JPH0557873A - 薄膜パターン形成装置 - Google Patents
薄膜パターン形成装置Info
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- JPH0557873A JPH0557873A JP24675491A JP24675491A JPH0557873A JP H0557873 A JPH0557873 A JP H0557873A JP 24675491 A JP24675491 A JP 24675491A JP 24675491 A JP24675491 A JP 24675491A JP H0557873 A JPH0557873 A JP H0557873A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 線幅やトータルピッチ精度にバラツキが少な
く、パターン周縁部が直線性を有し、均一な厚さの薄膜
を得る。 【構成】 多数のインキセルを有する凹版ロールと、凹
版ロールの表面にインキを供給するインキ供給装置と、
供給されたインキをインキセル内に充填するドクター
と、凹版ロールに頂面が接触する凸版を版胴の円周面に
有しインキセル内のインキを凸版頂面に転移させる印刷
ロールと、被印刷体を固定し印刷ロールの凸版頂面に被
印刷体を接触して印刷ロールの凸版頂面上のインキを被
印刷体表面に転移させる印刷テーブルとからなる薄膜パ
ターン形成装置において、印刷ロールを、厚さ0.2mmの
スーパーアンバー材をエッチング加工して凸版１５を形
成し、その裏面に肉厚3mmの熱可塑性エラストマーにて
弾性層１７を形成し、両面接着テープにて、版胴の円周
面に固定して得た。
く、パターン周縁部が直線性を有し、均一な厚さの薄膜
を得る。 【構成】 多数のインキセルを有する凹版ロールと、凹
版ロールの表面にインキを供給するインキ供給装置と、
供給されたインキをインキセル内に充填するドクター
と、凹版ロールに頂面が接触する凸版を版胴の円周面に
有しインキセル内のインキを凸版頂面に転移させる印刷
ロールと、被印刷体を固定し印刷ロールの凸版頂面に被
印刷体を接触して印刷ロールの凸版頂面上のインキを被
印刷体表面に転移させる印刷テーブルとからなる薄膜パ
ターン形成装置において、印刷ロールを、厚さ0.2mmの
スーパーアンバー材をエッチング加工して凸版１５を形
成し、その裏面に肉厚3mmの熱可塑性エラストマーにて
弾性層１７を形成し、両面接着テープにて、版胴の円周
面に固定して得た。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、機能性材料、たとえば
半導体素子に用いられる絶縁皮膜やフラットディスプレ
イ（液晶表示装置、プラズマディスプレイなど）、その
他電子部品などに用いられている絶縁皮膜導電膜、誘電
膜などの、精密なパターン（ストライプあるいは、ドッ
ト形状等）を印刷手法により形成する装置にに関する。
半導体素子に用いられる絶縁皮膜やフラットディスプレ
イ（液晶表示装置、プラズマディスプレイなど）、その
他電子部品などに用いられている絶縁皮膜導電膜、誘電
膜などの、精密なパターン（ストライプあるいは、ドッ
ト形状等）を印刷手法により形成する装置にに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、半導体素子の絶縁皮膜や液晶
表示素子などに用いられている絶縁膜や透明導電膜な
ど、種々の電子部品関連の機能性薄膜をパターン形成す
る方法として、フォトリソグラフィーを用いたものがあ
る。まず最初に基板全面に均一に被膜を形成し、しかる
後所望のパターン形状にフォトレジストを形成した後不
必要な部分をエッチング工程にて除去していた。この場
合、一般に高価な機能性材料をまず全面に形成した後、
不必要な部分を除くという不経済な点があることと、材
