JPH0560614A - スペクトルの背景曲線作成方法およびスペクトルデータ処理装置 - Google Patents
スペクトルの背景曲線作成方法およびスペクトルデータ処理装置Info
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- JPH0560614A JPH0560614A JP3226031A JP22603191A JPH0560614A JP H0560614 A JPH0560614 A JP H0560614A JP 3226031 A JP3226031 A JP 3226031A JP 22603191 A JP22603191 A JP 22603191A JP H0560614 A JPH0560614 A JP H0560614A
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- spectrum
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- background curve
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 人の判断基準により近い原理で、しかも効率
良くまた精度に関して再現性良く背景曲線を作成するこ
とができるようにすること。 【構成】 実測スペクトル１にピーク部分が出現してい
る反対側から、ピーク部分の半値幅の２倍以上の曲率を
持った円や楕円等の図形２を、実測スペクトル１に接触
させ且つ交わらないように指でなぞるようにして移動さ
せ、その時の軌跡の一部分を背景曲線４とする。そし
て、このようにして求めた背景曲線４と実測スペクトル
１の間で減算あるいは除算等の演算をすることにより、
ベースライン補正を行う。
良くまた精度に関して再現性良く背景曲線を作成するこ
とができるようにすること。 【構成】 実測スペクトル１にピーク部分が出現してい
る反対側から、ピーク部分の半値幅の２倍以上の曲率を
持った円や楕円等の図形２を、実測スペクトル１に接触
させ且つ交わらないように指でなぞるようにして移動さ
せ、その時の軌跡の一部分を背景曲線４とする。そし
て、このようにして求めた背景曲線４と実測スペクトル
１の間で減算あるいは除算等の演算をすることにより、
ベースライン補正を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スペクトルのデータ処
理に用いる背景曲線の作成方法、およびスペクトルデー
タを処理するスペクトルデータ処理装置に関する。
理に用いる背景曲線の作成方法、およびスペクトルデー
タを処理するスペクトルデータ処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】実測したスペクトルには、目的とする試
料のピークの他に、その試料以外の原因による雑音成
分、あるいは測定装置や測定環境の不安定性からの雑音
成分や揺らぎが重畳していることが多々ある。このよう
なときスペクトルから試料情報を正しく得るためには、
背景曲線を作成してベースライン補正を行なうことが一
般的である。この背景曲線を求めるにあたってはスペク
トルから試料のピークを含まない長周期構造を抽出する
必要がある。
料のピークの他に、その試料以外の原因による雑音成
分、あるいは測定装置や測定環境の不安定性からの雑音
成分や揺らぎが重畳していることが多々ある。このよう
なときスペクトルから試料情報を正しく得るためには、
背景曲線を作成してベースライン補正を行なうことが一
般的である。この背景曲線を求めるにあたってはスペク
トルから試料のピークを含まない長周期構造を抽出する
必要がある。
【０００３】従来、背景曲線を作成する方法としては、
スペクトル中のピ−ク部分を何らかの判断基準で検出
し、その部分以外のデータを補間して背景曲線を求める
方法が提案されている。例えば、透過スペクトルの背景
曲線の求め方として、特開昭５９−１７１８３７公報に
は微分２乗値からピーク部分を検出し、それ以外のデー
タ点を用いて補間曲線を求め、背景曲線を決定すること
が開示されている。また、特開昭５９−２２１６２６公
報にはスペクトルを何区間かに分割し、区間端間の傾斜
の大きさからピーク部分を検出し、それ以外のデータ点
を用いて補間曲線を求め、背景曲線を決定することが開
示されている。さらに、特開昭６１−７２４公報にはピ
ーク方向側に突出したデータ点を間引きし、残りのデー
タ点を用いて補間曲線を求め、背景曲線を決定すること
が開示されている。さらにまた、市販の装置ではディス
プレー上にスペクトルを表示し、オペレータが指定した
何点かのデータから背景曲線を補間近似により求める方
法が採用されている。
スペクトル中のピ−ク部分を何らかの判断基準で検出
し、その部分以外のデータを補間して背景曲線を求める
