JPH0569374B2 - - Google Patents
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- JPH0569374B2 JPH0569374B2 JP61089449A JP8944986A JPH0569374B2 JP H0569374 B2 JPH0569374 B2 JP H0569374B2 JP 61089449 A JP61089449 A JP 61089449A JP 8944986 A JP8944986 A JP 8944986A JP H0569374 B2 JPH0569374 B2 JP H0569374B2
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
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- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9506—Optical discs
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光学的に情報を記録再生するデイスク
の測定装置に関する。
の測定装置に関する。
本発明においては光源より発せられた光がデイ
スク外において収束するようになされ、デイスク
を透過した光を受光して、デイスクの複屈折に関
する値が演算される。
スク外において収束するようになされ、デイスク
を透過した光を受光して、デイスクの複屈折に関
する値が演算される。
近年コンパクトデイスク、光学式ビデオデイス
ク、光デイスク等、光学的に情報を記録再生する
デイスクが普及しつつある。斯かるデイスクから
情報を再生する場合、レーザ光等の光をデイスク
に照射して、その反射光又は透過光の変化を読み
取る必要がある。従つてデイスクを構成する基盤
自体に例えば複屈折の変化があると戻り光が減少
し、再生信号のＳ／Ｎが劣化することになる。そ
こでデイスクとしてはできるだけ複屈折の変化が
少ないものを用いる必要がある。
ク、光デイスク等、光学的に情報を記録再生する
デイスクが普及しつつある。斯かるデイスクから
情報を再生する場合、レーザ光等の光をデイスク
に照射して、その反射光又は透過光の変化を読み
取る必要がある。従つてデイスクを構成する基盤
自体に例えば複屈折の変化があると戻り光が減少
し、再生信号のＳ／Ｎが劣化することになる。そ
こでデイスクとしてはできるだけ複屈折の変化が
少ないものを用いる必要がある。
従来斯かる複屈折の変化はデイスクに平行光を
照射して測定するようにしていた。
照射して測定するようにしていた。
従来のデイスク測定装置はこのように平行光を
用いているので、特に光軸方向の複屈折の変化を
測定することができない欠点があつた。また複屈
折率には方向性があるところから、デイスクのラ
ジアル方向及びタンジエンシヤル方向の変化を測
定するために光の照射方向を変化させなければな
らず、装置が複雑かつ高価になるばかりでなく、
測定にも時間がかかる欠点があつた。
用いているので、特に光軸方向の複屈折の変化を
測定することができない欠点があつた。また複屈
折率には方向性があるところから、デイスクのラ
ジアル方向及びタンジエンシヤル方向の変化を測
定するために光の照射方向を変化させなければな
らず、装置が複雑かつ高価になるばかりでなく、
測定にも時間がかかる欠点があつた。
本発明は、光源１１と、この光源より発せられ
た光を所定の収束点に収束する対物レンズ１４
と、前記収束点から離間した位置でデイスク３を
支持するターンテーブル２と、前記光源より発せ
られ、前記対物レンズを介して前記デイスクに照
射され、このデイスクを透過した光を少なくとも
２つに分割するビームスプリツタ１７と、このビ
ームスプリツタにより分割された一方の光を受光
する第１の受光素子１８と、他方の光を受光する
第２の受光素子１９と、前記第１の受光素子の出
力および第２の受光素子の出力から、前記デイス
クの複屈折に関する値を演算する第１の演算回路
２２と、この第１の演算回路２２から出力される
演算値の微分演算を行う第２の演算回路２４と、
前記第１の演算回路２２から出力される演算値と