料中に含まれる重金属などの有害物質の処理という問題
が発生した。さらにレジスト塗布、乾燥、露光、現像、
レジスト剥離という繁雑な工程がコスト上昇の要因とも
なっていた。
表示素子などに用いられている絶縁膜や透明導電膜な
ど、種々の電子部品関連の機能性薄膜をパターン形成す
る方法として、フォトリソグラフィーを用いたものがあ
る。まず最初に基板全面に均一に被膜を形成し、しかる
後所望のパターン形状にフォトレジストを形成した後不
必要な部分をエッチング工程にて除去していた。この場
合、一般に高価な機能性材料をまず全面に形成した後、
不必要な部分を除くという不経済な点があることと、材
料中に含まれる重金属などの有害物質の処理という問題
が発生した。さらにレジスト塗布、乾燥、露光、現像、
レジスト剥離という繁雑な工程がコスト上昇の要因とも
なっていた。
【０００３】これを解決するために、実開昭５７-１６
０７６４号に提示されているような薄膜形成装置が用い
られている。この薄膜形成装置は、多数のインキセルを
有する平版状凹版と被印刷体とを基台上に並べて載置す
る一方、凹版の近傍に数10〜30,000ｃ.ｐ.ｓ.の粘度を
有する高分子溶液からなるインキを凹版のインキセルに
充填するインキ供給装置と印刷ロールとを有する印刷ロ
ール支持枠を基台に凹版と被印刷体との間で移動自在に
備えると共に、印刷ロール支持枠にドクターを備えてい
る。この薄膜形成装置においては、印刷ロールが回転軸
７に固定された版胴１６の円周面に合成樹脂製の樹脂凸
版２５を形成しており（図１４参照）、インキを凹版の
インキセルに供給してドクターで余分なインキをかき落
とした後、印刷ロールを凹版に圧接させつつ回転させ
て、印刷ロールの柔らかい凸部の表面に上記凹版のイン
キセルのインキを所定パターンに付着させ、インキが付
着した印刷ロールを回転させつつ凸部のインキを被印刷
体の表面に印刷して上記所定パターンの薄膜を形成する
ようにしたものである。
０７６４号に提示されているような薄膜形成装置が用い
られている。この薄膜形成装置は、多数のインキセルを
有する平版状凹版と被印刷体とを基台上に並べて載置す
る一方、凹版の近傍に数10〜30,000ｃ.ｐ.ｓ.の粘度を
有する高分子溶液からなるインキを凹版のインキセルに
充填するインキ供給装置と印刷ロールとを有する印刷ロ
ール支持枠を基台に凹版と被印刷体との間で移動自在に
備えると共に、印刷ロール支持枠にドクターを備えてい
る。この薄膜形成装置においては、印刷ロールが回転軸
７に固定された版胴１６の円周面に合成樹脂製の樹脂凸
版２５を形成しており（図１４参照）、インキを凹版の
インキセルに供給してドクターで余分なインキをかき落
とした後、印刷ロールを凹版に圧接させつつ回転させ
て、印刷ロールの柔らかい凸部の表面に上記凹版のイン
キセルのインキを所定パターンに付着させ、インキが付
着した印刷ロールを回転させつつ凸部のインキを被印刷
体の表面に印刷して上記所定パターンの薄膜を形成する
ようにしたものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
薄膜形成装置は、使用している樹脂凸版（感光性樹脂凸
版、天然ゴム版、合成ゴム版など）の表面が軟らかいた
め、周縁部に直線性があるパターンを形成できなかっ
た。また、上記の薄膜形成装置で形成した薄膜パターン
は、樹脂凸版表面の溶剤膨潤により印刷回数が増すごと
に線幅が太くなっていた。さらに、凹版への圧接の際、
樹脂凸版表面の変形が生じ凸部側面へもインキが転移
し、さらに基板に転写する際、天面以外の側面部のイン
キ転移も発生し、前記手法の特徴でもあるマージナルゾ
ーンが発生した。つまり、形成された塗膜のパターン周
縁部の厚みが厚くなり、光学特性、電気特性、さらに
は、クラックの発生なども生じてきた。また、樹脂凸版