方法が提案されている。例えば、透過スペクトルの背景
曲線の求め方として、特開昭５９−１７１８３７公報に
は微分２乗値からピーク部分を検出し、それ以外のデー
タ点を用いて補間曲線を求め、背景曲線を決定すること
が開示されている。また、特開昭５９−２２１６２６公
報にはスペクトルを何区間かに分割し、区間端間の傾斜
の大きさからピーク部分を検出し、それ以外のデータ点
を用いて補間曲線を求め、背景曲線を決定することが開
示されている。さらに、特開昭６１−７２４公報にはピ
ーク方向側に突出したデータ点を間引きし、残りのデー
タ点を用いて補間曲線を求め、背景曲線を決定すること
が開示されている。さらにまた、市販の装置ではディス
プレー上にスペクトルを表示し、オペレータが指定した
何点かのデータから背景曲線を補間近似により求める方
法が採用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術では、いずれのものもバックグラウンドの傾斜
が極めて大きなスペクトルに適用した場合、バックグラ
ウンドとピークの分離が難しいという問題点がある。そ
うした極めて条件の悪い場合には、人の判断が反映し易
いオペレータのデータ入力による背景曲線を設定する方
法が最も融通が効き有利であるが、この方法では融通が
効く分だけ精度に関して再現性に問題がある。
来の技術では、いずれのものもバックグラウンドの傾斜
が極めて大きなスペクトルに適用した場合、バックグラ
ウンドとピークの分離が難しいという問題点がある。そ
うした極めて条件の悪い場合には、人の判断が反映し易
いオペレータのデータ入力による背景曲線を設定する方
法が最も融通が効き有利であるが、この方法では融通が
効く分だけ精度に関して再現性に問題がある。
【０００５】本発明の目的は、人の判断基準により近い
原理で、しかも効率良くまた精度に関して再現性良く背
景曲線を作成することができるスペクトルの背景曲線作
成方法、およびそのような背景曲線を用いてスペクトル
データを処理するスペクトルデータ処理装置を提供する
ことである。
原理で、しかも効率良くまた精度に関して再現性良く背
景曲線を作成することができるスペクトルの背景曲線作
成方法、およびそのような背景曲線を用いてスペクトル
データを処理するスペクトルデータ処理装置を提供する
ことである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の背景曲線作成方法は、実測スペクトルのピ
ーク部分または該実測スペクトルのデータ処理結果のピ
ーク部分を求めるとともに、少なくとも一部に曲線部を
有し且つその曲率が前記ピーク部分の半値幅の２倍以上
である図形を、前記実測スペクトルまたはそのデータ処
理結果に沿って２次元的且つ連続的に走査したときに生
じる軌跡を利用して、背景曲線を作成するようにしたこ
とである。
に、本発明の背景曲線作成方法は、実測スペクトルのピ
ーク部分または該実測スペクトルのデータ処理結果のピ
ーク部分を求めるとともに、少なくとも一部に曲線部を
有し且つその曲率が前記ピーク部分の半値幅の２倍以上
である図形を、前記実測スペクトルまたはそのデータ処
理結果に沿って２次元的且つ連続的に走査したときに生
じる軌跡を利用して、背景曲線を作成するようにしたこ
とである。
【０００７】また、本発明のベースライン補正方法は、
実測スペクトルのピーク部分または該実測スペクトルの
データ処理結果のピーク部分を求めるとともに、少なく
とも一部に曲線部を有し且つその曲率が前記ピーク部分
の半値幅の２倍以上である図形を、前記実測スペクトル
またはそのデータ処理結果に沿って２次元的且つ連続的
に走査させ、そのときに生じる軌跡を利用して背景曲線
を作成し、さらに該背景曲線と前記実測スペクトルまた
はそのデータ処理結果との間で減算あるいは除算するこ
とにより、ベースラインを補正するようにしたことであ
る。
実測スペクトルのピーク部分または該実測スペクトルの
データ処理結果のピーク部分を求めるとともに、少なく
とも一部に曲線部を有し且つその曲率が前記ピーク部分
の半値幅の２倍以上である図形を、前記実測スペクトル
またはそのデータ処理結果に沿って２次元的且つ連続的
に走査させ、そのときに生じる軌跡を利用して背景曲線
を作成し、さらに該背景曲線と前記実測スペクトルまた
はそのデータ処理結果との間で減算あるいは除算するこ
とにより、ベースラインを補正するようにしたことであ
る。
【０００８】また、本発明の吸光度算出方法は、実測透
過スペクトルのピーク部分または実測透過スペクトルの
データ処理結果のピーク部分を求めるとともに、少なく
とも一部に曲線部を有し且つその曲率が前記ピーク部分
の半値幅の２倍以上である図形を、前記実測透過スペク
トルまたはそのデータ処理結果に沿って２次元的且つ連
続的に走査したときに生じる軌跡を利用して背景曲線作
成し、該背景曲線と前記実測透過スペクトルまたはその
データ処理結果との間で比を取り、さらにその比の対数