予め定められた複屈折の大きさについての合否判
定基準値とを比較する第１の比較回路２３と、前
記第２の演算回路２４から出力される演算値と予
め定められた複屈折の値の時間的変動についての
合否判定基準値とを比較する第２の比較回路２５
と、前記第１および第２の比較回路からの各比較
結果に基づいて判定し、前記いずれか一方の比較
結果が基準値を越える大きさである場合に当該デ
イスクを不合格と判定する判定回路２６と、を備
えたことを特徴とする。
た光を所定の収束点に収束する対物レンズ１４
と、前記収束点から離間した位置でデイスク３を
支持するターンテーブル２と、前記光源より発せ
られ、前記対物レンズを介して前記デイスクに照
射され、このデイスクを透過した光を少なくとも
２つに分割するビームスプリツタ１７と、このビ
ームスプリツタにより分割された一方の光を受光
する第１の受光素子１８と、他方の光を受光する
第２の受光素子１９と、前記第１の受光素子の出
力および第２の受光素子の出力から、前記デイス
クの複屈折に関する値を演算する第１の演算回路
２２と、この第１の演算回路２２から出力される
演算値の微分演算を行う第２の演算回路２４と、
前記第１の演算回路２２から出力される演算値と
予め定められた複屈折の大きさについての合否判
定基準値とを比較する第１の比較回路２３と、前
記第２の演算回路２４から出力される演算値と予
め定められた複屈折の値の時間的変動についての
合否判定基準値とを比較する第２の比較回路２５
と、前記第１および第２の比較回路からの各比較
結果に基づいて判定し、前記いずれか一方の比較
結果が基準値を越える大きさである場合に当該デ
イスクを不合格と判定する判定回路２６と、を備
えたことを特徴とする。
本発明によれば、回転されているデイスク３に
対して光源１１より発せられた光がデイスク記録
面近傍において収束するように照射される。デイ
スク３を透過した光がビームスプリツタ１７によ
り分割され、分割された各光を受光する第１受光
素子１８および第２受光素子１９の各出力から、
第１の演算回路２２により複屈折に関する値が演
算される。
対して光源１１より発せられた光がデイスク記録
面近傍において収束するように照射される。デイ
スク３を透過した光がビームスプリツタ１７によ
り分割され、分割された各光を受光する第１受光
素子１８および第２受光素子１９の各出力から、
第１の演算回路２２により複屈折に関する値が演
算される。
第１の演算回路２２から出力される演算値は第
１の比較回路２３に与えられ、予め定められた複
屈折の大きさについての合否判定基準値と比較さ
れる。その比較結果は判定回路２６に与えられ
る。一方、第１の演算回路２２から出力される演
算結果は第２の演算回路２４にも与えられる。第
２の演算回路２４は、第１の演算回路２２の演算
値を微分し、デイスク３の複屈折に関する値の時
間的変動を検出する。この検出値（すなわち、演
算値）は第２の比較回路２３に与えらえ、予め定
められた時間的変動についての合否判定基準値と
比較される。その比較結果は判定回路２６に与え
られる。判定回路２６は、第１の比較結果および
第２の比較結果に基づき、いずれか一方の結果が
対応する規準値を越える場合に当該デイスク３を
不合格と判定する。
１の比較回路２３に与えられ、予め定められた複
屈折の大きさについての合否判定基準値と比較さ
れる。その比較結果は判定回路２６に与えられ
る。一方、第１の演算回路２２から出力される演
算結果は第２の演算回路２４にも与えられる。第
２の演算回路２４は、第１の演算回路２２の演算
値を微分し、デイスク３の複屈折に関する値の時
間的変動を検出する。この検出値（すなわち、演
算値）は第２の比較回路２３に与えらえ、予め定
められた時間的変動についての合否判定基準値と
比較される。その比較結果は判定回路２６に与え
られる。判定回路２６は、第１の比較結果および
第２の比較結果に基づき、いずれか一方の結果が
対応する規準値を越える場合に当該デイスク３を
不合格と判定する。
このように、デイスクの合否判定に複屈折に関
する値とその値の時間的変動との２重の基準を用
いているため、不良デイスクの検出精度が向上
し、このことはデイスクの品質向上に寄与するこ
ととなる。
する値とその値の時間的変動との２重の基準を用
