JPH0570915B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、炉床下に設置され非接触状態で炉内
溶湯の攪拌を行うための炉内溶湯攪拌装置に関す
るものである。

〔従来の技術〕

非接触式の炉内溶湯攪拌装置として、炉床下に
移動磁界を発生する誘導子を設置し、発生する移
動磁界によつて炉内溶湯を移動させるようにした
電磁溶湯攪拌装置が開発されている。この場合、
誘導子の直上の位置を起点位置とする炉内溶湯の
流動が、移動磁界の方向および炉壁形状に沿つて
生じる。しかしながら、この種の従来の攪拌装置
は、主として、炉に投入した原料が全て溶解した
後の溶湯全体の均熱及び均質を目的として構成さ
れており、このため溶湯表面を微動させる程度の
小容量のものであり、また、誘導子は炉床下に例
えば炉体と中心を合わせて固定され、したがつ
て、溶湯移動の起点位置は炉のほぼ中心位置とな
つている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、従来の溶解作業では、溶解の後半
時、すなわち、溶け残りの残塊が炉内に存在する
間の溶解時間が長く、このため、例えば表面酸化
によるメタルロスが多くなるという問題がある。
そこで、前記の電磁溶湯攪拌装置の誘導子の容量
を大きくし、上記のような溶解の後半時に溶湯に
流動を生じさせて、溶湯から残塊への熱伝達を促
進させ、これによつて、残塊の溶解時間を短縮さ
せることが考えられる。しかしながら、上記のよ
うに誘導子の容量を単に大きくしただけでは、比
較的大きな残塊が炉内の中央に存する間、その周
囲の溶湯には誘導子の直上の位置から離れた強度
の弱い磁界しか作用しないために流動は生じ難
く、したがつて、容量を増加させたにもかかわら
ず溶解が効率的に行われるものとはならずに経費
が増加して、かえつて生産性が低下するという問
題を生じるものとなる。

本発明は、上記従来の問題点を考慮してなされ
たものであつて、例えば炉内残塊の溶解促進をも
効率的に行うことが可能であり、これによつて、
メタルロスを抑制し得る等により生産性を向上し
得る炉内溶湯攪拌装置の提供を目的とするもので
ある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の炉内溶湯攪拌装置は、上記の目的を達
成するために、炉床下に設置される誘導子を備
え、この誘導子が発生する移動磁界によつて、誘
導子の直上の位置を起点位置とする炉内溶湯の流
動を上記移動磁界の方向および炉壁形状に沿つて
生じさせる電磁溶湯攪拌装置であつて、上記誘導
子が、この誘導子を水平に移動させて上記起点位
置を変更させる移動手段に回動自在に設けられて
いることを特徴とするものである。

〔作用〕

上記構成の炉内溶湯攪拌装置においては、溶解
の後半時に例えば比較的大きな残塊が炉内の中央
に存する場合には、誘導子を炉体の中心位置から
炉壁側に移動させることによつて、誘導子直上に
は溶湯が存することとなる。したがつて、この部
位の溶湯に強度の大きな磁界が作用し、この位置
を起点とする溶湯の流動が、炉壁に沿つて、すな
わち、残塊の周囲に沿つて生じることとなる。こ
のため、溶湯から残塊への熱の伝達がより効率的
に行われる。この結果、溶湯の侵食作用によつて
残塊の外周部は削り落とされ、これにより残塊が
崩壊して溶湯中に没する状態となることが促進さ
れる。また、大きな残塊が消失して小形状の塊の
浮遊状態となつたときには、例えば誘導子を炉の
中心位置に戻し、溶湯が炉の中心から両側に別れ
て流動するようにすることで、浮遊する塊は炉内
中央から炉壁側へと広い範囲にわたつて溶湯との
攪拌状態で移動することとなり、この間の溶湯か
らの熱伝達によつて速やかに溶解する。さらに、
原料が溶解して溶湯の表面上に浮遊し散在する溶
滓を除去するときには、例えは炉壁に設けられて
いる除滓口に磁界移動方向が向くように誘導子を
回動させることで、溶滓が自動的に除滓口周辺に
集まるようにすることも可能であり、これによつ
て、除滓を容易に行うことができる。

