JPH0572038U - エアーロックチャンバ - Google Patents

エアーロックチャンバ

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JPH0572038U
JPH0572038U JP1077492U JP1077492U JPH0572038U JP H0572038 U JPH0572038 U JP H0572038U JP 1077492 U JP1077492 U JP 1077492U JP 1077492 U JP1077492 U JP 1077492U JP H0572038 U JPH0572038 U JP H0572038U
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JP
Japan
Prior art keywords
wafer
end station
accommodation space
lock chamber
dust
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Pending
Application number
JP1077492U
Other languages
English (en)
Inventor
正直 小林
Original Assignee
日新電機株式会社
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Publication date
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Publication of JPH0572038U publication Critical patent/JPH0572038U/ja
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 エアーロックチャンバ4は、高真空状態にさ
れたエンドステーションにおけるウエーハ3の搬入およ
び搬出をウエーハ収容空間部8を介して行なわせるもの
である。そして、ウエーハ収容空間部に面した内面部と
なる窓板6の下面および側壁体5の内周面には、塵埃を
付着させる粘着性部材20が設けられている。 【効果】 ウエーハ収容空間部8に存在する塵埃の大部
分は、粘着性部材20によって固定されるため、ウエー
ハ収容空間部8とエンドステーションとを連通状態にし
た際における塵埃のエンドステーションへの移動量を極
めて低減させることができる。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、エンドステーションの搬入搬出部に設けられたエアーロックチャン バに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
イオン注入装置は、一般に、イオン照射対象物であるウエーハをエンドステー ションに収容し、このウエーハに特定のイオン種からなるイオンビームを高真空 下で照射することによってイオン注入を行なうものである。従って、エンドステ ーションは、イオン注入時に高真空状態である必要があり、ウエーハの搬入時お よび搬出時にエンドステーションの真空度が低下した場合には、真空ポンプ等に よって高真空状態に復帰させた後にイオン注入を行なうことが必要になる。
【0003】 ところが、エンドステーションを高真空状態に復帰させながらイオン注入を行 なった場合には、エンドステーションが大きな容積を有し、高真空状態への復帰 に長時間を要するため、生産性の低下を招来することになる。そこで、エンドス テーションの搬入搬出部には、小さな容積のエアーロックチャンバが設けられて おり、エンドステーションは、このエアーロックチャンバを介してウエーハが搬 入および搬出されることによって、ウエーハの搬入時および搬出時でも高真空状 態が維持されるようになっている。
【0004】 即ち、従来のエアーロックチャンバには、図3に示すように、側壁体52と窓 板51と弁体53と環状枠体57とによって小さな容積のウエーハ収容空間部5 4が真空排気可能に形成されており、このウエーハ収容空間部54は、エアーロ ックチャンバの大気圧側および高真空状態のエンドステーション側に設けられた 図示しないウエーハ用扉によって、気密状態に密閉されるようになっている。そ して、ウエーハ用扉を開閉する時期とウエーハ収容空間部54を真空排気する時 期とを調整し、ウエーハ収容空間部54を大気圧状態と高真空状態とに切り換え ることによって、エンドステーションの圧力状態をウエーハ56の搬入時および 搬出時でも高真空状態に維持させるようになっている。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】
ところで、エンドステーションは、イオン注入時に高真空状態になっているこ とが必要であると共に、塵埃(パーティクル)が低減されていることが歩留りを 向上させるために必要である。特に、最近においては、ウエーハ56の素子構造 が微細化され、塵埃の存在が歩留りに大きく影響するため、塵埃の低減が極めて 重要視されている。
【0006】 ところが、上記従来のエアーロックチャンバでは、ウエーハ56の搬入時等に 塵埃がウエーハ収容空間部54に侵入した場合、真空排気後にウエーハ収容空間 部54に存在する塵埃の大部分がウエーハ56と共にエンドステーションに移動 するため、エンドステーションの塵埃を大きく増加させることになっている。