値を計算することにより、吸光度を算出するようにした
ことである。
過スペクトルのピーク部分または実測透過スペクトルの
データ処理結果のピーク部分を求めるとともに、少なく
とも一部に曲線部を有し且つその曲率が前記ピーク部分
の半値幅の２倍以上である図形を、前記実測透過スペク
トルまたはそのデータ処理結果に沿って２次元的且つ連
続的に走査したときに生じる軌跡を利用して背景曲線作
成し、該背景曲線と前記実測透過スペクトルまたはその
データ処理結果との間で比を取り、さらにその比の対数
値を計算することにより、吸光度を算出するようにした
ことである。
【０００９】また、本発明の干渉縞除去方法は、実測ス
ペクトルに干渉縞が表われている場合、前記実測スペク
トルのピーク部分または該実測スペクトルのデータ処理
結果のピーク部分を求めるとともに、少なくとも一部に
曲線部を有しその曲率が前記干渉縞の周期より小さく且
つ前記ピーク部分の半値幅の２倍以上である図形を、前
記実測スペクトルまたはそのデータ処理結果に沿って２
次元的且つ連続的に走査させ、そのときに生じる軌跡を
利用して背景曲線を作成し、さらに該背景曲線と前記実
測スペクトルまたはそのデータ処理結果との間で減算あ
るいは除算することによりベースラインを補正して、前
記干渉縞を除去するようにしたことである。
ペクトルに干渉縞が表われている場合、前記実測スペク
トルのピーク部分または該実測スペクトルのデータ処理
結果のピーク部分を求めるとともに、少なくとも一部に
曲線部を有しその曲率が前記干渉縞の周期より小さく且
つ前記ピーク部分の半値幅の２倍以上である図形を、前
記実測スペクトルまたはそのデータ処理結果に沿って２
次元的且つ連続的に走査させ、そのときに生じる軌跡を
利用して背景曲線を作成し、さらに該背景曲線と前記実
測スペクトルまたはそのデータ処理結果との間で減算あ
るいは除算することによりベースラインを補正して、前
記干渉縞を除去するようにしたことである。
【００１０】さらに、本発明のスペクトルデータ処理装
置は、実測スペクトルのピーク部分または該実測スペク
トルのデータ処理結果のピーク部分の情報を取込んで、
走査させる図形の形状・サイズを設定する走査図形設定
手段と、設定した図形を前記実測スペクトルまたはその
データ処理結果に沿って走査したときの軌跡を算出する
軌跡算出手段と、その軌跡から背景曲線として採用する
部分を選出する背景曲線データ選出手段と、選出した背
景曲線と前記実測スペクトルまたはそのデータ処理結果
との間で除算または減算を行いベースライン補正済みの
データを算出するベースライン補正計算手段と、該ベー
スライン補正計算手段で算出したデータを出力するデー
タ出力手段と、を具備したものである。
置は、実測スペクトルのピーク部分または該実測スペク
トルのデータ処理結果のピーク部分の情報を取込んで、
走査させる図形の形状・サイズを設定する走査図形設定
手段と、設定した図形を前記実測スペクトルまたはその
データ処理結果に沿って走査したときの軌跡を算出する
軌跡算出手段と、その軌跡から背景曲線として採用する
部分を選出する背景曲線データ選出手段と、選出した背
景曲線と前記実測スペクトルまたはそのデータ処理結果
との間で除算または減算を行いベースライン補正済みの
データを算出するベースライン補正計算手段と、該ベー
スライン補正計算手段で算出したデータを出力するデー
タ出力手段と、を具備したものである。
【００１１】また、本発明のスペクトルデータ処理装置
は、実測透過スペクトルのピーク部分または該実測透過
スペクトルのデータ処理結果のピーク部分の情報を取込
んで、走査させる図形の形状・サイズを設定する走査図
形設定手段と、設定した図形を前記実測透過スペクトル
またはそのデータ処理結果に沿って走査したときの軌跡
を算出する軌跡算出手段と、その軌跡から背景曲線とし
て採用する部分を選出する背景曲線データ選出手段と、
選出した背景曲線と前記実測透過スペクトルまたはその
データ処理結果との間で比を取り、さらにその比の対数
値を計算することにより吸光度を算出する吸光度算出手
段と、該吸光度算出手段で算出したデータを出力するデ
ータ出力手段と、を具備したものである。
は、実測透過スペクトルのピーク部分または該実測透過
スペクトルのデータ処理結果のピーク部分の情報を取込
んで、走査させる図形の形状・サイズを設定する走査図
形設定手段と、設定した図形を前記実測透過スペクトル
またはそのデータ処理結果に沿って走査したときの軌跡
を算出する軌跡算出手段と、その軌跡から背景曲線とし
て採用する部分を選出する背景曲線データ選出手段と、
選出した背景曲線と前記実測透過スペクトルまたはその
データ処理結果との間で比を取り、さらにその比の対数
値を計算することにより吸光度を算出する吸光度算出手
段と、該吸光度算出手段で算出したデータを出力するデ
ータ出力手段と、を具備したものである。
