diagram of another embodiment of the present invention. Show the diagram.
図中、1は被観察試料、2は応力発生素子、3
は静応力印加ネジ、4は応力印加装置、5は電子
銃、5−1は電子源、5−2はウエーネルト筒、
5−3はアノード、6は電子レンズ、7は走査コ
イル(X、Y)、8はシンチレーシヨン検出器、
9はビデオ増幅器、10は信号処理部、11はデ
イスプレイ、12は走査電顕制御部、13はマス
タOSC、14,17は分周回路、15はドライ
ブ信号発生器、16は水平走査信号発生器、18
は垂直走査信号発生器、19はカウンタ、20は
P−ROM、21は位相切換器、22はブランキ
ング制御部を表す。 In the figure, 1 is the sample to be observed, 2 is the stress generating element, and 3
is a static stress applying screw, 4 is a stress applying device, 5 is an electron gun, 5-1 is an electron source, 5-2 is a Wehnelt cylinder,
5-3 is an anode, 6 is an electron lens, 7 is a scanning coil (X, Y), 8 is a scintillation detector,
9 is a video amplifier, 10 is a signal processing section, 11 is a display, 12 is a scanning electron microscope control section, 13 is a master OSC, 14 and 17 are frequency dividing circuits, 15 is a drive signal generator, and 16 is a horizontal scanning signal generator , 18
19 represents a vertical scanning signal generator, 19 represents a counter, 20 represents a P-ROM, 21 represents a phase switch, and 22 represents a blanking control section.
第1図において、図中1は被観察試料であつ
て、走査電子顕微鏡等の図示外試料移動台(X、
Y方向に移動可能)に載置された応力印加装置4
に固定されているものである。該被観察試料1は
前記応力印加装置4の両側から応力発生素子2を
介してサンドイツチされた形で保持されると共
に、図示静応力印加ネジ3を回転させることによ
り任意の静応力を真空外から必要に応じて印加し
得るものである。 In FIG. 1, reference numeral 1 indicates a sample to be observed, and a sample moving stage (X,
Stress applying device 4 placed on the device (movable in the Y direction)
It is fixed to . The sample 1 to be observed is held in a sandwiched state from both sides of the stress applying device 4 via the stress generating elements 2, and any static stress can be removed from outside the vacuum by rotating the static stress applying screw 3 shown in the figure. It can be applied as needed.
また、被観察試料1を照射する電子線プローブ
は、電子銃5を構成する電子源5−1(フイラメ
ント)、ウエーネルト筒5−2およびアノード5
−3によつて既知の如くして発生される。該電子
銃5から放射された電子線プローブは電子レンズ
6によつて前記被観察試料1上に微小スポツト
(数千〜数オングストローム)の形で結像される。
そして、図示走査コイル(X、Y)7に走査電顕
制御部12からX・Y走査信号(鋸歯状波電
流)を夫々供給することにより、前記電子線プロ
ーブは偏向される。これにより、電子線プローブ
が被観察試料1上を走査することになる。該走査
した際に被観察試料1から放出された例えば2次
電子が図示シンチレーシヨン検出器8によつて補
集されると共に増幅される。そして、シンチレー
シヨン検出器8によつて増幅された画像信号は、
ビデオ増幅器9によつて増幅されると共に、所定
直流レベルに信号処理されたり、あるいはインピ
ーダンス変換等が行われる。そして、該ビデオ増
幅器9から出力されたビデオ信号は信号処理部
10に供給される。 Further, the electron beam probe that irradiates the observed sample 1 includes an electron source 5-1 (filament), a Wehnelt cylinder 5-2, and an anode 5, which constitute the electron gun 5.
-3 in a known manner. The electron beam probe emitted from the electron gun 5 is imaged by an electron lens 6 onto the sample 1 to be observed in the form of a minute spot (several thousand to several angstroms).
The electron beam probe is deflected by supplying X and Y scanning signals (sawtooth wave currents) from the scanning electron microscope control section 12 to the illustrated scanning coils (X, Y) 7, respectively. As a result, the electron beam probe scans over the sample 1 to be observed. For example, secondary electrons emitted from the observed sample 1 during the scanning are collected and amplified by the illustrated scintillation detector 8. The image signal amplified by the scintillation detector 8 is
The signal is amplified by the video amplifier 9, and is also subjected to signal processing to a predetermined DC level, impedance conversion, etc. The video signal output from the video amplifier 9 is then supplied to a signal processing section 10.
