JPH0561952U - 集束イオンビーム装置の光学系本体 - Google Patents

集束イオンビーム装置の光学系本体

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JPH0561952U
JPH0561952U JP225292U JP225292U JPH0561952U JP H0561952 U JPH0561952 U JP H0561952U JP 225292 U JP225292 U JP 225292U JP 225292 U JP225292 U JP 225292U JP H0561952 U JPH0561952 U JP H0561952U
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JP
Japan
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sample chamber
ion beam
sample
optical microscope
focused ion
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Application number
JP225292U
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English (en)
Inventor
宏之 河内
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 光学顕微鏡を試料室に取付けることにより、
2箇所目以降の修正箇所を大気圧にしないで探す。 【構成】 集束イオンビーム装置の光学系本体におい
て、試料室101内に光学顕微鏡105の対物レンズ1
06を設け、真空(4×10-6Torr以下)に引いた
状態で2箇所目以降の修正箇所をカラーテレビモニター
108を見ながら探す。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、集束イオンビーム装置で試料表面の金属配線を接続/切断して修正 する際に光学顕微鏡(CCDカメラ付)を使用して位置決めする構造に関するも のである。
【0002】
【従来の技術】
図2は、従来の集束イオンビーム装置における光学系本体部を示す図である。 図2において、201は大気圧の状態でLSIペレットの修正箇所を探すための 光学顕微鏡で、101は試料室で、試料室101内部を真空(4×10-6Tor r以下)にして集束したイオンビーム110を当て試料104の表面を加工する 。
【0003】 102は試料室101から試料104を出し入れするための扉(以後、試料室 前面扉と呼ぶ)で、103は試料104を乗せるX−Yステージで、108は光 学顕微鏡(CCDカメラ付き)201で映し出された画像を見るためのカラーテ レビモニターで、109はイオン源(液体金属Gaイオン)を取り付けてあるイ オン銃部で、110はイオン銃109から電圧を掛けて出したイオンビームで、 112は試料104の情報を検出する検出器で、113は検出器112で検出し た情報を画像にするモニターである。
【0004】 114はヘキサカルボニルタングステン[W(CO)6 ]を詰めて置くタンク で、115は一定温度になったヘキサカルボニルタングステン[W(CO)6 ] をガス状にして試料室102内に出すための調整用バルブで、116はヘキサカ ルボニルタングステン[W(CO)6 ]をバルブ115の開けた時に試料104 に近いところで出すためのガス銃で、117は光学系本体制御部である。
【0005】 従来、試料104の修正箇所を探す際は、試料室101の試料室前面扉102 の側面に付いている光学顕微鏡201により修正箇所を探しているが、最初の修 正箇所は、試料室前面扉102を開けた状態で位置決めをし、試料室前面扉10 2を閉めて真空(4×10-6Torr以下)にして修正作業を行う。
【0006】 試料104の2箇所目以降の修正箇所で離れているところを探す際は、真空( 4×10-6Torr以下)に引いていた試料室101を大気圧にして試料室前面 扉102を一度開けて光学顕微鏡201で修正箇所を探してから真空(4×10-6 Torr以下)を引き直し修正を行っていた。
【0007】
【考案が解決しようとする課題】
集束イオンビーム装置において、2箇所以上の修正箇所が有り、修正箇所が離 れているときには、真空(4×10-6Torr以下)になっている試料室を大気 圧に戻して2箇所目以降の修正箇所を合わせ、真空を引き直すのに時間(真空か ら大気圧になる時間は約5分、大気圧から真空[4×10-6Torr以下]にな る時間は約10分掛かる)が掛かることが問題となっている。
【0008】 本考案の目的は、作業能率を向上した集束イオンビーム装置の光学系本体を提 供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本考案に係る集束イオンビーム装置の光学系本体に おいては、試料室と、光学顕微鏡と、前記試料室内のイオン銃と、荷電粒子検出 器と、ガス銃とを備える集束イオンビーム装置であって、 前記光学顕微鏡の対物レンズに保護カバーを備え、前記光学顕微鏡の対物レン ズを前記試料室内に設けたものである。
【0010】
【作用】
光学顕微鏡の対物レンズを試料室内に設置し、これにより、試料室内を大気中 に開放することなく、2箇所目以降の修正を行う。
【0011】
【実施例】
以下、本考案の一実施例を図により説明する。図1は、本考案の一実施例に係 る集束イオンビーム装置光学系本体を示す図である。
【0012】 図1において、101は試料室で、試料室101内部を真空(4×10-6To rr以下)にして集束したイオンビーム110を当て試料104の表面を加工す る。
