JPH0564463B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0564463B2
JPH0564463B2 JP14466284A JP14466284A JPH0564463B2 JP H0564463 B2 JPH0564463 B2 JP H0564463B2 JP 14466284 A JP14466284 A JP 14466284A JP 14466284 A JP14466284 A JP 14466284A JP H0564463 B2 JPH0564463 B2 JP H0564463B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tape
wafer
peeling
wafer chuck
cassette
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP14466284A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6123336A (en
Inventor
Shigeo Sasaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP14466284A priority Critical patent/JPS6123336A/en
Publication of JPS6123336A publication Critical patent/JPS6123336A/en
Publication of JPH0564463B2 publication Critical patent/JPH0564463B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、テープ剥し方法及びその方法の実施
に直接使用するテープ剥し装置に関する。 〔発明の技術的背景とその問題点〕 所定の回路パターンを形成した半導体ウエハ
(以下単にウエハと記す。)は、その表面にテープ
を貼着して回路の保護がなされている。而して、
このテープを剥す手段として、手作業によるもの
或は機械を用いてテープの接着力よりも更に強い
接着力を有する剥離用テープをテープ上に貼着
し、この剥離用テープを引張つて剥離するものが
行われている。しかしながら、手作業によるもの
では多くの人手を要すると共に作業性が悪い欠点
がある。また、剥離用テープを使用するもので
は、材料費が高くなると共に、手作業の場合も同
様であるが剥離後にテープの糊が残存し、ウエハ
を汚染する欠点がある。更に、これらの手段で
は、ウエハの肉厚が通常200〜450μと薄く、その
直径も4〜6mmφ程度であるため、テープを剥す
際にウエハに損傷を与える問題がある。 また、化学薬品を用いてテープを剥す手段も採
用されているが、この場合には化学薬品によつて
糊がウエハの表面全面に広がるため、極めて多量
の溶剤を用いてこと拡散した糊を除去する必要が
ある。このため、作業性、経済性が悪い。 〔発明の目的〕 本発明は、ウエハに貼着されたテープをウエハ
の破損を防止して、かつ、残存する糊量を少なく
し、しかも高い作業性の下に容易に剥離すること
ができるテープ剥し方法及びその装置を提供する
ことをその目的とするものである。 〔発明の概要〕 本発明は、テープが貼着されたウエハを所定温
度に冷却して糊の接着力を低下させてから、吸着
手段を用いてテープを剥すことにより、ウエハの
破損を防止して、かつ、残存する糊量を少なく
し、しかも高い作業性の下にテープを容易に剥離
することができるテープ剥し方法である。 また、本発明は、テープを貼着したウエハをウ
エハチヤツクに載置して所定温度に冷却する冷却
機構と、冷却されたウエハからテープを剥すテー
プ吸着アームを設けたことにより、ウエハの破損
を防止して、かつ、残存する糊量を少なくし、し
かも高い作業性の下にテープを容易に剥離するこ
とができるテープ剥し装置である。 〔発明の実施例〕 以下、本発明の実施例について図面を参照して
説明する。なお、本発明方法の説明は、一実施例
のテープ剥し装置の動作の説明等をもつてその代
わりとする。第1図は、本発明の一実施例のテー
プ剥し装置の概略構成を示す説明図である。図中
1は、シールドボツクスである。シールドボツク
ス1の片側の側部には、後述する供給カセツト2
が収容されるパスボツクス3が設けられている。
パスボツクス3はスライドドア4を介してシール
ドボツクス1の内部と仕切られている。シールド
ボツクス1の相対向する他方の側部には、同様に
スライドドア5を介してパスボツクス6が設けら
れている。このパスボツクス6内には、後述する
収容カセツト7が収容されるようになつている。
また、シールドボツクス1には、内部にN2ガス
或は乾燥空気を導入するためのガス導入管8が取
付られている。同様のガス導入管9は、前述のパ
スボツクス6にも取付けられている。 シールドボツクス1内の所定位置には、パスボ
ツクス3から搬入された供給カセツト2が設置さ
れるようになつている。供給カセツト2内には、
第2図に示す如く、表面に糊層10を介してテー
プ11を貼着したウエハ12が複数枚収容されて
いる。供給カセツト2の前方には、これに相対向
するようにして収容カセツト7が設置されるよう
になつている。収容カセツト7内には、後述する
処理後のウエハ12が収容されるようになつてい
る。シールドボツクス1内の供給カセツト2と収
容カセツト7間には、予冷用のウエハチヤツク1
3と冷却及び剥し台となるウエハチヤツク14と
が順次設置されている。供給カセツト2、予冷用
のウエハチヤツク13、冷却及び剥し台となるウ
エハチヤツク14及び収容カセツト7間には、引
出ベルトからなる搬送手段15が設けられてお
り、夫々の間でウエハ12を搬送するようになつ
ている。夫々のウエハチヤツク13,14には、
第3図に示す如く、液体チツ素等の冷媒が循環す
る冷媒管16からなる冷却機構と、ウエハ載置部
17を減圧状態にしてウエハ12を固着するため