のベース材料が軟らかいためトータルピッチ精度にバラ
ツキがあった。
薄膜形成装置は、使用している樹脂凸版（感光性樹脂凸
版、天然ゴム版、合成ゴム版など）の表面が軟らかいた
め、周縁部に直線性があるパターンを形成できなかっ
た。また、上記の薄膜形成装置で形成した薄膜パターン
は、樹脂凸版表面の溶剤膨潤により印刷回数が増すごと
に線幅が太くなっていた。さらに、凹版への圧接の際、
樹脂凸版表面の変形が生じ凸部側面へもインキが転移
し、さらに基板に転写する際、天面以外の側面部のイン
キ転移も発生し、前記手法の特徴でもあるマージナルゾ
ーンが発生した。つまり、形成された塗膜のパターン周
縁部の厚みが厚くなり、光学特性、電気特性、さらに
は、クラックの発生なども生じてきた。また、樹脂凸版
のベース材料が軟らかいためトータルピッチ精度にバラ
ツキがあった。
【０００５】したがって、本発明の目的は、以上のよう
な問題点を解決し、線幅やトータルピッチ精度にバラツ
キが少なく、パターン周縁部が直線性を有し、均一な厚
さの薄膜が得られる薄膜パターン形成装置を提供するこ
とにある。
な問題点を解決し、線幅やトータルピッチ精度にバラツ
キが少なく、パターン周縁部が直線性を有し、均一な厚
さの薄膜が得られる薄膜パターン形成装置を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の薄膜パターン形成装置は、多数のインキ
セルを有する凹版ロールと、凹版ロールの表面にインキ
を供給するインキ供給装置と、供給されたインキをイン
キセル内に充填するドクターと、凹版ロールに頂面が接
触する凸版を版胴の円周面に有しインキセル内のインキ
を凸版頂面に転移させる印刷ロールと、被印刷体を固定
し印刷ロールの凸版頂面に被印刷体を接触して印刷ロー
ルの凸版頂面上のインキを被印刷体表面に転移させる印
刷テーブルとからなる薄膜パターン形成装置において、
印刷ロールの凸版が、金属またはセラミックからなり、
弾性層を介して版胴の円周面に形成されているように構
成した。
めに、本発明の薄膜パターン形成装置は、多数のインキ
セルを有する凹版ロールと、凹版ロールの表面にインキ
を供給するインキ供給装置と、供給されたインキをイン
キセル内に充填するドクターと、凹版ロールに頂面が接
触する凸版を版胴の円周面に有しインキセル内のインキ
を凸版頂面に転移させる印刷ロールと、被印刷体を固定
し印刷ロールの凸版頂面に被印刷体を接触して印刷ロー
ルの凸版頂面上のインキを被印刷体表面に転移させる印
刷テーブルとからなる薄膜パターン形成装置において、
印刷ロールの凸版が、金属またはセラミックからなり、
弾性層を介して版胴の円周面に形成されているように構
成した。
【０００７】
【実施例】以下に、本発明の薄膜パターン形成装置の実
施例を図面に基づいて詳細に説明する。図１〜８は本発
明の薄膜パターン形成装置に用いる印刷ロールの実施例
を示す断面図、図９〜１２は本発明の薄膜パターン形成
装置の印刷工程を示す断面図、図１３は本発明の薄膜パ
ターン形成装置の斜視図である。
施例を図面に基づいて詳細に説明する。図１〜８は本発
明の薄膜パターン形成装置に用いる印刷ロールの実施例
を示す断面図、図９〜１２は本発明の薄膜パターン形成
装置の印刷工程を示す断面図、図１３は本発明の薄膜パ
ターン形成装置の斜視図である。
【０００８】１は凹版ロール、２はインキ供給装置、３
はドクター、４は印刷ロール、５は印刷テーブル、６は
インキセル、７は回転軸、８は基台、９は支持枠、１０
はインキ供給体、１１はインキノズル、１２は案内レー
ル、１３はインキ、１４は被印刷体、１５は凸版、１６
は版胴、１７は弾性層、１８はレリーフ深度、１９はフ
ロアー部、２０は凸版頂面、２１はマット加工、２２は
案内レール、２３は印刷テーブル駆動モーター、２４は
ボールネジをそれぞれ示す。
はドクター、４は印刷ロール、５は印刷テーブル、６は