信号処理部10は後述の如くして前記ビデオ信
号から所定の画像信号を抽出等し、輝度信号
としてデイスプレイ11の例えば輝度変調端子に
供給する。一方、信号処理部10は走査電顕制御
部12から供給された同期信号に基づき、後述
するような所定のCRT走査信号をデイスプレ
イ11のドライブ端子(水平および垂直ドライブ
端子)に供給する。このようにすることにより、
デイスプレイ11には、被観察試料1から放出さ
れた2次電子像が表示される。 The signal processing section 10 extracts a predetermined image signal from the video signal as will be described later, and supplies it as a luminance signal to, for example, a luminance modulation terminal of the display 11. On the other hand, the signal processing section 10 supplies a predetermined CRT scanning signal as described later to the drive terminals (horizontal and vertical drive terminals) of the display 11 based on the synchronization signal supplied from the scanning electron microscope control section 12. By doing this,
The display 11 displays a secondary electron image emitted from the sample 1 to be observed.
そして、走査電顕制御部12が応力発生素子2
に例えば交番する応力印加信号を供給した場合
には、被観察試料1には交番する応力が印加さ
れ、該応力に応じた磁歪効果あるいは電歪効果等
に基づく磁区の変位あるいは誘電体の分域の変化
等が発生する。 Then, the scanning electron microscope controller 12 controls the stress generating element 2.
For example, when an alternating stress application signal is supplied to the observation sample 1, alternating stress is applied to the observed sample 1, and the displacement of the magnetic domain or the domain of the dielectric material is caused by the magnetostrictive effect or electrostrictive effect depending on the stress. Changes, etc. occur.
しかし、従来の走査電顕では被観察試料1が前
記応力印加信号と共に変位してしまうため、例え
走査速度の速いTVスキヤニング装置を用いても
該変位の状態を観察・表示することはできない。
そこで、本発明は前記応力発生素子2に周期的か
つ高速に変化する応力印加信号を供給すると共
に、被観察試料1を走査して得られた信号から所
定位相の画像信号を抽出して特定応力印加時の画
像を観察・表示することとしている。以下第2図
および第3図を用いて本発明の動作を詳細に説明
する。 However, in the conventional scanning electron microscope, since the sample to be observed 1 is displaced along with the stress application signal, the state of the displacement cannot be observed or displayed even if a TV scanning device with a high scanning speed is used.
Therefore, the present invention supplies a stress application signal that changes periodically and at high speed to the stress generating element 2, and extracts an image signal of a predetermined phase from the signal obtained by scanning the sample 1 to be observed to generate a specific stress. The image at the time of application will be observed and displayed. The operation of the present invention will be explained in detail below with reference to FIGS. 2 and 3.
第2図は前記応力印加信号に同期した形でビ
デオ信号から特定位相の画像を順次サンプリン
グ等してデイスプレイ(CRT)11に表示する
処理過程を説明するための説明図を示す。 FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining the process of sequentially sampling images of a specific phase from the video signal in synchronization with the stress application signal and displaying them on the display (CRT) 11.
第2図Aは応力印加信号の波形例を示し、被
観察試料1に印加される応力がほぼ正弦波状に変
化している状態を示す。該応力印加信号の図示
特定位相に相当する輝度信号がビデオ信号か
ら順次抽出され、デイスプレイ11上の図示最上
段の位置に順次輝度変調の形で表示される。同様
にして次段の位置にも順次輝度変調の形で表示さ
れる。 FIG. 2A shows an example of the waveform of the stress application signal, and shows a state in which the stress applied to the sample 1 to be observed changes almost sinusoidally. Luminance signals corresponding to the illustrated specific phases of the stress application signal are sequentially extracted from the video signal and displayed in the form of sequential luminance modulation on the topmost stage of the illustration on the display 11. Similarly, the images are displayed at the next stage in the form of sequential brightness modulation.
第2図Bはサンプリング用パルス信号波形を示
し、第2図A図示応力信号の特定位相に対応す
る輝度信号をビデオ信号から抽出するための
ものを示す。該サンプリング用パルス信号は信号
処理部10が同期信号に基づいて生成する。 FIG. 2B shows a sampling pulse signal waveform for extracting a luminance signal corresponding to a specific phase of the stress signal shown in FIG. 2A from a video signal. The sampling pulse signal is generated by the signal processing section 10 based on the synchronization signal.