いているため、不良デイスクの検出精度が向上
し、このことはデイスクの品質向上に寄与するこ
ととなる。
第１図は本発明のデイスク測定装置のブロツク
図である。同図において１はモータであり、ター
ンテーブル２を回転する。３はデイスクであり、
ターンテーブル２上に載置され、クランパ４によ
り所定の圧力でクランプされる。従つてデイスク
３はターンテーブル２により支持、回転される。
図である。同図において１はモータであり、ター
ンテーブル２を回転する。３はデイスクであり、
ターンテーブル２上に載置され、クランパ４によ
り所定の圧力でクランプされる。従つてデイスク
３はターンテーブル２により支持、回転される。
半導体レーザ等の光源１１より発せられた発散
光はコリメータレンズ１２により平行光とされ、
１／４波長板等の波長板１３に入力される。光源１
１より発せられた光は直線偏光であるが、波長板
１３により円偏光となる。この光は対物レンズ１
４により収束点１０に収束され、収束点１０を通
過した光はそこから発散する。デイスク３は収束
点１０から離間した位置で回転するように配置さ
れている。換言すれば対物レンズ１４はデイスク
３の記録面近傍で光を収束させる（所謂デフオー
カス状態であつてもよい）。この点通常の情報記
録再生装置において光をデイスク上に収束させる
ようになされているのと大いに異なつている。ま
たこのことは所謂フオーカスサーボ装置が不要で
あることをも意味する。
光はコリメータレンズ１２により平行光とされ、
１／４波長板等の波長板１３に入力される。光源１
１より発せられた光は直線偏光であるが、波長板
１３により円偏光となる。この光は対物レンズ１
４により収束点１０に収束され、収束点１０を通
過した光はそこから発散する。デイスク３は収束
点１０から離間した位置で回転するように配置さ
れている。換言すれば対物レンズ１４はデイスク
３の記録面近傍で光を収束させる（所謂デフオー
カス状態であつてもよい）。この点通常の情報記
録再生装置において光をデイスク上に収束させる
ようになされているのと大いに異なつている。ま
たこのことは所謂フオーカスサーボ装置が不要で
あることをも意味する。
対物レンズ１４を介してデイスク３に照射さ
れ、デイスク３を透過した光は対物レンズ１５に
より再び平行光とされる。この平行光は1/4波長
板等の波長板１６に入射され、再び直線偏光に戻
される。この直線偏光は分割され、その偏光面が
偏光ビームスプリツタ１７の入的面と一致する成
分がビームスプリツタ１７を透過して受光素子１
８に入射し、一致しない成分がビームスプリツタ
１７により反射され、受光素子１９に入射する。
受光素子１８の出力信号Stと受光素子１９の出力
信号Srは、各々増幅器２０，２１により増幅さ
れ、演算回路２２に入力される。演算回路２２は
２つの入力信号から複屈折に関する値を演算す
る。すなわち信号St／（Sr＋St）の値を求める。
この演算値に対応した信号は比較回路２３に入力
され、予め設定された所定の基準値と比較され、
その比較結果が判定回路２６に入力される。
れ、デイスク３を透過した光は対物レンズ１５に
より再び平行光とされる。この平行光は1/4波長
板等の波長板１６に入射され、再び直線偏光に戻
される。この直線偏光は分割され、その偏光面が
偏光ビームスプリツタ１７の入的面と一致する成
分がビームスプリツタ１７を透過して受光素子１
８に入射し、一致しない成分がビームスプリツタ
１７により反射され、受光素子１９に入射する。
受光素子１８の出力信号Stと受光素子１９の出力
信号Srは、各々増幅器２０，２１により増幅さ
れ、演算回路２２に入力される。演算回路２２は
２つの入力信号から複屈折に関する値を演算す
る。すなわち信号St／（Sr＋St）の値を求める。
この演算値に対応した信号は比較回路２３に入力
され、予め設定された所定の基準値と比較され、
その比較結果が判定回路２６に入力される。
一方演算値に対応した信号はさらに演算回路２
４にも入力される。演算回路２４はこの演算値を
微分し、その微分値に対応した信号を比較回路２
５に出力する。比較回路２５はこの微分値に対応
した信号を予め設定した所定の基準値と比較し、
その比較結果を判定回路２６に出力する。
４にも入力される。演算回路２４はこの演算値を