の吸引管18が接続されている。冷却及び剥し台
とないウエハチヤツク14の上方には、ウエハ載
置部17に対向するようにしてテープ吸着アーム
19が昇降自在に設けられている。 而して、このように構成されたテープ剥し装置
20によれば、予め夫々のウエハチヤツク13,
14を冷媒管16に所定の冷媒を循環させて例え
ば0〜−50℃に冷却しておく。この温度は、ウエ
ハ12に貼着されたテープ11の糊層10による
接着力を低下させるものであれば良い。また、こ
のとき、吸引管18によりウエハ載置部17を減
圧状態に設定しておく。 次いで、処理前の第2図に示すような表面にテ
ープ11が貼着されたウエハ12を複数枚収容し
た供給カセツト2を、パスボツクス3からシール
ドボツクス1内の所定位置に設置する。次いで、
搬送手段15によつて供給カセツト2からウエハ
12を引き出し、予冷用のウエハチヤツク13上
に固着する。ここでウエハ12は第4図に示す如
く、冷却されてその表面のテープ11及び糊層1
0がウエハ表面から湾曲してその端部で剥れた状
態となる。これは、糊層10が冷却されて所定の
接着力を失うためである。このようにテープ11
及び糊層10が湾曲した状態のウエハ12を、搬
送手段15により次のウエハチヤツク14上に移
す。 次に、テープ吸着アーム19を降下してウエハ
12上のテープ11を糊層10と共に、図示しな
い吸引機構で吸引することにより吸着し、ウエハ
12から剥離する。このようにしてテープ11の
剥離されたウエハ12と搬送手段15によつて供
給カセツト7に移す。 以下、同様の操作を繰り返して供給カセツト2
内のウエハ12の全てについてテープ11の剥し
を行ない、収容カセツト7が処理後のウエハ12
で満たされたところで、収容カセツト7と所定雰
囲気に保たれたパスボツクス6に搬入してテープ
剥し操作を終了する。 このように糊層10の接着力を冷却によつて低
下させると共に、冷却によつてテープ11及び糊
層10の端部を収縮させて剥した状態にしてか
ら、テープ吸着アーム19によりテープ11の剥
し操作を行うので、ウエハ12に損傷を与えずに
テープ11を容易に剥すことができる。しかも、
糊層10は冷却されて固化しているのでウエハ1
2の表面に残存する糊量を極めて少なくして、ウ
エハ12の汚染を防止できる。更に、これらのテ
ープ剥し操作を自動化された機構で行ない、作業
性を著しく向上させることができる。 〔発明の効果〕 以上説明した如く、本発明に係るテープ剥し方
法及びその装置は、ウエハに貼着されたテープを
ウエハの破損を防止して、かつ、残存する糊量を
少なくし、しかも高い作業性の下に容易に剥離で
きるものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a tape stripping method and a tape stripping device used directly in carrying out the method. [Technical Background of the Invention and Problems Therewith] A semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a wafer) on which a predetermined circuit pattern is formed has a tape attached to its surface to protect the circuit. Then,
The method for peeling off this tape is to apply a peeling tape with an adhesive force stronger than that of the tape by hand or by using a machine, and to peel it off by pulling the peeling tape. is being carried out. However, manual work requires a lot of manpower and has the disadvantage of poor workability. Furthermore, the method using a peeling tape has the disadvantage that the material cost is high and, as is the case with manual peeling, the adhesive of the tape remains after peeling and contaminates the wafer. Furthermore, in these methods, since the thickness of the wafer is usually as thin as 200 to 450 .mu.m, and the diameter thereof is approximately 4 to 6 mm, there is a problem that the wafer may be damaged when the tape is removed. Another method is to use chemicals to remove the tape, but in this case, the chemicals spread the glue over the entire surface of the wafer, so an extremely large amount of solvent is used to remove the spread glue. There is a need to. For this reason, workability and economy are poor. [Object of the Invention] The present invention