【００１２】さらにまた、本発明は、上記スペクトルデ
ータ処理装置のいずれかを分光分析装置に搭載したこと
である。
ータ処理装置のいずれかを分光分析装置に搭載したこと
である。
【００１３】
【作用】少なくとも一部分に曲線部を有し且つその曲率
がピーク部分の半値幅の２倍以上である図形を、実測
（透過）スペクトルまたはそのデータ処理結果に沿って
２次元的且つ連続的に走査することによって、実測（透
過）スペクトルまたはそのデータ処理結果から、試料の
ピーク部分を含まない長周期構造の背景曲線を抽出する
ことができる。
がピーク部分の半値幅の２倍以上である図形を、実測
（透過）スペクトルまたはそのデータ処理結果に沿って
２次元的且つ連続的に走査することによって、実測（透
過）スペクトルまたはそのデータ処理結果から、試料の
ピーク部分を含まない長周期構造の背景曲線を抽出する
ことができる。
【００１４】すなわち、図１に示すように、スペクトル
１においてピーク部分の出現する反対側から、ピーク部
分の半値幅に比較して２倍以上大きな曲率を持った円や
楕円等の図形２をスペクトル上で指でなぞるように移動
させる。ここで図形２の軌跡を図２に明確に示すが、そ
の軌跡の一部分を背景曲線４として利用する。図２では
軌跡の中で最もピーク出現方向に近い点を結び、それを
背景曲線４としたが、重心位置の軌跡３を平行移動させ
たものを背景曲線としても良い。また、図形２の移動に
際して、図３に示すように図形２をスペクトル１の長周
期的傾斜に応じて重心軸周りに回転角５で回転させても
良い。また、図形は図４に示すように曲線部を有する図
形６の一部分であっても良い。この場合、計算時間の短
縮化が期待できる。
１においてピーク部分の出現する反対側から、ピーク部
分の半値幅に比較して２倍以上大きな曲率を持った円や
楕円等の図形２をスペクトル上で指でなぞるように移動
させる。ここで図形２の軌跡を図２に明確に示すが、そ
の軌跡の一部分を背景曲線４として利用する。図２では
軌跡の中で最もピーク出現方向に近い点を結び、それを
背景曲線４としたが、重心位置の軌跡３を平行移動させ
たものを背景曲線としても良い。また、図形２の移動に
際して、図３に示すように図形２をスペクトル１の長周
期的傾斜に応じて重心軸周りに回転角５で回転させても
良い。また、図形は図４に示すように曲線部を有する図
形６の一部分であっても良い。この場合、計算時間の短
縮化が期待できる。
【００１５】さらに、作成した背景曲線を用いて元のス
ペクトルを減算あるいは除算することによりベースライ
ンを補正する。ここで例えば元のスペクトルが透過率や
反射率のスペクトルであれば除算を用いるのが適当であ
り、元のスペクトルが強度スペクトルであれば減算を用
いるのが適当である。また、また透過スペクトルとその
背景曲線の比の対数値をとることにより直接ベースライ
ン処理を済ませた吸光度スペクトルを直接得ることがで
きる。また、周期の長い干渉縞が現れているスペクトル
に適用する場合、走査する曲面の曲率をピークの半値幅
よりは大きく、かつ干渉縞の周期よりは小さくとること
により、干渉縞の影響を含んだ背景曲線が得られ、これ
と元のスペクトルとの間でデータ処理を行うことにより
干渉縞の影響を除くことができる。
ペクトルを減算あるいは除算することによりベースライ
ンを補正する。ここで例えば元のスペクトルが透過率や
反射率のスペクトルであれば除算を用いるのが適当であ
り、元のスペクトルが強度スペクトルであれば減算を用
いるのが適当である。また、また透過スペクトルとその
背景曲線の比の対数値をとることにより直接ベースライ
ン処理を済ませた吸光度スペクトルを直接得ることがで
きる。また、周期の長い干渉縞が現れているスペクトル
に適用する場合、走査する曲面の曲率をピークの半値幅
よりは大きく、かつ干渉縞の周期よりは小さくとること
により、干渉縞の影響を含んだ背景曲線が得られ、これ
と元のスペクトルとの間でデータ処理を行うことにより
干渉縞の影響を除くことができる。
【００１６】
【実施例】以下に本発明の実施例を詳細に説明する。図
５は本発明の背景曲線作成方法の手順を示すフローチャ
ートである。図において、ステップ１０１で実測スペク
トルまたはその実測スペクトルのデータ処理結果を取り
込む。次にステップ１０２において、取り込んだ実測ス
ペクトルのピーク部分またはそのデータ処理結果のピー
ク部分を求めるとともに、少なくとも一部に曲線部を有
し且つその曲率が前記ピーク部分の半値幅の２倍以上で
ある図形を、前記実測スペクトルまたはそのデータ処理
結果に沿って２次元的且つ連続的に走査し、このときに
生じた軌跡の一部を利用して、ステップ１０３で背景曲
線として採用する。さらに、ステップ１０４において、
背景曲線と前記実測スペクトルまたはそのデータ処理結
果との間で減算あるいは除算してベースラインを補正す
ることにより、真のスペクトルを演算し、ステップ１０
５においてその演算結果を出力する。