【0013】 102は試料室101から試料104を出し入れするための扉(以後、試料室 前面扉と呼ぶ)で、103は試料104を乗せるX−Yステージで、105は光 学顕微鏡(CCDカメラ付き)で、試料104を真空(4×10-6Torr以下 )に引いた試料室101の中で加工をする場所を探す。
【0014】 106は光学顕微鏡105と一体となっていて伸縮させることができる対物レ ンズで、107は光学顕微鏡(CCDカメラ付き)105と一体となって対物レ ンズ106を保護するキャップである。
【0015】 108は光学顕微鏡(CCDカメラ付き)105で映し出された画像を見るた めのカラーテレビモニターで、109はイオン源(液体金属Gaイオン)を取り 付けてあるイオン銃部で、111はイオンビーム110が試料104で反射した 荷電粒子で、112は荷電粒子111により試料104の情報を検出する検出器 である。
【0016】 113は荷電粒子111を検出した情報を画像にするモニターで、114はヘ キサカルボニルタングステン[W(CO)6 ]を詰めて置くタンクで、115は 一定温度になったヘキサカルボニルタングステン[W(CO)6 ]をガス状にし て試料室内に出すための調整用バルブで、116はヘキサカルボニルタングステ ン[W(CO)6 ]をバルブ115の開けた時に試料104に近いところで出す ためのガス銃で、117は光学系本体の制御部である。
【0017】 図1に示すように試料104中の離れた箇所を加工する際、最初の修正箇所に ヘキサカルボニルタングステン[W(CO)6 ]をガス状にしてガス銃116か ら修正箇所に吹き付けて加工した後、2箇所目以降を加工するには、試料室10 1内を真空(4×10-6Torr以下)のままで光学顕微鏡(CCDカメラ付き )105により次の修正箇所を探し、イオンビーム110を試料104面に当て 、跳ね返ってきた荷電粒子111を検出器112でキャッチした情報を信号にし てモニター113に加工場所を出して修正箇所にヘキサカルボニルタングステン [W(CO)6 ]をガス銃116から修正箇所に吹き付けて加工する。
【0018】 なお、試料加工時にはレンズ保護キャップ107により光学顕微鏡(CCDカ メラ付き)105の対物レンズ106は保護されている。
【0019】
【考案の効果】
以上説明したように本考案は、試料室に一体にして光学顕微鏡(CCDカメラ 付き)を取付けたことにより、2箇所以上の修正箇所があるときに真空から大気 圧にする時間(約5分)及び、大気圧から真空(4×10-6Torr以下)に引 く時間(約10分)が省けることにより、従来よりも修正に要する時間(1サン プルに対して約15分)を短くできるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例を示す図である。
【図2】従来例を示す図である。
【符号の説明】
101 試料室 102 試料室前面扉 103 X−Yステージ 104 試料 105 試料室内部と一体の光学顕微鏡(CCDカメラ
付き) 106 伸縮式対物レンズ 107 レンズ保護キャップ 108 カラーテレビモニター 109 イオン銃 110 イオンビーム 111 荷電粒子 112 検出器 113 ディスプレィモニター 114 W(CO)6 を入れるタンク 115 バルブ 116 ガス銃 117 制御部 201 試料室外部と一体の光学顕微鏡(CCDカメラ
付き)

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料室と、光学顕微鏡と、前記試料室内
    のイオン銃と、荷電粒子検出器と、ガス銃とを備える集
    束イオンビーム装置であって、 前記光学顕微鏡の対物レンズに保護カバーを備え、前記
    光学顕微鏡の対物レンズを前記試料室内に設けたことを
    特徴とする集束イオンビーム装置の光学系本体。
JP225292U 1992-01-24 1992-01-24 集束イオンビーム装置の光学系本体 Pending JPH0561952U (ja)

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JP225292U JPH0561952U (ja) 1992-01-24 1992-01-24 集束イオンビーム装置の光学系本体

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JP225292U JPH0561952U (ja) 1992-01-24 1992-01-24 集束イオンビーム装置の光学系本体

Publications (1)

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JPH0561952U true JPH0561952U (ja) 1993-08-13

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ID=11524173

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JP225292U Pending JPH0561952U (ja) 1992-01-24 1992-01-24 集束イオンビーム装置の光学系本体

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01137547A (ja) * 1987-11-25 1989-05-30 Hitachi Ltd 集束エネルギービーム加工装置および加工方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01137547A (ja) * 1987-11-25 1989-05-30 Hitachi Ltd 集束エネルギービーム加工装置および加工方法

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