微分し、その微分値に対応した信号を比較回路２
５に出力する。比較回路２５はこの微分値に対応
した信号を予め設定した所定の基準値と比較し、
その比較結果を判定回路２６に出力する。
判定回路２６は演算値が基準値以下であり、か
つ微分値も基準値以下であるときそのデイスク３
を合格とし、いずれか一方又は両方が基準値より
大きいときはそのデイスク３を不合格とし、合否
を表示装置２７に表示させる。割算値が基準値以
下であるということは絶対的な複屈折量が所定値
以下であることを意味する。しかしながら絶対量
が満足されるものであつたとしても、その時間変
動が大きい場合それが再生信号のＳ／Ｎに悪影響
を与える。そこで微分値をも測定し、時間的変動
量も所定の基準値以下であるとき始めてそのデイ
スク（基盤）３を合格とする。このため後述する
ようにデイスクは回転される。
つ微分値も基準値以下であるときそのデイスク３
を合格とし、いずれか一方又は両方が基準値より
大きいときはそのデイスク３を不合格とし、合否
を表示装置２７に表示させる。割算値が基準値以
下であるということは絶対的な複屈折量が所定値
以下であることを意味する。しかしながら絶対量
が満足されるものであつたとしても、その時間変
動が大きい場合それが再生信号のＳ／Ｎに悪影響
を与える。そこで微分値をも測定し、時間的変動
量も所定の基準値以下であるとき始めてそのデイ
スク（基盤）３を合格とする。このため後述する
ようにデイスクは回転される。
複屈折は方向性を有するが、デイスク３に入射
する光は平行光ではなく、対物レンズ１４により
収束光とされているので光軸方向の測定が可能と
なる。さらにデイスク３に入射する光が直線偏光
ではなく、波長板１３により円偏光とされている
のでデイスク３のラジアル方向とタンジエンシヤ
ル方向の測定が可能となる。複屈折が存在すると
それにより円偏光は楕円偏光となるので、受光部
２８側の波長板１６を省略しても、原理的には測
定が可能である。しかしながら省略すると測定の
感度が低下するので装備するのが好ましい。
する光は平行光ではなく、対物レンズ１４により
収束光とされているので光軸方向の測定が可能と
なる。さらにデイスク３に入射する光が直線偏光
ではなく、波長板１３により円偏光とされている
のでデイスク３のラジアル方向とタンジエンシヤ
ル方向の測定が可能となる。複屈折が存在すると
それにより円偏光は楕円偏光となるので、受光部
２８側の波長板１６を省略しても、原理的には測
定が可能である。しかしながら省略すると測定の
感度が低下するので装備するのが好ましい。
また受光部２８を固定した場合受光部２８（波
振板１６及びビームスプリツタ１７）の方位によ
り測定値が影響され、デイスク３の複屈折異方性
軸の面内方位角の変動を測定することができな
い。そこで受光部２８（波長板１６及びビームス
プリツタ１７の方位角）をモータ２９若しくは手
動により±90度回転させる。そして回転して得ら
れる割算値及び微分値のうち最悪の値（最大値）
をそのデイスク３の測定値とする。
振板１６及びビームスプリツタ１７）の方位によ
り測定値が影響され、デイスク３の複屈折異方性
軸の面内方位角の変動を測定することができな
い。そこで受光部２８（波長板１６及びビームス
プリツタ１７の方位角）をモータ２９若しくは手
動により±90度回転させる。そして回転して得ら
れる割算値及び微分値のうち最悪の値（最大値）
をそのデイスク３の測定値とする。
さらにデイスク３の全体の複屈折を測定するた
め、発光部３０と受光部２８は一体的にデイスク
３のラジアル方向に図示せぬ手段により移送され
る。デイスク３がCLVデイスクであるとき、発
光部３０（受光部２８）のラジアル方向の位置
が、例えばポテンシヨメータ等よりなる位置検出
回路３１により検出され、その位置に対応した信
号がスイツチ３２を介して駆動回路３３に入力さ
れる。その結果駆動回路３３はモータ１を制御
し、発光部３０がデイスク３の外周に行く程回転
を遅くし、デイスク３の線速度が略一定となるよ
うにする。またCAVデイスクである場合、スイ
ツチ３２は基準信号発生回路３４側に切り換えら
れ、基準信号発生回路３４とが出力する基準信号
に対応してデイスク３は略一定の角速度で回転さ
れる。このようにしてデイスク３は情報を記録再
生する場合の速度と略同一の速度で回転される。