５は本発明の背景曲線作成方法の手順を示すフローチャ
ートである。図において、ステップ１０１で実測スペク
トルまたはその実測スペクトルのデータ処理結果を取り
込む。次にステップ１０２において、取り込んだ実測ス
ペクトルのピーク部分またはそのデータ処理結果のピー
ク部分を求めるとともに、少なくとも一部に曲線部を有
し且つその曲率が前記ピーク部分の半値幅の２倍以上で
ある図形を、前記実測スペクトルまたはそのデータ処理
結果に沿って２次元的且つ連続的に走査し、このときに
生じた軌跡の一部を利用して、ステップ１０３で背景曲
線として採用する。さらに、ステップ１０４において、
背景曲線と前記実測スペクトルまたはそのデータ処理結
果との間で減算あるいは除算してベースラインを補正す
ることにより、真のスペクトルを演算し、ステップ１０
５においてその演算結果を出力する。
【００１７】図６は本発明の背景曲線作成法を用いた場
合の第１の実施例を示している。有機潤滑膜の実測透過
スペクトル７上にピーク部分の半値幅に対し１０倍以上
の曲率を持った楕円の一部８を接触させ、この楕円の一
部８と実測透過スペクトル７が交わらないように楕円の
一部８を指でなでるようにして実測透過スペクトル７に
沿って移動させ、得られた軌跡の中で最もスペクトルに
近い点を結ぶことにより背景曲線９が得られる。そし
て、背景曲線９を１００％ラインとし、スペクトル７を
除算することにより、図７に示すベースライン処理され
た透過スペクトル１０を得ることができる。また、背景
曲線９を１００％ラインとし、スペクトル７を除算しそ
の対数値を取ることにより、図８で示すベースライン処
理された吸光度スペクトル１１を直接得ることができ
る。
合の第１の実施例を示している。有機潤滑膜の実測透過
スペクトル７上にピーク部分の半値幅に対し１０倍以上
の曲率を持った楕円の一部８を接触させ、この楕円の一
部８と実測透過スペクトル７が交わらないように楕円の
一部８を指でなでるようにして実測透過スペクトル７に
沿って移動させ、得られた軌跡の中で最もスペクトルに
近い点を結ぶことにより背景曲線９が得られる。そし
て、背景曲線９を１００％ラインとし、スペクトル７を
除算することにより、図７に示すベースライン処理され
た透過スペクトル１０を得ることができる。また、背景
曲線９を１００％ラインとし、スペクトル７を除算しそ
の対数値を取ることにより、図８で示すベースライン処
理された吸光度スペクトル１１を直接得ることができ
る。
【００１８】図９は本発明の背景曲線作成法を用いた場
合の第２の実施例を示している。酸化物の微小部の実測
Ｘ線回折パターン１２上にピークの半値幅に対し１０倍
以上の曲率を持った楕円の一部１３を接触させ、この楕
円の一部１３と実測Ｘ線回折パターン１２が交わらない
ように楕円の一部１３を指でなでるようにして実測Ｘ線
回折パターン１２に沿って移動させ、得られた軌跡の中
で最も回折パターンに近い点を結ぶことにより背景曲線
１４が得られる。そして、背景曲線１４を０％ラインと
し、スペクトル１２から減算することにより、ベースラ
イン処理されたＸ線回折パターン１５を得ることができ
る。
合の第２の実施例を示している。酸化物の微小部の実測
Ｘ線回折パターン１２上にピークの半値幅に対し１０倍
以上の曲率を持った楕円の一部１３を接触させ、この楕
円の一部１３と実測Ｘ線回折パターン１２が交わらない
ように楕円の一部１３を指でなでるようにして実測Ｘ線
回折パターン１２に沿って移動させ、得られた軌跡の中
で最も回折パターンに近い点を結ぶことにより背景曲線
１４が得られる。そして、背景曲線１４を０％ラインと
し、スペクトル１２から減算することにより、ベースラ
イン処理されたＸ線回折パターン１５を得ることができ
る。
【００１９】図１０は本発明の背景曲線作成法を用いた
場合の第３の実施例を示している。シリコン基板上の有
機薄膜の実測透過スペクトル１６にはシリコン基板内部
での多重反射による長周期の干渉縞が生じている。ここ
で実測透過スペクトル１６上にピークの半値幅に対し１
０倍以上かつ干渉縞の周期に対し半分以下の曲率を持っ
た楕円の一部１７を接触させ、この楕円の一部１７と実
測透過スペクトル１６が交わらないように楕円の一部１
７を指でなでるようにして実測透過スペクトル１６に沿
って移動させ、得られた軌跡の中で最もスペクトルに近
い点を結ぶことにより干渉縞の構造を含む背景曲線１８
が得られる。そして、この背景曲線１８を１００％ライ
ンとし、スペクトル１６を除算することにより、図１１
で示す干渉縞の除去された透過スペクトル１９を得るこ
とができる。また、背景曲線１８を１００％ラインと
し、スペクトル１６を除算しその対数値を取ることによ
り、図１２で示す干渉縞の除去された吸光度スペクトル
２０を直接得ることができる。
場合の第３の実施例を示している。シリコン基板上の有
機薄膜の実測透過スペクトル１６にはシリコン基板内部
での多重反射による長周期の干渉縞が生じている。ここ