【0007】 従って、本考案においては、ウエーハ収容空間部54に存在する塵埃のエンド ステーションへの移動量を低減させることができるエアーロックチャンバを提供 することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本考案のエアーロックチャンバは、上記課題を解決するために、高真空状態に されたエンドステーションにおけるウエーハの搬入および搬出をウエーハ収容空 間部を介して行なわせるものであり、下記の特徴を有している。
【0009】 即ち、エアーロックチャンバは、塵埃を付着させる粘着性部材がウエーハ収容 空間部に面した窓板の下面等の内面部に設けられていることを特徴としている。
【0010】
【作用】
上記の構成によれば、ウエーハ収容空間部に面する内面部に粘着性部材を設け ているため、ウエーハ収容空間部を浮遊する塵埃が粘着性部材に衝突した際に付 着することになる。従って、ウエーハ収容空間部に存在する塵埃は、大部分が粘 着性部材によって固定されるため、ウエーハ収容空間部とエンドステーションと を連通状態にした際における塵埃のエンドステーションへの移動量を極めて低減 させることが可能になる。
【0011】
【実施例】
本考案の一実施例を図1および図2に基づいて説明すれば、以下の通りである 。
【0012】 本実施例に係るエアーロックチャンバは、図2に示すように、イオン注入装置 におけるエンドステーション1の搬入搬出部1aに設けられている。このエンド ステーション1は、イオン照射対象物であるウエーハ3を保持し、このウエーハ 3にイオンビーム2を照射させるようになっており、エンドステーション1にお けるイオンビーム2の入射側には、図示しない静電レンズや加速管、質量分析器 22、イオン源21が配設されている。
【0013】 上記のエンドステーション1に設けられたエアーロックチャンバ4は、図1に 示すように、アルミニウムからなる側壁体5を有している。この側壁体5の上面 部および下面部には、環状溝5a・5bが形成されており、これらの環状溝5a ・5bには、Oリング12・13がそれぞれ設けられている。また、側壁体5の 上面には、アクリル樹脂からなる窓板6が固設されている一方、側壁体5の下面 には、環状枠体11が固設されており、側壁体5の上面および下面と窓板6およ び環状枠体11とは、Oリング12・13によって気密状態に接合されている。
【0014】 上記の環状枠体11の下面には、図示しない真空排気手段に接続された弁体7 が固設されている。この弁体7は、環状枠体11に嵌合された内周突設部7aと 、環状枠体11の下面に当接する外周当接部7bとからなっており、内周突設部 7aの外周面部および上面部には、環状溝7c・7dが形成されている。そして 、これらの環状溝7c・7dには、Oリング14・15がそれぞれ設けられてお り、内周突設部7aの外周面部に設けられたOリング14は、弁体7と環状枠体 11とを気密状態に接合させるようになっている。
【0015】 上記の側壁体5と窓板6と弁体7と環状枠体11とは、ウエーハ3を収容可能 な容積のウエーハ収容空間部8を形成するようになっており、このウエーハ収容 空間部8は、上述の各Oリング12・13・14によって気密状態にされるよう になっている。このウエーハ収容空間部8には、ウエーハ3を支持する載置部材 9が弁体7の内周突設部7aに固設されており、この載置部材9と弁体7とは、 内周突設部7aの上面部に設けられたOリング15によって気密状態に接合され ている。
【0016】 また、ウエーハ収容空間部8に面する側壁体5の内周面(内面部)および窓板 6の下面(内面部)には、例えば低い蒸気圧の接着剤を使用した両面テープや真 空グリース等の粘着性部材20が設けられており、この粘着性部材20は、ウエ ーハ収容空間部8を浮遊する塵埃を付着させることによって、ウエーハ収容空間 部8に存在する塵埃がエンドステーション1へ移動することを防止するようにな っている。尚、上記の粘着性部材20は、ウエーハ3に接触しないのであれば、 載置部材9に設けられていても良いし、或いは、後述のウエーハ用扉16・17 の内壁面に設けられていても良い。
【0017】 上記のエアーロックチャンバ4には、図2に示すように、ウエーハ3の通過口 を開閉するウエーハ用扉16・17がエンドステーション1側および大気圧側に それぞれ設けられている。上記の大気圧側である外部には、旋回移動および上下 移動が可能なウエーハフォーク18が配設されており、このウエーハフォーク1 8の可動範囲内には、複数のウエーハ3を着脱自在に収容したウエーハカセット 19・19が配置されるようになっている。そして、ウエーハフォーク18は、 ウエーハカセット19・19からウエーハ3をエアーロックチャンバ4に搬送す るようになっていると共に、エアーロックチャンバ4からウエーハ3をウエーハ カセット19・19に搬送するようになっている。
【0018】 上記の構成において、エアーロックチャンバ4の動作について説明する。
【0019】 先ず、図2に示すように、エンドステーション1の搬入搬出部1aに配設され たウエーハ用扉16が閉状態にされ、エンドステーション1が図示しない真空排 気手段によって高真空状態にされることになる。この後、大気圧側のウエーハ用 扉17が開状態にされ、ウエーハカセット19・19に収容されているウエーハ 3がウエーハフォーク18によってエアーロックチャンバ4方向に搬送されるこ とになる。