インキセル、７は回転軸、８は基台、９は支持枠、１０
はインキ供給体、１１はインキノズル、１２は案内レー
ル、１３はインキ、１４は被印刷体、１５は凸版、１６
は版胴、１７は弾性層、１８はレリーフ深度、１９はフ
ロアー部、２０は凸版頂面、２１はマット加工、２２は
案内レール、２３は印刷テーブル駆動モーター、２４は
ボールネジをそれぞれ示す。
【０００９】凹版ロール１は、回転軸７に版胴１６が固
定され、版胴１６の円周面にメッキ層が形成されてお
り、その表面には所定のパターンに配列された多数のイ
ンキセル６が形成されている。インキセル６の深さは数
μmから数十μmのものがある。凹版ロール１の回転軸７
は、その両端を長方形台からなる基台８の中央部所定位
置に配置された一対の支持板からなる支持枠９に回転自
在に支持されている。
定され、版胴１６の円周面にメッキ層が形成されてお
り、その表面には所定のパターンに配列された多数のイ
ンキセル６が形成されている。インキセル６の深さは数
μmから数十μmのものがある。凹版ロール１の回転軸７
は、その両端を長方形台からなる基台８の中央部所定位
置に配置された一対の支持板からなる支持枠９に回転自
在に支持されている。
【００１０】インキ供給装置２は、インキ供給体１０と
インキノズル１１と一対の案内レール１２とからなる。
インキ供給体１０は、支持枠９の上部に架設された一対
の案内レール１２に沿って左右に移動することができる
ように構成されている。また、インキ供給体１０からイ
ンキノズル１１が凹版ロール１の表面上方に延びてい
る。このインキノズル１１は、凹版ロール１のインキセ
ル６中にインキ１３が留まる時間を短くしてインキ１３
の乾燥を防止するため凹版ロール１と被印刷体１４との
接触位置にできるだけ近い位置に設けられる。なお、こ
のインキ１３は、合成樹脂または樹脂前駆体および溶剤
の混合物などからなり、高粘度のもののみでなく低粘度
のものまで適用が可能であり、特に数C.P.S.〜数十C.P.
S.程度のものまで適用が可能である。
インキノズル１１と一対の案内レール１２とからなる。
インキ供給体１０は、支持枠９の上部に架設された一対
の案内レール１２に沿って左右に移動することができる
ように構成されている。また、インキ供給体１０からイ
ンキノズル１１が凹版ロール１の表面上方に延びてい
る。このインキノズル１１は、凹版ロール１のインキセ
ル６中にインキ１３が留まる時間を短くしてインキ１３
の乾燥を防止するため凹版ロール１と被印刷体１４との
接触位置にできるだけ近い位置に設けられる。なお、こ
のインキ１３は、合成樹脂または樹脂前駆体および溶剤
の混合物などからなり、高粘度のもののみでなく低粘度
のものまで適用が可能であり、特に数C.P.S.〜数十C.P.
S.程度のものまで適用が可能である。
【００１１】ドクター３は、プラスチック（ポリエチレ
ンテレフタレート・ポリエチレンなど）製刃のドクター
ブレードが用いられる。このドクター３が凹版ロール１
の表面に接触して、凹版ロール１の表面上に落とされた
インキ１３を該表面沿いに広げて、凹版ロール１のイン
キセル６内に一定量のインキ１３を充填させるようにす
る。また、ドクター３として、ドクターロールを用いて
もよい。
ンテレフタレート・ポリエチレンなど）製刃のドクター
ブレードが用いられる。このドクター３が凹版ロール１
の表面に接触して、凹版ロール１の表面上に落とされた
インキ１３を該表面沿いに広げて、凹版ロール１のイン
キセル６内に一定量のインキ１３を充填させるようにす
る。また、ドクター３として、ドクターロールを用いて
もよい。
【００１２】印刷ロール４は、金属またはセラミックか
らなる凸版１５が版胴１６の円周面に弾性層１７を介し
て形成されたものである。
らなる凸版１５が版胴１６の円周面に弾性層１７を介し
て形成されたものである。
【００１３】弾性層１７は、凹版ロール１または被印刷