第2図Cは水平走査用の信号波形を示す。図示
信号波形は鋸歯状波形であつて、デイスプレイ1
1上を図示横線の方向に輝点を走査して画像を表
示するためのものである。 FIG. 2C shows a signal waveform for horizontal scanning. The illustrated signal waveform is a sawtooth waveform, and the display 1
1 in the direction of the horizontal line shown in the figure to display an image.
以上説明したように第2図図示サンプリング方
式によれば、被観察試料1に供給した任意の応力
印加時の画像を順次繰り返しサンプリングしてデ
イスプレイ11に表示することができる。 As explained above, according to the sampling method shown in FIG. 2, images obtained when any stress is applied to the sample 1 to be observed can be sequentially and repeatedly sampled and displayed on the display 11.
また、第3図には第2図図示サンプリング方式
を用いて特定応力印加時の画像をデイスプレイ1
1に表示していたのでは、長時間必要とする場合
等に用いられるものであり、いわゆるライン・サ
ンプリング方式とも言うべきものである。以下説
明する。 In addition, Figure 3 shows an image on display 1 when a specific stress is applied using the sampling method shown in Figure 2.
1 is used when a long period of time is required, and is a so-called line sampling method. This will be explained below.
第3図Aは第2図Aと同様な応力印加信号の
波形例を示す。該応力印加信号の各波形のほぼ
同一位相部分に相当する輝度信号が、ビデオ信
号からサンプリングされてデイスプレイ11上
の1水平走査線に夫々対応づけて図示の如く上か
ら下方向に向つて表示される。このように、応力
印加信号の各波形のほぼ同一位相部分を順次デ
イスプレイ11上に上から下に向かつてライン毎
に表示させる、いわゆるラインサンプリング方式
とも言うべきものを採用しているため、第2図図
示いわゆるポイントサンプリング方式に比し、極
めて高速に表示することが可能となる。例えば、
第2図図示ポイントサンプリング方式により、商
用周波数(50Hz)の繰り返し周期を用いてデイス
プレイ11上に画素1000×1000を得るようにした
場合には、2×104秒=5時間33分20秒も必要と
なる。一方、第3図図示ラインサンプリング方式
によれば20秒となり、極めて短時間に応力印加時
の特定位相の画像を表示させることができる。 FIG. 3A shows an example waveform of a stress application signal similar to FIG. 2A. Luminance signals corresponding to substantially the same phase portions of each waveform of the stress application signal are sampled from the video signal and displayed in correspondence with one horizontal scanning line on the display 11 from top to bottom as shown in the figure. Ru. In this way, a so-called line sampling method is adopted in which approximately the same phase portions of each waveform of the stress application signal are sequentially displayed line by line from top to bottom on the display 11. Compared to the so-called point sampling method shown in the figure, it is possible to display information at extremely high speed. for example,
When using the point sampling method shown in Figure 2 to obtain 1000 x 1000 pixels on the display 11 using a commercial frequency (50 Hz) repetition period, 2 x 10 4 seconds = 5 hours 33 minutes 20 seconds. It becomes necessary. On the other hand, according to the line sampling method shown in FIG. 3, the time is 20 seconds, and an image of a specific phase when stress is applied can be displayed in an extremely short time.
第3図Bはラインサンプリング用パルス信号波
形を示す。該ラインサンプリング用パルス信号を
用いて第1図図示信号処理部10はビデオ信号
から所定位相(所定応力印加時)における輝度信
号を抽出し、デイスプレイ11に第3図図示の
如く1水平走査線に対応づけて表示を行つてい
る。 FIG. 3B shows a pulse signal waveform for line sampling. Using the line sampling pulse signal, the signal processing unit 10 shown in FIG. 1 extracts a luminance signal at a predetermined phase (when a predetermined stress is applied) from the video signal, and displays it on the display 11 in one horizontal scanning line as shown in FIG. It is displayed in correspondence.
第3図Cは水平走査信号波形例を示す。該水平
走査信号例は第3図B図示ラインサンプリング用
パルス信号によつてビデオ信号から抽出された
輝度信号をディスプレイ11上の1水平走査線
に対応すべく水平走査を行うためのものである。 FIG. 3C shows an example of the horizontal scanning signal waveform. The horizontal scanning signal example is for horizontally scanning the luminance signal extracted from the video signal by the line sampling pulse signal shown in FIG. 3B so as to correspond to one horizontal scanning line on the display 11.