このように、上記においては誘導子を移動さ
せ、また、回動させ得るので、溶解の後半時に比
較的大きな残塊が炉内の中央に存する場合には誘
導子を適宜移動し、除滓時にはさらに回動させる
ことで、残塊の溶解を促進させるような溶湯の流
動や、溶滓が自動的に除滓口周辺に集まるような
流動を生じさせることができる。この結果、溶解
時間を短縮することが可能となり、これによつ
て、例えばメタルロスを抑制することができると
共に、除滓を容易に行うことが可能となつて生産
性を向上することができる。

〔実施例〕

本発明の一実施例を第１図乃至第３図に基づい
て説明すれば、以下の通りである。

第１図は、本実施例の炉内溶湯攪拌装置の概要
を示すと共に、溶解後半時における炉内状況を示
している。アルミニウム溶解炉本体の下部は、円
筒形状を成す側部炉壁１と皿形状から成る底部炉
床２により形成され、上記炉床２の端縁上に設け
られた炉傾動芯５を中心として、その位置に対向
する上記炉床２の対向端縁部に作用端が下から結
合されている傾動シリンダー６によつて、溶解炉
本体が傾動自在となるように構成されている。側
部炉壁１の下端部には、炉内部の溶滓を除去する
ための除滓口３及び溶湯取出しのための出湯口４
が設けられている。炉内底部には炉内溶湯８が溜
められ、溶湯８の表面には、溶解後半の状況を呈
するように溶け落ち前の残塊９が露出し、かつ溶
滓１０が浮遊している。

アルミニウム溶解炉本体の下方には、その底部
炉床２の下面に対して非接触状態となるように電
磁溶湯攪拌装置７が設置されている。この電磁溶
湯攪拌装置７の上面は、上記炉床２と一定間隔を
おいて近接して対面し得るような凹面形状を有
し、同攪拌装置７には第２図に示したような方形
から成る誘導子（磁界発生装置）７ａが設けられ
ている。そして、電磁溶湯攪拌装置７は、走行レ
ール１２上を走行可能な図示しない公知の台車等
の移動手段上に設けられ、これによつて、電磁溶
湯攪拌装置７は、前記溶解炉の炉床２に対して、
水平方向に移動し得るようになつている。さらに
電磁溶湯攪拌装置７は、昇降移動、回動がそれぞ
れ自在となるように構成され、上記誘導子７ａを
炉床２下の任意の位置に設定し得るようになされ
ている。上記誘導子７ａは、磁界の移動方向の転
換が自在であつて移動磁界を発生し、また正逆転
が可能であつて上記移動磁界を利用して炉内の溶
湯８を正逆可変に移動させ得る能力を具備してお
り、炉内溶湯８は、誘導子７ａの直上の位置を起
点位置として磁界の方向および炉壁形状に沿つて
流動する。

上記構成の炉内溶湯攪拌装置の操作手順を、各
工程順に説明すれば、以下の通りである。

[1] 炉内残塊９の溶解促進工程 炉原料溶解後半時には前記のごとく炉内溶湯
８の表面上に溶け落ち前の残塊９が浮遊した状
態にある。この残塊９の溶解を促進するため、
電磁溶湯攪拌装置７を走行レール１２上で水平
移動させ、第２図のＤ位置に示すように誘導子
７ａを炉壁１側に接近して設置し、磁界の移動
方向を正逆転させる。

[2] 溶湯による炉内残塊９の浸漬溶解工程 次に、電磁溶湯攪拌装置７を、誘導子７ａの
中心が炉床２の中心と合致するように移動さ
せ、第２図のＢ位置・Ａ位置又はＣ位置に示す
ように、誘導子７ａを炉中心と除滓口３を結ぶ
方向（Ｂ位置）、又はこの方向に対し左右回り
各々45度をなすいずれかの方向（Ａ位置または
Ｃ位置）に位置を設定し、誘導子７ａにより磁
界移動の正逆転を数回繰り返す。