体１４との圧接時に凸版１５の均一な押し込み量を保持
し、かつ凸版１５の表面摺動する部分にかかる圧力を緩
和する役目を持っている。
体１４との圧接時に凸版１５の均一な押し込み量を保持
し、かつ凸版１５の表面摺動する部分にかかる圧力を緩
和する役目を持っている。
【００１４】弾性層１７の材質としては、たとえば、天
然ゴム、合成ゴム、エラストマー、あるいは市販のクッ
ションテープなどがある。弾性層１７の厚みは、余り薄
いと弾性層１７としての前期効果が発揮せず、一方、余
り厚すぎるとたわみなどが発生したり所定位置からの寸
法誤差を生じる。なお、凸版１５の厚みあるいはレリー
フ深度１８により、適宜、ヤング弾性率、及び、厚みを
変化させることは当然である。弾性層１７は、図１〜３
に示すように版胴１６の円周面上に部分的にあるいは全
周に形成してもよいし、版胴１６の円周面に部分的に埋
め込んでもよい。
然ゴム、合成ゴム、エラストマー、あるいは市販のクッ
ションテープなどがある。弾性層１７の厚みは、余り薄
いと弾性層１７としての前期効果が発揮せず、一方、余
り厚すぎるとたわみなどが発生したり所定位置からの寸
法誤差を生じる。なお、凸版１５の厚みあるいはレリー
フ深度１８により、適宜、ヤング弾性率、及び、厚みを
変化させることは当然である。弾性層１７は、図１〜３
に示すように版胴１６の円周面上に部分的にあるいは全
周に形成してもよいし、版胴１６の円周面に部分的に埋
め込んでもよい。
【００１５】凸版１５に用いる金属材料としては、SUS3
04、SUS316などのステンレス系材料、あるいはアンパ
ー、スーパーアンパーなどの低膨張率を有する磁歪材
料、その他Niなどの材料が用いられる。前記ステンレス
系材料やNiなどの材料からなる凸版１５に関しては、凹
版ロール１または剛性を有する被印刷体との摩擦による
金属粉などの不純物混入を防ぐために、SiO2、 SiO、Si
N、などをパッシベーション層として凸版１５表面をコ
ーティングしてもよい。
04、SUS316などのステンレス系材料、あるいはアンパ
ー、スーパーアンパーなどの低膨張率を有する磁歪材
料、その他Niなどの材料が用いられる。前記ステンレス
系材料やNiなどの材料からなる凸版１５に関しては、凹
版ロール１または剛性を有する被印刷体との摩擦による
金属粉などの不純物混入を防ぐために、SiO2、 SiO、Si
N、などをパッシベーション層として凸版１５表面をコ
ーティングしてもよい。
【００１６】また、凸版１５に用いるセラミック材料と
しては、Cr2O3、SiO2、 AL2O3、SiNなどが用いられる。
しては、Cr2O3、SiO2、 AL2O3、SiNなどが用いられる。
【００１７】凸版１５の形状としては、たとえば図４〜
７のようなものがあり、とくに図５および図７に示すよ
うに、部分的に設けられた弾性層１７の側面を圧縮余地
を残して凸版１５周縁部で覆うと、凹版ロール１や被印
刷体１４との接触時にかかる圧力によって凸版１５が周
縁部において弾性層１７から剥離することを防ぐことが
できる。また、凸版１５のレリーフ深度１８は、0.05〜
0.20mmが好ましい。レリーフ深度１８が0.05mm以下であ
ると、曲率半径にもよるが、印刷ロール４の凹版ロール
１との接触時に凸版１５のフロアー部１９にもインキ１
３が転移されることがある。また、レリーフ深度１８が
0.20mm以上であると、凸版１５のフロアー部１９で歪み
が発生して変形することがある。また、凸版１５が、そ
のフロアー部１９において2.0mm以下の厚さであるのが
好ましい。2.0mm以上になると、加工が難しいなどの問
題が発生することがある。凸版１５のパターン形状とし
ては、かなり精密なパターンが可能である。たとえば、
ストライプパターン、ドットパターン、駆動パターンな
どのパターンがある。また、凸版頂面２０がマット加工