で実測透過スペクトル１６上にピークの半値幅に対し１
０倍以上かつ干渉縞の周期に対し半分以下の曲率を持っ
た楕円の一部１７を接触させ、この楕円の一部１７と実
測透過スペクトル１６が交わらないように楕円の一部１
７を指でなでるようにして実測透過スペクトル１６に沿
って移動させ、得られた軌跡の中で最もスペクトルに近
い点を結ぶことにより干渉縞の構造を含む背景曲線１８
が得られる。そして、この背景曲線１８を１００％ライ
ンとし、スペクトル１６を除算することにより、図１１
で示す干渉縞の除去された透過スペクトル１９を得るこ
とができる。また、背景曲線１８を１００％ラインと
し、スペクトル１６を除算しその対数値を取ることによ
り、図１２で示す干渉縞の除去された吸光度スペクトル
２０を直接得ることができる。
【００２０】図１３は本発明の分光装置を示した例であ
る。測定装置２１からのスペクトル情報を信号ケーブル
２２を介してデータ処理装置２３に取り込み、このデー
タ処理装置２３は、前述の背景曲線作成法により背景曲
線を作成し、その背景曲線を用いてデータ処理を行う。
ここで、データ処理装置２３は、走査させる図形の形状
・サイズを設定する走査図形設定部２４と、設定した図
形を元スペクトル上で走査したときの軌跡を算出する軌
跡算出部２５と、軌跡から背景曲線として採用する部分
を選出する背景曲線データ選出部２６と、求めた背景曲
線と元スペクトルデータ間で除算または減算等を行いベ
ースライン補正済みのデータを算出するベースライン補
正計算部２７と、処理したデータを出力するデータ出力
部２８と、から構成されている。なお、測定装置２１と
しては、赤外分光装置、ラマン分光装置、可視・紫外分
光装置、Ｘ線分光装置、電子分光装置等の各種の分光装
置や、Ｘ線回折装置または熱測定装置に対しても適用が
可能である。
る。測定装置２１からのスペクトル情報を信号ケーブル
２２を介してデータ処理装置２３に取り込み、このデー
タ処理装置２３は、前述の背景曲線作成法により背景曲
線を作成し、その背景曲線を用いてデータ処理を行う。
ここで、データ処理装置２３は、走査させる図形の形状
・サイズを設定する走査図形設定部２４と、設定した図
形を元スペクトル上で走査したときの軌跡を算出する軌
跡算出部２５と、軌跡から背景曲線として採用する部分
を選出する背景曲線データ選出部２６と、求めた背景曲
線と元スペクトルデータ間で除算または減算等を行いベ
ースライン補正済みのデータを算出するベースライン補
正計算部２７と、処理したデータを出力するデータ出力
部２８と、から構成されている。なお、測定装置２１と
しては、赤外分光装置、ラマン分光装置、可視・紫外分
光装置、Ｘ線分光装置、電子分光装置等の各種の分光装
置や、Ｘ線回折装置または熱測定装置に対しても適用が
可能である。
【００２１】また、２次元スペクトルに対しても曲面を
有する物体により３次元的かつ連続的に走査してゆくと
き生じる軌跡を利用し、背景曲面を作成することが可能
であり、もとの２次元スペクトルと作成した背景曲面と
の間で減算あるいは除算することによりベースライン補
正が可能である。
有する物体により３次元的かつ連続的に走査してゆくと
き生じる軌跡を利用し、背景曲面を作成することが可能
であり、もとの２次元スペクトルと作成した背景曲面と
の間で減算あるいは除算することによりベースライン補
正が可能である。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
人の判断基準により近い方法で背景曲線を作成すること
ができ、その背景曲線の精度と再現性の向上を図ること
ができる。
人の判断基準により近い方法で背景曲線を作成すること
ができ、その背景曲線の精度と再現性の向上を図ること
ができる。
【００２３】また、その背景曲線を利用することによ
り、ベースライン補正や干渉縞の除去も可能になる。
り、ベースライン補正や干渉縞の除去も可能になる。
【図１】本発明の背景曲線作成法の基本的原理を示した
説明図である。
説明図である。
【図２】本発明の背景曲線作成法によって求まる背景曲
線を示した説明図である。
線を示した説明図である。
【図３】本発明の背景曲線作成法を示し、図形を回転さ
せる場合の説明図である。
せる場合の説明図である。
【図４】本発明の背景曲線作成法を示し、図形の一部を
用いた場合の説明図である。
用いた場合の説明図である。
【図５】本発明の背景曲線作成法を用いてスペクトルデ
ータを処理する手順を示したフローチャートである。
ータを処理する手順を示したフローチャートである。
【図６】第１の実施例を示し、背景曲線の作成結果の図
である。
である。
【図７】図６の背景曲線から求めた透過スペクトルの図
である。
である。
【図８】図６の背景曲線から求めた吸光度スペクトルの
図である。
図である。
【図９】第２の実施例を示し、背景曲線の作成結果とそ
の背景曲線から求めたＸ線回折パターンの図である。