[3] 自動精錬工程 上記の浸漬溶解工程によつて炉内溶湯８が所
定の温度に達すると、自動精錬工程は次の要領
で実施される。

電磁溶湯攪拌装置７は炉床２の中心位置で回
動し、誘導子７ａが第２図に示したＣ位置に設
定され、磁界移動の正逆転が数回繰り返され
る。この磁界移動の正逆転と共に、炉内溶湯８
中に精錬用ランス１１，１１を装入し、精錬剤
を炉内へ自動供給する。上記精錬用ランス１１
はその先端が前記誘導子７ａの一端付近に位置
するように配置される。

[4] 除滓工程 上記自動精錬工程後は、電磁溶湯攪拌装置７
を回動させ、その誘導子７ａは、炉内溶湯８の
表面上に浮遊し散在する溶滓１０を除滓口３付
近に集合させ得るような位置すなわち第２図に
示したＢ位置に設定するか、或いは上記溶滓１
０を炉中央付近に集合させ得るような位置すな
わち第２図に示したＤ位置に設定して、磁界の
移動方向を正逆転させる。

尚、上記各工程で行われる誘導子７ａのセツト
替は、パターンによるプリセツト、又は遠隔操作
（ワンタツチ）により行うことができ、またその
位置及び動作は監視テレビで確認することが可能
である。

次に、上記各工程における炉内溶湯８及び溶滓
１０の状況を第３図に基づいて説明する。

[1] 炉内残塊９の溶解促進工程 一般に、非鉄金属の溶解の場合、例えばAl
及びAl合金の溶解を一例にとると、Alの黒度
は0.2程度であつて鉄（0.8程度）に比べると低
く、火陥などの輻射エネルギーを吸収し難い。
更に、溶湯８と残塊９の混在する溶解後半時に
おいては、炉内残塊９の表面は高温に熱せられ
て酸化が促進されるので、その溶解は一層困難
な状況にある。本実施例における溶解促進工程
では、第３図D₁に示したように、炉壁１側に
移動した誘導子７ａの直上の位置を起点位置と
する溶湯８の流動が生じる。すなわち、残塊９
の周囲を溶湯８が炉壁１に沿つて旋回移動し、
また衝突移動させられるので、上記溶湯８の侵
食作用によつて残塊９の外周部は削り落とさ
れ、これにより残塊９が崩壊して溶湯中に没す
る状態になることが促進される。また、上記炉
内溶湯８の旋回又は衝突移動によつて、溶湯８
表面には造波現象が生じ、かかる造波現象は、
溶湯表面温度を溶湯８が静止状態にある場合に
比し低下（一般的に静止状態では800℃以上に
対し本実施例では765℃以下）させると共に、
平均伝熱面積を静止状態に比べ大きくすること
ができる。この表面温度の低下と伝熱面積の増
大は、 Ｑ＝Ｕ・Ａ・ΔT・Ｈ という熱伝達の一般式で表される。ここで、
Ｑ：金属の受伝熱量（Kcal）、Ｕ：平均熱伝熱
係数（Kcal／m²・ｈ・℃）、Ａ：被加熱物の平
均伝熱面積（m²）、ΔT：雰囲気と被加熱物と
の平均温度差（℃）、Ｈ：溶解時間（ｈ）であ
る。上記の熱伝達の一般式において、本実施例
ではＡ及びΔTが大きくなるので、金属溶解の
被加熱物への熱伝達量は増大することになる。
以上の溶湯８による侵食作用及び溶湯表面の造
波現象によつて、炉内残塊９の溶解は、溶湯が
静止状態にある場合に比べ著しく促進されるこ
とになる。

[2] 溶湯による炉内残塊９の浸漬溶解工程残塊
９が崩壊し、より形状の小さな塊の浮遊状態と
なつたときのこの工程では、第２図に示す誘導
子７ａの位置Ａ・Ｂ又はＣに各々対応して、炉
内溶湯８は第３図に示すA₁・B₁又はC₁の状態
で流動する。浮遊する小形状の残塊９は、炉内
中央から炉壁側へと広い範囲にわたつて溶湯と
攪拌されながら移動し、この間に、溶湯中に浸
漬されることともなつて、溶湯からの熱により
完全に溶解する。