provides a tape that prevents damage to the wafer when attached to a wafer, reduces the amount of remaining adhesive, and can be easily peeled off with high workability. It is an object of the present invention to provide a stripping method and device. [Summary of the Invention] The present invention prevents damage to the wafer by cooling the wafer to which the tape is attached to a predetermined temperature to reduce the adhesive strength of the glue, and then peeling off the tape using suction means. This is a tape peeling method that can reduce the amount of adhesive remaining and easily peel off the tape with high workability. Furthermore, the present invention prevents damage to the wafer by providing a cooling mechanism that cools the wafer to a predetermined temperature by placing the wafer with the tape attached on a wafer chuck, and a tape suction arm that peels off the tape from the cooled wafer. This tape peeling device is capable of easily peeling off the tape while reducing the amount of remaining adhesive and with high workability. [Embodiments of the Invention] Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the description of the method of the present invention will be replaced with a description of the operation of the tape peeling device of one embodiment. FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of a tape peeling device according to an embodiment of the present invention. 1 in the figure is a shield box. On one side of the shield box 1 is a supply cassette 2, which will be described later.
A pass box 3 is provided in which a pass box 3 is accommodated.
The pass box 3 is separated from the inside of the shield box 1 via a sliding door 4. A pass box 6 is similarly provided on the other opposing side of the shield box 1 via a sliding door 5. Inside this pass box 6, a storage cassette 7, which will be described later, is accommodated.
Further, a gas introduction pipe 8 for introducing N 2 gas or dry air into the shield box 1 is attached. A similar gas introduction pipe 9 is also attached to the aforementioned pass box 6. A supply cassette 2 carried in from a pass box 3 is installed at a predetermined position within the shield box 1. Inside the supply cassette 2,
As shown in FIG. 2, a plurality of wafers 12 are housed, each having a tape 11 adhered to its surface via an adhesive layer 10. A storage cassette 7 is installed in front of the supply cassette 2 so as to face it. The storage cassette 7 accommodates processed wafers 12, which will be described later. A wafer chuck 1 for pre-cooling is installed between the supply cassette 2 and the storage cassette 7 in the shield box 1.