第3図Dは鋸歯状波の垂直走査信号波形例を示
す。該鋸歯状波信号はデイスプレイ11に横方向
に走査される図示水平走査線を順次上から下方向
に走査させるためのものである。 FIG. 3D shows an example of a sawtooth vertical scanning signal waveform. The sawtooth wave signal is used to cause the horizontal scanning lines shown on the display 11 to be sequentially scanned from top to bottom.
第4図において、図中EOSは走査型電子顕微
鏡の電子光学系であつて、電子銃から放射された
電子(〜25KV)を磁界型レンズによつて縮小
し、該縮小した微小電子線スポツトを被観察試料
1に結像する役割を果たすものである。図中7−
1,7−2および7−3,7−4は夫々垂直走査
コイルおよび水平走査コイルを示す。以下説明す
る。 In Fig. 4, EOS is an electron optical system of a scanning electron microscope, which reduces electrons (~25KV) emitted from an electron gun using a magnetic field type lens, and converts the reduced electron beam spot into a small electron beam spot. This serves to form an image on the sample 1 to be observed. 7- in the figure
1, 7-2 and 7-3, 7-4 indicate a vertical scanning coil and a horizontal scanning coil, respectively. This will be explained below.
マスタOSC13によつて発生されたクロツク
信号は分周回路14に供給され、1/Nに分周
された後、ドライブ信号発生器15に供給され
る。該ドライブ信号発生器15はクロツク信号
に同期した形で発生させた第3図A図示正弦波の
如きドライブ信号を応力発生素子2に供給し、
該正弦波で変化する応力を被観察試料1に印加す
る。この際、必要に応じて正弦波の替わりに三角
波、矩形等を印加してもよい。 The clock signal generated by the master OSC 13 is supplied to a frequency divider circuit 14, frequency-divided by 1/N, and then supplied to a drive signal generator 15. The drive signal generator 15 supplies the stress generating element 2 with a drive signal such as the sine wave shown in FIG. 3A, which is generated in synchronization with a clock signal.
A stress varying with the sine wave is applied to the sample 1 to be observed. At this time, a triangular wave, a rectangular wave, etc. may be applied instead of a sine wave, if necessary.
一方、被観察試料1は前述したEOSから放射
された微小電子線スポツトによつて照射されてお
り、該照射された被観察試料1からは2次電子、
反射電子、X線等各種の信号が発生している。該
発生した信号、例えば2次電子は図示シンチレー
シヨン検出器8によつて補集されると共に増幅さ
れる。該増幅された信号はビデオ増幅器9によつ
て増幅および信号処理が行われた後、デイスプレ
イ(CRT)11の輝度変調用端子に供給される。
尚、必要に応じて垂直走査信号に重畳していわゆ
る振幅変調を行うことも可能である。 On the other hand, the observed sample 1 is irradiated by the micro electron beam spot emitted from the EOS mentioned above, and the irradiated observed sample 1 emits secondary electrons,
Various signals such as reflected electrons and X-rays are generated. The generated signal, for example secondary electrons, is collected and amplified by the illustrated scintillation detector 8. The amplified signal is amplified and processed by a video amplifier 9, and then supplied to a brightness modulation terminal of a display (CRT) 11.
Note that it is also possible to perform so-called amplitude modulation by superimposing it on the vertical scanning signal as necessary.
また、クロツク信号の水平走査信号発生器1
6に供給されると共に、分周回路17によつて
1/Mに分周した後、垂直走査信号発生器18に
供給される。そして、水平走査信号発生器16お
よび垂直走査信号発生器18によつて夫々発生さ
れた水平走査出力信号および垂直走査出力信号
は、EOSおよびデイスプレイ11の各水平走査
コイル7−3,7−4および各垂直走査コイル7
−1,7−2に供給される。 In addition, the horizontal scanning signal generator 1 of the clock signal
6, and after being frequency-divided by 1/M by a frequency dividing circuit 17, the signal is supplied to a vertical scanning signal generator 18. The horizontal scanning output signal and vertical scanning output signal generated by the horizontal scanning signal generator 16 and the vertical scanning signal generator 18, respectively, are transmitted to the horizontal scanning coils 7-3, 7-4 of the EOS and the display 11, and Each vertical scanning coil 7
-1, 7-2.