発光部３０をラジアル方向に移動した場合におい
ても、そのとき得られる割算値、微分値のうち最
も悪い値が合否の基準とされる。
め、発光部３０と受光部２８は一体的にデイスク
３のラジアル方向に図示せぬ手段により移送され
る。デイスク３がCLVデイスクであるとき、発
光部３０（受光部２８）のラジアル方向の位置
が、例えばポテンシヨメータ等よりなる位置検出
回路３１により検出され、その位置に対応した信
号がスイツチ３２を介して駆動回路３３に入力さ
れる。その結果駆動回路３３はモータ１を制御
し、発光部３０がデイスク３の外周に行く程回転
を遅くし、デイスク３の線速度が略一定となるよ
うにする。またCAVデイスクである場合、スイ
ツチ３２は基準信号発生回路３４側に切り換えら
れ、基準信号発生回路３４とが出力する基準信号
に対応してデイスク３は略一定の角速度で回転さ
れる。このようにしてデイスク３は情報を記録再
生する場合の速度と略同一の速度で回転される。
発光部３０をラジアル方向に移動した場合におい
ても、そのとき得られる割算値、微分値のうち最
も悪い値が合否の基準とされる。
この装置の各構成部分としてどのような特性の
ものを用いるかは、所望する測定精度により異な
るが、光源１としては例えば波長が830nｍの半
導体レーザを用いることができる。その誤差は小
さい程好ましい。またできるだけ直線偏光性の良
好なものが好ましい。対物レンズ１４は、デイス
ク３に情報を記録再生するピツクアツプに用いら
れるものと同一のものとするのが好ましく、例え
ばその開口数（NA）は0.5乃至0.55のものを用い
ることができる。デイスク３上におけるビームの
直径Ｄは例えば１mm乃至２mmとする。対物レンズ
１５の開口数は対物レンズ１４の開口数以上（例
えば0.6）とするのが好ましい。波長板１３、１
６のレタデーシヨン誤差及びビームスプリツタ１
７の消光比は小さい方が好ましい。またクランパ
４のクランプ力はあまり強いと複屈折が増加する
ので所定の値（情報記録再生装置における場合と
同一の値）に設定する。
ものを用いるかは、所望する測定精度により異な
るが、光源１としては例えば波長が830nｍの半
導体レーザを用いることができる。その誤差は小
さい程好ましい。またできるだけ直線偏光性の良
好なものが好ましい。対物レンズ１４は、デイス
ク３に情報を記録再生するピツクアツプに用いら
れるものと同一のものとするのが好ましく、例え
ばその開口数（NA）は0.5乃至0.55のものを用い
ることができる。デイスク３上におけるビームの
直径Ｄは例えば１mm乃至２mmとする。対物レンズ
１５の開口数は対物レンズ１４の開口数以上（例
えば0.6）とするのが好ましい。波長板１３、１
６のレタデーシヨン誤差及びビームスプリツタ１
７の消光比は小さい方が好ましい。またクランパ
４のクランプ力はあまり強いと複屈折が増加する
ので所定の値（情報記録再生装置における場合と
同一の値）に設定する。
偏光方位と異方性軸方位との相対角度の関係が
あるから、直線偏光による測定から円偏光におけ
る全ての影響を検出することは極めて困難である
が、逆に円偏光による測定から直線偏光における
影響を推測することは可能である。そこで本発明
は光磁気デイスクの測定にも応用が可能である。
あるから、直線偏光による測定から円偏光におけ
る全ての影響を検出することは極めて困難である
が、逆に円偏光による測定から直線偏光における
影響を推測することは可能である。そこで本発明
は光磁気デイスクの測定にも応用が可能である。
尚所定の点における値を測定する場合はデイス
ク３を回転せず、停止させてもよい。また必要に
応じ、演算回路２２，２４の出力をそのまま利用
することもできるし、位置検出回路３１の出力と
対応させて各ラジアル位置における測定値を記憶
するようにしてもよい。
ク３を回転せず、停止させてもよい。また必要に
応じ、演算回路２２，２４の出力をそのまま利用
することもできるし、位置検出回路３１の出力と
対応させて各ラジアル位置における測定値を記憶
するようにしてもよい。
以上の如く本発明は光源と、光源より発せられ
た光を所定の収束点に収束させる対物レンズと、
収束点から離間した位置でデイスクを支持するタ
ーンテーブルと、光源より発せられ、対物レンズ