２１されていてもよい（図７参照）。
７のようなものがあり、とくに図５および図７に示すよ
うに、部分的に設けられた弾性層１７の側面を圧縮余地
を残して凸版１５周縁部で覆うと、凹版ロール１や被印
刷体１４との接触時にかかる圧力によって凸版１５が周
縁部において弾性層１７から剥離することを防ぐことが
できる。また、凸版１５のレリーフ深度１８は、0.05〜
0.20mmが好ましい。レリーフ深度１８が0.05mm以下であ
ると、曲率半径にもよるが、印刷ロール４の凹版ロール
１との接触時に凸版１５のフロアー部１９にもインキ１
３が転移されることがある。また、レリーフ深度１８が
0.20mm以上であると、凸版１５のフロアー部１９で歪み
が発生して変形することがある。また、凸版１５が、そ
のフロアー部１９において2.0mm以下の厚さであるのが
好ましい。2.0mm以上になると、加工が難しいなどの問
題が発生することがある。凸版１５のパターン形状とし
ては、かなり精密なパターンが可能である。たとえば、
ストライプパターン、ドットパターン、駆動パターンな
どのパターンがある。また、凸版頂面２０がマット加工
２１されていてもよい（図７参照）。
【００１８】金属からなる凸版１５の形成方法として
は、厚み公差±0.005mm以内のホイル状あるいはシート
状の金属プレートを、エッチング加工・レーザー加工・
放電加工・プレス加工などにより、所定のパターン形状
に加工する。図４、図５などに示すような形状の凸版１
５を形成するには、エッチング加工・レーザー加工・放
電加工などの加工法が便利である。また、図６、図７な
どに示すような形状の凸版１５を形成するには、プレス
加工により形成するのが最も便利であり、本形状に関し
ては、凸版１５の裏に金型を用いてエラストマーを流し
込むことで弾性層１７と一体成形が可能である。
は、厚み公差±0.005mm以内のホイル状あるいはシート
状の金属プレートを、エッチング加工・レーザー加工・
放電加工・プレス加工などにより、所定のパターン形状
に加工する。図４、図５などに示すような形状の凸版１
５を形成するには、エッチング加工・レーザー加工・放
電加工などの加工法が便利である。また、図６、図７な
どに示すような形状の凸版１５を形成するには、プレス
加工により形成するのが最も便利であり、本形状に関し
ては、凸版１５の裏に金型を用いてエラストマーを流し
込むことで弾性層１７と一体成形が可能である。
【００１９】一方、セラミックからなる凸版１５の形成
方法としては、燒結前のグリーンの状態で金型成形した
後燒結する方法や、金型内にセラミックパウダーおよび
バインダーなどを流し込むインジェクションモールドの
方法があり、たとえば、図４に示すように凸版１５を成
形する。または、一度版胴１６の形状に合わせて成形し
た、表面に凹凸のないセラミック成形品をエッチング加
工する。
方法としては、燒結前のグリーンの状態で金型成形した
後燒結する方法や、金型内にセラミックパウダーおよび
バインダーなどを流し込むインジェクションモールドの
方法があり、たとえば、図４に示すように凸版１５を成
形する。または、一度版胴１６の形状に合わせて成形し
た、表面に凹凸のないセラミック成形品をエッチング加
工する。
【００２０】印刷テーブル５は、その上に被印刷体１４
を載置して基台８上に設けられている。基台８の上面に
は、被印刷体搬入位置Ｂと印刷位置Ａと被印刷体搬出位
置Ｃの間を連続的に結ぶ一対の案内レール２２が固定さ
れている。印刷テーブル５は、基台８上で案内レール２
２沿いに各位置Ａ、Ｂ、Ｃ間を移動する。つまり、印刷
テーブル５に連結された印刷テーブル５駆動モーター２
３の駆動によりボールネジ２４が正逆回転し、印刷テー
ブル５が移動する。このとき、印刷テーブル５は、高さ
調節手段（図示せず）によって、印刷テーブル５上の被
印刷体１４の表面が凹版ロール１の下面と接触可能な高