更に、クロツク信号はアンブランキング信号
を発生させるために、カウンタ19に供給され
る。該カウンタ19は前記ドライブ信号発生器1
5から供給されたドライブ開始信号によつて毎
回リセツトされ、その後にクロツク信号の計数
を開始する。該計数された値はP−ROM(20)
のアドレスとして用いられ、該アドレスに該当す
る位置に前もつて書き込んでおいた種々のデータ
をアンブランキング信号の形で発生させる。該発
生された種々のアンブランキング信号から所望の
位相のものが位相切換器21によつて選択され、
ブランキング制御部22に供給される。そして、
該ブランキング制御部22から出力されたアンブ
ランキング信号がデイスプレイ(CRT)11
のアンブランキング端子に供給される。これによ
り、デイスプレイ(CRT)11の輝点のアンブ
ランキングが行われる。 Additionally, the clock signal is provided to a counter 19 for generating an unblanking signal. The counter 19 is connected to the drive signal generator 1.
It is reset each time by the drive start signal supplied from 5, and then starts counting the clock signals. The counted value is P-ROM (20)
The unblanking signal is used as an address to generate various data previously written in the position corresponding to the address in the form of an unblanking signal. A desired phase is selected from the various unblanking signals generated by the phase switch 21,
It is supplied to the blanking control section 22. and,
The unblanking signal output from the blanking control section 22 is displayed on the display (CRT) 11.
is supplied to the unblanking terminal of. As a result, the bright spots on the display (CRT) 11 are unblanked.
以上の回路構成によれば、マスタOSC13に
よつて発生されたクロツク信号の周波数をfと
すると、被観察試料1はf/Nの周波数に同期し
た形で応力が印加される。一方、EOSおよびデ
イスプレイ11の水平走査はfに同期して高速に
走査されると共に、EOSおよびデイスプレイ1
1の垂直走査はf/Mに同期して走査される。そ
して、デイスプレイ11のアンブランキングは
f/Nに同期した形で特定位相のものについて行
われ、該特定位相の画像がデイスプレイ11に表
示されることになる。以上説明した如く、デイス
プレイ11には、ドライブ信号の1周期がNで
分割され、該分割されたいずれかの位相の画像信
号のみが位相切換器21によつて選択されてデイ
スプレイ11に表示される。尚、第4図図示実施
例は繰り返し現象に比し、高速にラインスキヤン
可能な場合に、特定位相の画像を得る装置に関す
るものであり、走査型電子顕微鏡に限られること
なく、粒子線、光子ビーム、超音波ビーム等を利
用した走査装置およびTV撮影装置についても適
用され得るもである。 According to the above circuit configuration, stress is applied to the observed sample 1 in synchronization with a frequency of f/N, where f is the frequency of the clock signal generated by the master OSC 13. On the other hand, the horizontal scanning of EOS and display 11 is performed at high speed in synchronization with f, and the EOS and display 11
1 vertical scan is performed in synchronization with f/M. Then, unblanking of the display 11 is performed for a specific phase in synchronization with f/N, and an image of the specific phase is displayed on the display 11. As explained above, one cycle of the drive signal is divided into N, and only the image signal of one of the divided phases is selected by the phase switch 21 and displayed on the display 11. . The embodiment shown in FIG. 4 relates to a device that obtains an image of a specific phase when a line scan is possible at high speed compared to a repetitive phenomenon, and is not limited to a scanning electron microscope, but is applicable to particle beams, photon beams, etc. The present invention can also be applied to scanning devices and TV photographing devices that utilize beams, ultrasonic beams, and the like.
(発明の効果)
以上説明した如く、本発明によれば、応力発生
素子によつて所望の応力を被観察試料に印加する
と共に、被観察試料をプローブで走査し、該被観
察試料から生じた信号の特定位相のものを抽出し
てデイスプレイ等に表示を行うため、簡単な装置
により応力印加時の特定位相の画像を観察・表示
することができる。(Effects of the Invention) As explained above, according to the present invention, a desired stress is applied to a sample to be observed using a stress generating element, and the sample to be observed is scanned with a probe to generate stress from the sample to be observed. Since a signal with a specific phase is extracted and displayed on a display or the like, an image of a specific phase when stress is applied can be observed and displayed using a simple device.