[3] 自動精錬工程 この工程では、第３図のC₁に示すような炉
内溶湯８の積極的な可変移動がなされるので、
従来、溶湯が微動又は静止状態の下で精錬剤の
投入が行われていた場合に比し、精錬剤を自動
供給するだけで精錬剤の効果的な攪拌がなされ
ることになる。

[4] 除滓工程 本工程では、第２図で示した誘導子７ａのＢ
位置又はＤ位置の設定により、それに対応して
炉内溶湯８は第３図のB₁又はD₁の状態の流動
をなし、溶滓１０は自動的に除滓口３の周辺又
は炉中心辺りの除滓最適位置に１箇所に集めら
れる。

以上のように、電磁溶湯攪拌装置７により、各
工程で溶湯の攪拌流動を生じさせることによつ
て、次のような諸効果が得られている。

[1] 金属溶解後半時点での積極的な溶湯可変移
動による残塊浸漬及び低温溶解の促進によつ
て、省エネルギー化（従来例に比し３％以上の
低減）及び酸化抑制に伴うメタルロスの低減
（従来例に比し10％以上の低減）が可能となつ
た。

[2] 精錬時の積極的な溶湯移動による自動精錬
の容易化によつて、精錬時間の短縮化、省力
化、及び生産性の向上が可能となつた。60T／
CHのAl溶解炉において、従来２本／炉のラン
スで20分／CH要していたのが、無人操作（プ
リセツト無人又は遠隔操作）にて10分／CH以
内で完全精錬することができた。また精錬剤攪
拌の効率化により精錬剤の使用量も従来の1/3
に節約することができた。

[3] 除滓時における炉内溶滓の積極的な可変移
動による溶滓の一ケ所集中化によつて、除滓時
間の短縮化、省力化、生産性の向上が可能とな
つた。前記60T／CHのAl溶解炉又は保持炉に
おいて、従来は３箇所／炉の除滓口から３人で
40分／CH要していたが、１箇所／炉の開口部
から１人だけで20分／CH以内で除滓すること
が可能となつた。

[4] 上記60T／CHのAl溶解炉において溶湯の均
熱均質化を５分以内で実現することが可能とな
つた。

〔発明の効果〕

本発明の炉内溶湯攪拌装置は、以上のように、
炉床下に設置される誘導子を備え、この誘導子が
発生する移動磁界によつて、誘導子の直上の位置
を起点位置とする炉内溶湯の流動を上記移動磁界
の方向および炉壁形状に沿つて生じさせる電磁溶
湯攪拌装置であつて、上記誘導子が、この誘導子
を水平に移動させて上記起点位置を変更させる移
動手段に回動自在に設けられている構成である。

これにより、例えば溶解の後半に比較的大きな
残塊が炉内の中央に存する場合には誘導子を適宜
移動し、また、除滓時にはさらに回動させること
で、残塊の溶解を促進させるような溶湯の流動や
溶滓が自動的に除滓口周辺に集まるような流動を
生じさせることができる。この結果、溶解時間を
短縮することが可能となり、これによつて、例え
ばメタルロスを抑制することができると共に、除
滓を容易に行うこと等が可能となつて生産性を向
上することができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す要部概略構成
図、第２図は誘導子の設定位置を示す説明図、第
３図は第２図に対応する炉内溶湯の流動状況を示
す説明図である。 １は炉壁、２は炉床、７は電磁溶湯攪拌装置、
７ａは誘導子（移動磁界発生装置）である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 炉床下に設置される誘導子を備え、この誘導
   子が発生する移動磁界によつて、誘導子の直上の
   位置を起点位置とする炉内溶湯の流動を上記移動
   磁界の方向および炉壁形状に沿つて生じさせる電
   磁溶湯攪拌装置であつて、 上記誘導子が、この誘導子を水平に移動させて
   上記起点位置を変更させる移動手段に回動自在に
   設けられていることを特徴とする炉内溶湯攪拌装
   置。