を介してデイスクに照射され、デイスクを透過し
た光を少なくとも２つに分割するビームスプリツ
タと、ビームスプリツタにより分割された一方の
光を受光する第１の受光素子と、他方の光を受光
する第２の受光素子と、第１の受光素子の出力と
第２の受光素子の出力から、デイスクの複屈折の
値を演算する第１の演算回路とを備えるようにし
たので、デイスクのラジアル方向及びタンジエン
シヤル方向はもとより、光軸方向の複屈折も短時
間で測定することができる。また光源へのバツク
トークの影響もないので安定した測定ができる。
さらにオートフオーカス機構が不要となり、また
平行光をデイスクに斜めに入射させるような方式
に較べ、その抑り機構等を必要としないから、構
成を簡単にし、コストを低くすることができる。
た光を所定の収束点に収束させる対物レンズと、
収束点から離間した位置でデイスクを支持するタ
ーンテーブルと、光源より発せられ、対物レンズ
を介してデイスクに照射され、デイスクを透過し
た光を少なくとも２つに分割するビームスプリツ
タと、ビームスプリツタにより分割された一方の
光を受光する第１の受光素子と、他方の光を受光
する第２の受光素子と、第１の受光素子の出力と
第２の受光素子の出力から、デイスクの複屈折の
値を演算する第１の演算回路とを備えるようにし
たので、デイスクのラジアル方向及びタンジエン
シヤル方向はもとより、光軸方向の複屈折も短時
間で測定することができる。また光源へのバツク
トークの影響もないので安定した測定ができる。
さらにオートフオーカス機構が不要となり、また
平行光をデイスクに斜めに入射させるような方式
に較べ、その抑り機構等を必要としないから、構
成を簡単にし、コストを低くすることができる。
さらに、第１の演算回路の演算値を第２の演算
回路により微分し、複屈折に関する値の時間的変
動を検出し、複屈折の大きさとその時間的変動の
２つの判定要素によりデイスクの合否判定を行う
ようにしたので、デイスクの合否判定精度が向上
し、デイスクの品質向上に寄与することができ
る。
回路により微分し、複屈折に関する値の時間的変
動を検出し、複屈折の大きさとその時間的変動の
２つの判定要素によりデイスクの合否判定を行う
ようにしたので、デイスクの合否判定精度が向上
し、デイスクの品質向上に寄与することができ
る。
第１図は本発明のデイスク測定装置のブロツク
図である。 １……モータ、２……ターンテーブル、３……
デイスク、４……クランパ、１０……収束点、１
１……光源、１２……コリメータレンズ、１３…
…波長板、１４，１５……対物レンズ、１６……
波長板、１７……ビームスプリツタ、１８，１９
……受光素子、２２……演算回路、２３……比較
回路、２４……演算回路、２５……比較回路、２
６……判定回路、２７……表示装置、２８……受
光部、２９……モータ、３０……発光部、３１…
…位置検出回路、３３……駆動回路、３４……基
準信号発生回路。
図である。 １……モータ、２……ターンテーブル、３……
デイスク、４……クランパ、１０……収束点、１
１……光源、１２……コリメータレンズ、１３…
…波長板、１４，１５……対物レンズ、１６……
波長板、１７……ビームスプリツタ、１８，１９
……受光素子、２２……演算回路、２３……比較
回路、２４……演算回路、２５……比較回路、２
６……判定回路、２７……表示装置、２８……受
光部、２９……モータ、３０……発光部、３１…
…位置検出回路、３３……駆動回路、３４……基
準信号発生回路。
Claims (1)
- １ 光源１１と、この光源より発せられた光を所
定の収束点に収束する対物レンズ１４と、前記収
束点から離間した位置でデイスク３を支持するタ
ーンテーブル２と、前記光源より発せられ、前記
対物レンズを介して前記デイスクに照射され、こ
のデイスクを透過した光を少なくとも２つに分割
するビームスプリツタ１７と、このビームスプリ
ツタにより分割された一方の光を受光する第１の
受光素子１８と、他方の光を受光する第２の受光
素子１９と、前記第１の受光素子の出力および第
２の受光素子の出力から、前記デイスクの複屈折
に関する値を演算する第１の演算回路２２と、こ
の第１の演算回路２２から出力される演算値の微
分演算を行う第２の演算回路２４と、前記第１の
演算回路２２から出力される演算値と予め定めら
