JPH0562770A - エナメル線の製造方法 - Google Patents

エナメル線の製造方法

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Publication number
JPH0562770A
JPH0562770A JP21859091A JP21859091A JPH0562770A JP H0562770 A JPH0562770 A JP H0562770A JP 21859091 A JP21859091 A JP 21859091A JP 21859091 A JP21859091 A JP 21859091A JP H0562770 A JPH0562770 A JP H0562770A
Authority
JP
Japan
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varnish
baking
insulating
heated
insulating varnish
Prior art date
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Pending
Application number
JP21859091A
Other languages
English (en)
Inventor
Kishirou Miura
樹四郎 三浦
Kazunori Suzuki
和則 鈴木
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Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0562770A publication Critical patent/JPH0562770A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】走行導線に絶縁ワニスを塗装し、焼付炉で乾燥
焼付けしてエナメル線を製造するにあたり、安価で、優
れた絶縁性能を有するエナメル線を高速度で製造する方
法を提供する。 【構成】走行中の導線を絶縁ワニス中を通し、誘導加熱
コイルを備えた加熱装置を通した後に、焼付炉で乾燥焼
付けを行なう。 【効果】塗装後に誘導加熱することにより、絶縁ワニス
中の蒸発が促進され、絶縁皮膜内の残留溶剤が減少して
発泡は低減し、乾燥焼付温度を高くすることができ、エ
ナメル線の製造速度を大幅に高速化することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、エナメル線の製造方法
の改善に関するものである。
【0002】
【従来の技術】エナメル線の製造方法は、通常所定長さ
に伸線された導線を焼鈍炉で焼鈍した後、絶縁ワニスを
塗装し、乾燥焼付けし、所定のリ−ルにて連続的に巻き
取るものである。この工程では、絶縁ワニス塗装と乾燥
焼付けは、所定の絶縁皮膜厚さを得るために複数回繰り
返しておこなう。
【0003】絶縁ワニスの乾燥焼付は従来、エナメル線
焼付炉で行なわれてきたが、これは焼付炉内の高温空気
を媒介とするため、絶縁ワニスの外表面からの加熱を行
なうことであった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の方法では、絶縁
ワニス内の溶剤が蒸発し終わらないうちに表面が固化し
内部に溶剤が残留する可能性が高かった。内部に溶剤が
残留すると、焼付炉内で再加熱された時に溶剤の気化圧
力で外表面の固化膜がやぶれて発泡現象を生じたり、溶
剤がミクロバブルのまま取に残されて、絶縁皮膜の電気
絶縁性が著しく損なわれることがある。
【0005】これらの課題を解決するには、絶縁ワニス
の乾燥焼付けを、低温、低速で行なうか、1回当りの塗
装量を減らして塗装回数を増加するかであるが、これら
は生産効率を低下し、したがって生産コストを上昇させ
ることになる。
【0006】この絶縁ワニス内の溶剤の残留を防ぐこと
が、エナメル線の生産効率の向上を図る上で最も重要で
ある。
【0007】本発明の目的は、前記の従来技術の欠点を
解消し、絶縁性能が優れ、安価なエナメル線を高速度下
で製造することができるエナメル線の製造方法を提供す
ることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明のエナメル線の製造方法の構成は、走行中の導
線を、絶縁ワニス塗装装置で塗装し、誘導加熱装置で加
熱した後、さらに焼付炉でワニスを乾燥焼付するように
したことである。
【0009】
【作用】本発明の要旨は、エナメル線の製造工程におい
て、ワニス塗装装置と焼付炉の間に誘導加熱装置を配置
したことであり、それによって、絶縁性能と製造速度を
大幅に向上させたものである。
【0010】誘導加熱装置は導体表面を加熱するための
ものであるが、特に導体表面側から絶縁ワニスを伝導加
熱することができる。導体表面の加熱温度は130〜2
00℃の範囲内で制御することが好ましい。
【0011】
【実施例】以下本発明にかかる一実施例を図1を用いて
説明する。
【0012】図1(イ)は本発明のエナメル線の製造方
法の一実施例を示した平面説明図、図1(ロ)はその正
面説明図である。
【0013】図1において、1は走行導線、2は絶縁ワ
ニス塗装装置、3は誘導加熱コイル4は焼付炉である。
【0014】走行導線1は、絶縁ワニス塗装装置2を通
過して絶縁ワニスで塗装された後、誘導加熱コイル3で
導体表面を加熱され、さらに従来の焼付炉4で乾燥焼付
される。この絶縁ワニスの塗装と導体表面の加熱および
絶縁ワニスの乾燥焼付け工程は、所定皮膜厚を得るま
で、複数回繰り返して行なわれる。
【0015】絶縁ワニスを塗装された走行導線1は、誘
導加熱コイル3を通る時、導体表面が渦電流損により発
熱する。その熱が塗装されている絶縁ワニスに伝導され
るため、絶縁ワニスは内側から加熱されることになる。
その後焼付炉4で絶縁ワニスは外側から加熱されるが、
絶縁ワニス内の溶剤は表面が固化する前に蒸発が完了す
るため、絶縁ワニスの乾燥焼付けは高速化することがで
きる。
【0016】また、固化した絶縁皮膜内に残留する溶剤
は、従来と比べて著しく減少し、発泡現象も激減するた
め、絶縁皮膜が緻密であり、電気絶縁性能に優れたエナ
メル線を得ることができる。さらに絶縁皮膜内に残留す
る溶剤が減ることにより、焼付温度をさらに高くし、工
程を高温高速化することができ、製造コストの低減化を
はかることができる。
【0017】なお、絶縁ワニスを塗装した後、行なわれ
る誘導加熱の工程は、通常複数回繰り返えすことによ
り、最も効果的であるが、最初の回にだけ行なっても、
発泡防止法としては効果がある。
【0018】
【発明の効果】本発明により、つぎのような効果がみと
められる。
【0019】(1)絶縁皮膜内にミクロバブル、発泡の
少ない緻密な絶縁皮膜を得ることができ、エナメル線の
電気絶縁性能が大幅に向上した。
【0020】(2)絶縁ワニス中の溶剤蒸発の促進効果
および絶縁皮膜内の残留溶剤の減少による発泡の低減に
より、乾燥焼付温度の高温化をはかることができ、エナ
メル線の製造速度を大幅に高速化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(イ)は本発明の一実施例のエナメル線の製造
工程を示す平面説明図、(ロ)はその正面説明図であ
る。
【符号の説明】
1 走行導線 2 絶縁ワニス塗装装置 3 誘導加熱コイル 4 焼付炉

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】走行中の導線を、絶縁ワニス塗装装置で塗
    装し、誘導加熱装置で加熱した後、さらに焼付炉でワニ
    スを乾燥焼付することを特徴とするエナメル線の製造方
    法。
JP21859091A 1991-08-29 1991-08-29 エナメル線の製造方法 Pending JPH0562770A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100516162B1 (ko) * 2004-02-03 2005-09-23 엘에스전선 주식회사 자기 융착 에나멜 와이어 제조방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100516162B1 (ko) * 2004-02-03 2005-09-23 엘에스전선 주식회사 자기 융착 에나멜 와이어 제조방법

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