【0020】 上記のウエーハ3は、図1に示すように、エアーロックチャンバ4のウエーハ 収容空間部8に搬入されることになる。また、この搬入時に、大気中の塵埃がウ エーハ収容空間部8に侵入して浮遊することになる。そして、ウエーハ3が載置 部材9に載置されると、大気圧側のウエーハ用扉17が閉状態にされ、ウエーハ 収容空間部8が気密状態に密閉されることになる。この後、ウエーハ収容空間部 8が図示しない真空排気手段によって排気され、ウエーハ収容空間部8に侵入し た塵埃の一部が空気と共に外部に排出されることになる。一方、ウエーハ収容空 間部8に残留した塵埃は、ウエーハ収容空間部8に面して設けられた粘着性部材 20に衝突した際に、粘着性部材20に付着することによって、付着した場所に 固定されることになる。
【0021】 上記の真空排気によってウエーハ収容空間部8が高真空状態にされると、図2 のエンドステーション1側のウエーハ用扉16が開状態にされ、ウエーハ3が図 示しないウエーハ搬送手段によってエアーロックチャンバ4からエンドステーシ ョン1に搬送されることになる。この際、エアーロックチャンバ4のウエーハ収 容空間部8に存在する塵埃は、大部分が粘着性部材20によって固定されている ため、エンドステーション1への移動量が極めて減少したものになる。
【0022】 この後、図2に示すように、イオン源21から正電荷のイオンが引出電極によ って引き出され、質量分析器22によって質量分析された特定のイオン種からな る不純物イオンのイオンビーム2が形成されることになる。そして、このイオン ビーム2は、図示しない加速管および静電レンズを介してエンドステーション1 において保持されたウエーハ3に照射されることになる。
【0023】 このように、本実施例のエアーロックチャンバ4は、図1に示すように、ウエ ーハ収容空間部8に面する内面部に粘着性部材20を設け、この粘着性部材20 に塵埃を付着させるようになっている。従って、ウエーハ収容空間部8に存在す る塵埃は、大部分が粘着性部材20によって固定されるため、ウエーハ収容空間 部8とエンドステーション1とを連通状態にした際に、塵埃のエンドステーショ ン1への移動量を極めて低減させることが可能になっている。
【0024】
【考案の効果】
本考案のエアーロックチャンバは、以上のように、高真空状態にされたエンド ステーションにおけるウエーハの搬入および搬出をウエーハ収容空間部を介して 行なわせるものであり、上記ウエーハ収容空間部に面した内面部に、塵埃を付着 させる粘着性部材を設けた構成である。
【0025】 これにより、ウエーハ収容空間部に存在する塵埃の大部分が、粘着性部材によ って固定されるため、ウエーハ収容空間部とエンドステーションとを連通状態に した際における塵埃のエンドステーションへの移動量を極めて低減させることが 可能になるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案のエアーロックチャンバの縦断面図であ
る。
【図2】イオン注入装置の概略構成図である。
【図3】従来例を示すものであり、エアーロックチャン
バの縦断面図である。
【符号の説明】
1 エンドステーション 1a 搬入搬出部 2 イオンビーム 3 ウエーハ 4 エアーロックチャンバ 5 側壁体 6 窓板 7 弁体 7a 内周突設部 8 空間部 9 載置部材 10 ウエーハ 11 環状枠体 16 ウエーハ用扉 17 ウエーハ用扉 18 ウエーハフォーク 19 ウエーハカセット 20 粘着性部材 21 イオン源 22 質量分析器

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】高真空状態にされたエンドステーションに
    おけるウエーハの搬入および搬出をウエーハ収容空間部
    を介して行なわせるエアーロックチャンバであって、 上記ウエーハ収容空間部に面した内面部に、塵埃を付着
    させる粘着性部材を設けたことを特徴とするエアーロッ
    クチャンバ。
JP1077492U 1992-03-04 1992-03-04 エアーロックチャンバ Pending JPH0572038U (ja)

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JP1077492U JPH0572038U (ja) 1992-03-04 1992-03-04 エアーロックチャンバ

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JP1077492U JPH0572038U (ja) 1992-03-04 1992-03-04 エアーロックチャンバ

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JPH0572038U true JPH0572038U (ja) 1993-09-28

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JP1077492U Pending JPH0572038U (ja) 1992-03-04 1992-03-04 エアーロックチャンバ

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