第1図は本発明の1実施例構成図、第2図およ
び第3図は第1図図示本発明の1実施例構成を説
明する説明図、第4図は、第1図の走査電顕制御
部ならびに信号処理部の具体例を示した図を示
す。
図中、1は被観察試料、2は応力発生素子、3
は静応力印加ネジ、4は応力印加装置、5は電子
銃、5−1は電子源、5−2はウエーネルト筒、
5−3はアノード、6は電子レンズ、7は走査コ
イル(X、Y)、8はシンチレーシヨン検出器、
9はビデオ増幅器、10は信号処理部、11はデ
イスプレイ、12は走査電顕制御部、13はマス
タOSC、14,17は分周回路、15はドライ
ブ信号発生器、16は水平走査信号発生器、18
は垂直走査信号発生器、16はカウンタ、20は
P−ROM、21は位相切換器、22はブランキ
ング制御部を表す。
FIG. 1 is a configuration diagram of one embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 3 are explanatory diagrams explaining the configuration of one embodiment of the present invention shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a scanning electron microscope of FIG. The figure which showed the specific example of a control part and a signal processing part is shown. In the figure, 1 is the sample to be observed, 2 is the stress generating element, and 3
is a static stress applying screw, 4 is a stress applying device, 5 is an electron gun, 5-1 is an electron source, 5-2 is a Wehnelt cylinder,
5-3 is an anode, 6 is an electron lens, 7 is a scanning coil (X, Y), 8 is a scintillation detector,
9 is a video amplifier, 10 is a signal processing section, 11 is a display, 12 is a scanning electron microscope control section, 13 is a master OSC, 14 and 17 are frequency dividing circuits, 15 is a drive signal generator, and 16 is a horizontal scanning signal generator , 18
1 is a vertical scanning signal generator, 16 is a counter, 20 is a P-ROM, 21 is a phase switch, and 22 is a blanking control section.
Claims (1)
に変化させると共に前記被観察試料をプローブで
照射することによつて得られた画像信号から特定
位相の画像を抽出してデイスプレイに表示を行う
動的観察表示装置において、前記被観察試料に印
加する応力をプローブの水平走査信号に同期しそ
れを分周した繰り返し周波数により周期的に変化
させる応力印加部と、該応力印加部によつて前記
繰り返し周波数により周期的に応力が変化させら
れている前記被観察試料をプローブで走査するプ
ローブ走査部と、該プローブ走査部によつて走査
することによつて前記被観察試料から生じる信号
を検出し画像信号として出力する信号検出部と、
該信号検出部から出力された画像信号から前記の
繰り返し周波数の周期中の所定位相のかつ前記の
繰り返し周波数の周期にくらべて十分に短期間の
画像信号を前記の繰り返し周波数に同期させて順
次抽出する特定画像抽出部とを備え、該特定画像
抽出部によつて順次抽出された繰り返し周波数の
周期中の特定位相における短期間の画像信号の
各々をデイスプレイの画面の順次の水平走査線に
対応づけかつ該水平走査線上に拡張して表示する
ことを特徴とする動的観察表示装置。1. An operation that periodically and rapidly changes the stress applied to the observed sample and extracts an image of a specific phase from the image signal obtained by irradiating the observed sample with a probe and displays it on a display. a stress applying section that periodically changes the stress applied to the observed sample according to a repetition frequency obtained by dividing the stress in synchronization with a horizontal scanning signal of a probe; A probe scanning unit scans the observed sample whose stress is periodically changed depending on the frequency with a probe, and a signal generated from the observed sample is detected by scanning with the probe scanning unit and an image is generated. a signal detection section that outputs as a signal;
From the image signals output from the signal detection section, image signals having a predetermined phase within the cycle of the repetition frequency and having a sufficiently short period compared to the cycle of the repetition frequency are sequentially extracted in synchronization with the repetition frequency. and a specific image extracting unit, which associates each of the short-term image signals at a specific phase in the cycle of the repetition frequency sequentially extracted by the specific image extracting unit with sequential horizontal scanning lines on the screen of the display. A dynamic observation display device characterized in that the display is expanded and displayed on the horizontal scanning line.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5056884A JPS60195860A (en) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | Dynamic observation display system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5056884A JPS60195860A (en) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | Dynamic observation display system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60195860A JPS60195860A (en) | 1985-10-04 |
JPH0574183B2 true JPH0574183B2 (en) | 1993-10-15 |
Family
ID=12862604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5056884A Granted JPS60195860A (en) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | Dynamic observation display system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60195860A (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57196465A (en) * | 1981-05-28 | 1982-12-02 | Nichidenshi Tekunikusu:Kk | Scanning electron microscope |
-
1984
- 1984-03-16 JP JP5056884A patent/JPS60195860A/en active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57196465A (en) * | 1981-05-28 | 1982-12-02 | Nichidenshi Tekunikusu:Kk | Scanning electron microscope |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60195860A (en) | 1985-10-04 |
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Legal Events
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