の背景曲線から求めたＸ線回折パターンの図である。
【図１０】第３の実施例を示し、背景曲線の作成結果の
図である。
図である。
【図１１】図１０の背景曲線から求めた透過スペクトル
の図である。
の図である。
【図１２】図１０の背景曲線から求めた吸光度スペクト
ルの図である。
ルの図である。
【図１３】本発明の分光分析形の概略構成図である。
１ スペクトル ２，８，１３，１７ 図形 ３ 重心の軌跡 ４，９，１４，１８ 背景曲線 ５ 重心周りの回転角 ６ 図形の一部 ７，１６ 実測透過スペクトル １０ ベースライン補正された透過スペクトル １１ ベースライン補正された吸光度スペクトル １２ 実測Ｘ線回折パターン １５ ベースライン補正されたＸ線回折パターン １９ 干渉縞の除去された透過スペクトル ２０ 干渉縞の除去された吸光度スペクトル ２１ 測定装置 ２２ 信号ケーブル ２３ データ処理装置 ２４ 走査図形設定部 ２５ 軌跡算出部 ２６ 背景曲線データ選出部 ２７ ベースライン補正計算部 ２８ データ出力部
Claims (9)
- 【請求項１】 実測スペクトルのピーク部分または該実
測スペクトルのデータ処理結果のピーク部分を求めると
ともに、少なくとも一部に曲線部を有し且つその曲率が
前記ピーク部分の半値幅の２倍以上である図形を、前記
実測スペクトルまたはそのデータ処理結果に沿って２次
元的且つ連続的に走査したときに生じる軌跡を利用し
て、背景曲線を作成することを特徴とするスペクトルの
背景曲線作成方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の背景曲線作成方法におい
て、前記図形は、円、楕円または放物線等の全体もしく
はその一部分であることを特徴とするスペクトルの背景
曲線作成方法。 - 【請求項３】 実測スペクトルのピーク部分または該実
測スペクトルのデータ処理結果のピーク部分を求めると
ともに、少なくとも一部に曲線部を有し且つその曲率が
前記ピーク部分の半値幅の２倍以上である図形を、前記
実測スペクトルまたはそのデータ処理結果に沿って２次
元的且つ連続的に走査させ、そのときに生じる軌跡を利
用して背景曲線を作成し、さらに該背景曲線と前記実測
スペクトルまたはそのデータ処理結果との間で減算ある
いは除算することにより、ベースラインを補正すること
を特徴とするベースライン補正方法。 - 【請求項４】 実測透過スペクトルのピーク部分または
実測透過スペクトルのデータ処理結果のピーク部分を求
めるとともに、少なくとも一部に曲線部を有し且つその
曲率が前記ピーク部分の半値幅の２倍以上である図形
を、前記実測透過スペクトルまたはそのデータ処理結果
に沿って２次元的且つ連続的に走査したときに生じる軌
跡を利用して背景曲線作成し、該背景曲線と前記実測透
過スペクトルまたはそのデータ処理結果との間で比を取
り、さらにその比の対数値を計算することにより、吸光
度を算出することを特徴とする吸光度算出方法。 - 【請求項５】 実測スペクトルに干渉縞が表われている
場合、前記実測スペクトルのピーク部分または該実測ス
ペクトルのデータ処理結果のピーク部分を求めるととも
に、少なくとも一部に曲線部を有しその曲率が前記干渉
縞の周期より小さく且つ前記ピーク部分の半値幅の２倍
以上である図形を、前記実測スペクトルまたはそのデー
タ処理結果に沿って２次元的且つ連続的に走査させ、そ
のときに生じる軌跡を利用して背景曲線を作成し、さら
に該背景曲線と前記実測スペクトルまたはそのデータ処
理結果との間で減算あるいは除算することによりベース
ラインを補正して、前記干渉縞を除去することを特徴と
する干渉縞除去方法。 - 【請求項６】 実測スペクトルのピーク部分または該実
測スペクトルのデータ処理結果のピーク部分の情報を取
込んで、走査させる図形の形状・サイズを設定する走査
図形設定手段と、設定した図形を前記実測スペクトルま
たはそのデータ処理結果に沿って走査したときの軌跡を
算出する軌跡算出手段と、その軌跡から背景曲線として
採用する部分を選出する背景曲線データ選出手段と、選
出した背景曲線と前記実測スペクトルまたはそのデータ
処理結果との間で除算または減算を行いベースライン補
正済みのデータを算出するベースライン補正計算手段
と、該ベースライン補正計算手段で算出したデータを出
力するデータ出力手段と、を具備するスペクトルデータ
処理装置。 - 【請求項７】 実測透過スペクトルのピーク部分または
該実測透過スペクトルのデータ処理結果のピーク部分の
情報を取込んで、走査させる図形の形状・サイズを設定
する走査図形設定手段と、設定した図形を前記実測透過
スペクトルまたはそのデータ処理結果に沿って走査した
ときの軌跡を算出する軌跡算出手段と、その軌跡から背
景曲線として採用する部分を選出する背景曲線データ選
出手段と、選出した背景曲線と前記実測透過スペクトル
またはそのデータ処理結果との間で比を取り、さらにそ