さに設定されている。したがって、印刷テーブル５が印
刷位置Ａに位置するとき、印刷テーブル５上に戴置した
被印刷体１４が印刷ロール４に接触し、印刷ロール４の
所定パターンのインキ１３を被印刷体１４上に転移させ
て薄膜を印刷・形成する。その後、印刷テーブル５は印
刷テーブル駆動モーター２３の駆動により被印刷体搬出
位置Ｃへと移動し、そこで被印刷体１４が排出される。
次いで、印刷テーブル５は高さ調節手段（図示せず）に
よって降下し、印刷テーブル駆動モーター２３の駆動に
より逆に被印刷体搬出位置Ｃから被印刷体搬入位置Ｂへ
と移動する。
を載置して基台８上に設けられている。基台８の上面に
は、被印刷体搬入位置Ｂと印刷位置Ａと被印刷体搬出位
置Ｃの間を連続的に結ぶ一対の案内レール２２が固定さ
れている。印刷テーブル５は、基台８上で案内レール２
２沿いに各位置Ａ、Ｂ、Ｃ間を移動する。つまり、印刷
テーブル５に連結された印刷テーブル５駆動モーター２
３の駆動によりボールネジ２４が正逆回転し、印刷テー
ブル５が移動する。このとき、印刷テーブル５は、高さ
調節手段（図示せず）によって、印刷テーブル５上の被
印刷体１４の表面が凹版ロール１の下面と接触可能な高
さに設定されている。したがって、印刷テーブル５が印
刷位置Ａに位置するとき、印刷テーブル５上に戴置した
被印刷体１４が印刷ロール４に接触し、印刷ロール４の
所定パターンのインキ１３を被印刷体１４上に転移させ
て薄膜を印刷・形成する。その後、印刷テーブル５は印
刷テーブル駆動モーター２３の駆動により被印刷体搬出
位置Ｃへと移動し、そこで被印刷体１４が排出される。
次いで、印刷テーブル５は高さ調節手段（図示せず）に
よって降下し、印刷テーブル駆動モーター２３の駆動に
より逆に被印刷体搬出位置Ｃから被印刷体搬入位置Ｂへ
と移動する。
【００２１】上記の構成によれば、所定パターンに配列
された多数のインキセル６を有する凹版ロール１の表面
に、インキノズル１１からインキ１３を落として凹版ロ
ール１を回転させ、ドクター３を用いて凹版ロール１の
表面にインキ１３を広げてインキセル６にインキ１３を
充填し（図９参照）、凹版ロール１が回転してその所定
パターンのインキセル６が印刷ロール４の凸版１５に接
触し、凸版頂面２０に凹版ロール１のインキセル６内の
インキ１３を転移させる。次いで、印刷ロール４の回転
により、その凸版１５が基台８側に臨むようになったと
き、印刷テーブル駆動モーター２３を駆動してボールネ
ジ２４を回転させ印刷テーブル５を被印刷体搬入位置Ｂ
から印刷位置Ａまで移動させる（図１０参照）。印刷ロ
ール４を回転させつつ被印刷体１４を搬出位置Ｃ側に移
動させて印刷ロールの凸版１５を被印刷体１４表面に接
触させ、凸版頂面２０の所定パターンのインキ１３を被
印刷体１４上に転移させ、薄膜が形成される（図１１参
照）。被印刷体１４に所定パターンのインキ１３が印刷
されると、印刷テーブル駆動モーター２３の駆動により
ボールネジ２４を回転させて印刷テーブル５を被印刷体
排出位置Ｃに位置させ、被印刷体１４を印刷テーブル５
上から排出する。この間、凹版ロール１は次の印刷に備
えて所定の位置まで回転して停止する（図１２参照）。
一方、被印刷体１４が取り出された印刷テーブル５は、
上記高さ調節手段（図示せず）によって降下させられ、
印刷ロール４と接触しないようにして、被印刷体排出位
置Ｃから被印刷体搬入位置Ｂまで移動する。そして、印
刷テーブル５上には次の被印刷体１４が載置させられ
る。
された多数のインキセル６を有する凹版ロール１の表面
に、インキノズル１１からインキ１３を落として凹版ロ
ール１を回転させ、ドクター３を用いて凹版ロール１の
表面にインキ１３を広げてインキセル６にインキ１３を
充填し（図９参照）、凹版ロール１が回転してその所定
パターンのインキセル６が印刷ロール４の凸版１５に接
触し、凸版頂面２０に凹版ロール１のインキセル６内の