3 and a wafer chuck 14 serving as a cooling and stripping table are installed in this order. A conveying means 15 consisting of a pull-out belt is provided between the supply cassette 2, the wafer chuck 13 for pre-cooling, the wafer chuck 14 serving as a cooling and stripping table, and the storage cassette 7, so as to convey the wafers 12 between them. It's summery. In each wafer chuck 13 and 14,
As shown in FIG. 3, a cooling mechanism consisting of a refrigerant pipe 16 through which a refrigerant such as liquid nitrogen circulates is connected to a suction pipe 18 for reducing the pressure in the wafer mounting section 17 and fixing the wafer 12. . A tape suction arm 19 is provided above the wafer chuck 14 without a cooling and stripping table so as to be movable up and down so as to face the wafer placement section 17. According to the tape peeling device 20 configured in this way, the respective wafer chucks 13,
14 is cooled to, for example, 0 to -50°C by circulating a predetermined refrigerant through the refrigerant pipe 16. This temperature may be any temperature as long as it reduces the adhesive force of the adhesive layer 10 of the tape 11 attached to the wafer 12. Further, at this time, the wafer mounting section 17 is set to a reduced pressure state by the suction pipe 18. Next, a supply cassette 2 containing a plurality of wafers 12 with tapes 11 attached to their surfaces as shown in FIG. 2 before processing is placed from the pass box 3 to a predetermined position within the shield box 1. Then,
The wafer 12 is pulled out from the supply cassette 2 by the transport means 15 and fixed onto a wafer chuck 13 for pre-cooling. Here, the wafer 12 is cooled down and the tape 11 and glue layer 1 on its surface are
0 is curved from the wafer surface and peeled off at its end. This is because the glue layer 10 is cooled and loses its predetermined adhesive strength. Tape 11 like this
The wafer 12 with the glue layer 10 curved is transferred onto the next wafer chuck 14 by the transfer means 15. Next, the tape suction arm 19 is lowered, and the tape 11 on the wafer 12 is suctioned and peeled off from the wafer 12 together with the adhesive layer 10 by a suction mechanism (not shown). The wafer 12 from which the tape 11 has been peeled off in this manner is transferred to the supply cassette 7 by the transport means 15. From then on, repeat the same operation to supply supply cassette 2.
The tape 11 is removed from all of the wafers 12 in the cassette 7, and the wafers 12 after processing are removed from the storage cassette 7.
When the tape is filled, the storage cassette 7 and the tape are carried into the pass box 6 which is maintained in a predetermined atmosphere, and the tape removing operation is completed. In this way, the adhesive force of the glue layer 10 is reduced by cooling, and the end portions of the tape 11 and the glue layer 10 are contracted by cooling, and the tape 11 is removed by the tape suction arm 19. Since the peeling operation is performed, the tape 11 can be easily peeled off without damaging the wafer 12. Moreover,
Since the glue layer 10 has been cooled and solidified, the wafer 1
By minimizing the amount of glue remaining on the surface of the wafer 2, contamination of the wafer 12 can be prevented. Furthermore, these tape peeling operations can be performed by an automated mechanism, thereby significantly improving work efficiency. [Effects of the Invention] As explained above, the tape peeling method and device according to the present invention can remove the tape attached to a wafer by preventing damage to the wafer, reducing the amount of remaining adhesive, and reducing the amount of adhesive applied to the wafer. It can be easily peeled off due to its workability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の一実施例の概略構成を示す
説明図、第2図は、処理前のウエハを示す説明
図、第3図は、ウエハチヤツクの概略構成を示す
説明図、第4図は、冷却されたウエハの状態を示
す説明図である。 1……シールドボツクス、2……供給カセツ
ト、3……パスボツクス、4……スライドドア、
5……スライドドア、6……パスボツクス、7…
…収容カセツト、8……ガス導入管、9……ガス
導入管、10……糊層、11……テープ、12…
…ウエハ、13……ウエハチヤツク、14……ウ
エハチヤツク、15……搬送手段、16……冷媒
管、17……ウエハ載置部、18……吸引管、1
9……テープ吸着アーム、20……テープ剥し装
置。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram showing a wafer before processing, FIG. 3 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of a wafer chuck, and FIG. FIG. 2 is an explanatory diagram showing the state of a cooled wafer. 1... Shield box, 2... Supply cassette, 3... Pass box, 4... Sliding door,
5...Sliding door, 6...Pass box, 7...
... Storage cassette, 8 ... Gas introduction pipe, 9 ... Gas introduction pipe, 10 ... Glue layer, 11 ... Tape, 12 ...