の比の対数値を計算することにより吸光度を算出する吸
光度算出手段と、該吸光度算出手段で算出したデータを
出力するデータ出力手段と、を具備するスペクトルデー
タ処理装置。 - 【請求項８】 請求項６又は７記載のスペクトルデータ
処理装置において、前記走査図形設定手段は、円、楕円
または放物線等の全体もしくはその一部分の図形を走査
させることを特徴とするスペクトルデータ処理装置。 - 【請求項９】 請求項６〜８のいずれかに記載のスペク
トルデータ処理装置を搭載したことを特徴とする分光分
析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3226031A JPH0560614A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | スペクトルの背景曲線作成方法およびスペクトルデータ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3226031A JPH0560614A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | スペクトルの背景曲線作成方法およびスペクトルデータ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0560614A true JPH0560614A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=16838693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3226031A Pending JPH0560614A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | スペクトルの背景曲線作成方法およびスペクトルデータ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0560614A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007218787A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Yokogawa Electric Corp | 波長校正方法及び波長校正装置 |
| EP2256481A2 (en) | 2009-05-28 | 2010-12-01 | Jasco Corporation | Baseline setting method |
| EP2333565A1 (en) | 2009-12-11 | 2011-06-15 | Jasco Corporation | Three-dimensional base setting method for image data |
-
1991
- 1991-09-05 JP JP3226031A patent/JPH0560614A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007218787A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Yokogawa Electric Corp | 波長校正方法及び波長校正装置 |
| EP2256481A2 (en) | 2009-05-28 | 2010-12-01 | Jasco Corporation | Baseline setting method |
| JP2010276480A (ja) * | 2009-05-28 | 2010-12-09 | Jasco Corp | ベースライン設定方法 |
| EP2256481A3 (en) * | 2009-05-28 | 2012-12-05 | Jasco Corporation | Baseline setting method |
| EP2333565A1 (en) | 2009-12-11 | 2011-06-15 | Jasco Corporation | Three-dimensional base setting method for image data |
| JP2011122958A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Jasco Corp | 画像データの３次元ベース設定方法 |
| US8243290B2 (en) | 2009-12-11 | 2012-08-14 | Jasco Corporation | Three-dimensional base setting method for image data |
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