れた複屈折の大きさについての合否判定基準値と
を比較する第１の比較回路２３と、前記第２の演
算回路２４から出力される演算値と予め定められ
た複屈折の値の時間的変動についての合否判定基
準値とを比較する第２の比較回路２５と、前記第
１および第２の比較回路からの各比較結果に基づ
いて判定し、前記いずれか一方の比較結果が基準
値を越える大きさである場合に当該デイスクを不
合格と判定する判定回路２６と、を備えたことを
特徴とするデイスク測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8944986A JPS62245951A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | デイスク測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8944986A JPS62245951A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | デイスク測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62245951A JPS62245951A (ja) | 1987-10-27 |
| JPH0569374B2 true JPH0569374B2 (ja) | 1993-09-30 |
Family
ID=13970994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8944986A Granted JPS62245951A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | デイスク測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62245951A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01216235A (ja) * | 1988-02-25 | 1989-08-30 | Orc Mfg Co Ltd | 複屈折の測定方法 |
| JPH04335145A (ja) * | 1991-05-13 | 1992-11-24 | Idec Izumi Corp | 織物欠陥穴検出器 |
| JP6630061B2 (ja) * | 2014-05-28 | 2020-01-15 | 天津先陽科技発展有限公司 | 拡散スペクトルデータの処理方法及び処理装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5788347A (en) * | 1980-10-29 | 1982-06-02 | Zeiss Jena Veb Carl | Polarization path difference measuring apparatus |
| JPS60250229A (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-10 | Nec Corp | プラスチツク基板検査装置 |
-
1986
- 1986-04-18 JP JP8944986A patent/JPS62245951A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5788347A (en) * | 1980-10-29 | 1982-06-02 | Zeiss Jena Veb Carl | Polarization path difference measuring apparatus |
| JPS60250229A (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-10 | Nec Corp | プラスチツク基板検査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62245951A (ja) | 1987-10-27 |
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