...Wafer, 13...Wafer chuck, 14...Wafer chuck, 15...Transporting means, 16...Refrigerant pipe, 17...Wafer mounting section, 18...Suction pipe, 1
9... Tape suction arm, 20 ... Tape peeling device.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 テープが貼着された処理前のウエハを所定温
度に冷却して前記テープの糊の接着力を低下させ
る工程と、前記テープを吸着手段を用いて前記テ
ープから吸着力を利用して剥離する工程とを具備
することを特徴とするテープ剥し方法。 2 処理前のテープを貼着したウエハを供給する
供給カセツトと、該供給カセツトに対向して所定
間隔を置いて設けられ、処理後の前記ウエハを収
容する収容カセツトと、該収容カセツトと前記供
給カセツト間の所定位置に設けられたウエハチヤ
ツクと、該ウエハチヤツクに接続された冷却機構
と、該ウエハチヤツクのウエハ載置面に対向して
昇降自在に設けられたテープ吸着アームと、前記
供給カセツトと該ウエハチヤツク間及び該ウエハ
チヤツクと前記収容カセツト間で前記ウエハを搬
送する搬送手段とを具備することを特徴とするテ
ープ剥し装置。
[Scope of Claims] 1. A step of cooling an unprocessed wafer to which a tape is attached to a predetermined temperature to reduce the adhesion force of the glue of the tape, and removing the adhesion force from the tape using a suction means. A method for peeling off a tape, comprising: a step of peeling off using a tape. 2. A supply cassette for supplying wafers with tapes attached before processing; a storage cassette provided at a predetermined interval opposite to the supply cassette for accommodating the wafers after processing; A wafer chuck provided at a predetermined position between the cassettes, a cooling mechanism connected to the wafer chuck, a tape suction arm provided so as to be movable up and down facing the wafer placement surface of the wafer chuck, the supply cassette and the wafer chuck. 1. A tape stripping device comprising: a wafer storage cassette; and a transport means for transporting the wafer between the wafer chuck and the storage cassette.
JP14466284A 1984-07-12 1984-07-12 Tape peeling method and apparatus therefor Granted JPS6123336A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14466284A JPS6123336A (en) 1984-07-12 1984-07-12 Tape peeling method and apparatus therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14466284A JPS6123336A (en) 1984-07-12 1984-07-12 Tape peeling method and apparatus therefor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6123336A JPS6123336A (en) 1986-01-31
JPH0564463B2 true JPH0564463B2 (en) 1993-09-14

Family

ID=15367304

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14466284A Granted JPS6123336A (en) 1984-07-12 1984-07-12 Tape peeling method and apparatus therefor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6123336A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6096024B2 (en) * 2013-03-26 2017-03-15 リンテック株式会社 Sheet peeling apparatus and sheet peeling method

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6123336A (en) 1986-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0513651A1 (en) Apparatus for applying and removing protective adhesive tape to/from semiconductor wafer surfaces
JP2539447B2 (en) Production method by single-wafer carrier
JPH10154686A (en) Method of cleaning semiconductor substrate processing device
JPH0745556A (en) Dicing device
TW559880B (en) Method and apparatus for peeling protective sheet
US5006190A (en) Film removal method
JP3993918B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2003197581A (en) Plate supporting member and method of using the same
US6029427A (en) Method and apparatus for handling semiconductor chips
US5601732A (en) Protecting film for wafer and method for grinding surface of wafer with the same
US5343363A (en) Split backed pressure sensitive die carrier tape
JP2994356B1 (en) Wafer surface protection tape peeling device
JP2005086074A (en) Method for transferring semiconductor wafer
JPH0564463B2 (en)
JPH08148451A (en) Semiconductor wafer automatic exfoliation device
JP2000331963A (en) Method and device for mounting wafer to wafer frame and facing device incorporating mounting device
JP2001024050A (en) Work holding apparatus
JPH0250440A (en) Die bonding device
WO2000020167A3 (en) Method and apparatus for automatically polishing magnetic disks and other substrates
JP2002353170A (en) Dividing system, dividing method and dicing device for semiconductor wafer
JPH08181197A (en) Manufacture of semiconductor device and wafer mounter to be used for the same
JPS6323334A (en) Processing of semiconductor element
JPH0697211A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS61296734A (en) Wafer tape mounting method and apparatus
JP2000058497A (en) Spin cleaning/drying method