インキ１３を転移させる。次いで、印刷ロール４の回転
により、その凸版１５が基台８側に臨むようになったと
き、印刷テーブル駆動モーター２３を駆動してボールネ
ジ２４を回転させ印刷テーブル５を被印刷体搬入位置Ｂ
から印刷位置Ａまで移動させる（図１０参照）。印刷ロ
ール４を回転させつつ被印刷体１４を搬出位置Ｃ側に移
動させて印刷ロールの凸版１５を被印刷体１４表面に接
触させ、凸版頂面２０の所定パターンのインキ１３を被
印刷体１４上に転移させ、薄膜が形成される（図１１参
照）。被印刷体１４に所定パターンのインキ１３が印刷
されると、印刷テーブル駆動モーター２３の駆動により
ボールネジ２４を回転させて印刷テーブル５を被印刷体
排出位置Ｃに位置させ、被印刷体１４を印刷テーブル５
上から排出する。この間、凹版ロール１は次の印刷に備
えて所定の位置まで回転して停止する（図１２参照）。
一方、被印刷体１４が取り出された印刷テーブル５は、
上記高さ調節手段（図示せず）によって降下させられ、
印刷ロール４と接触しないようにして、被印刷体排出位
置Ｃから被印刷体搬入位置Ｂまで移動する。そして、印
刷テーブル５上には次の被印刷体１４が載置させられ
る。
【００２２】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その他種々の態様で実施することができ
る。たとえば、印刷テーブル５を被印刷体搬入位置Ｂと
印刷位置Ａと被印刷体排出位置Ｃとの間で移動させる機
構としては、上記ボールネジ２４に限定されるものでは
なく、ラック・ピニオン機構など周知の機構を採用する
ことができる。
のではなく、その他種々の態様で実施することができ
る。たとえば、印刷テーブル５を被印刷体搬入位置Ｂと
印刷位置Ａと被印刷体排出位置Ｃとの間で移動させる機
構としては、上記ボールネジ２４に限定されるものでは
なく、ラック・ピニオン機構など周知の機構を採用する
ことができる。
【００２３】実例１ 厚さ0.2mmのスーパーアンバー材に、線巾0.080mm、線間
0.120mm（ピッチ0.200mm）のストライプを、レリーフ深
度１８が0.080mmとなるようにエッチング加工し（パタ
ーン部面積160mm×240mm）、凸版１５を形成した。しか
る後、凸版１５裏面に肉厚3mmの熱可塑性エラストマー
にて弾性層１７を形成し、両面接着テープにて、版胴１
６の円周面に固定して印刷ロールとした。
0.120mm（ピッチ0.200mm）のストライプを、レリーフ深
度１８が0.080mmとなるようにエッチング加工し（パタ
ーン部面積160mm×240mm）、凸版１５を形成した。しか
る後、凸版１５裏面に肉厚3mmの熱可塑性エラストマー
にて弾性層１７を形成し、両面接着テープにて、版胴１
６の円周面に固定して印刷ロールとした。
【００２４】被印刷体は、1.1mm厚のSiO2コート付きソ
ーダライムガラスを使用し、インキ１３材料としては、
粘度60cp、固形分濃度8.00％のオクチル酸スズと硝酸イ
ンジウムの混合溶液を使用した。
ーダライムガラスを使用し、インキ１３材料としては、
粘度60cp、固形分濃度8.00％のオクチル酸スズと硝酸イ
ンジウムの混合溶液を使用した。
【００２５】印刷済のガラスを、480℃、30min、酸化還
元雰囲気にて、焼成したところ、線巾0.150mm±0.010m
m、トータルピッチ精度５μm以内（240mm=Lにて）と、
従来の線巾±0.030mm、トータルピッチ精度、約0.050mm
（L=240mm）に比べて、非常に改善された結果が得られ
た。しかも、被膜周縁部の膜厚不均一部分に関しては、
ストライプの中央膜厚に比して、従来180％（被膜周縁
部最大膜厚/中心部膜厚×100）と盛り上がっていたとこ
ろが、120％程度と、かなり平滑化された。
元雰囲気にて、焼成したところ、線巾0.150mm±0.010m
m、トータルピッチ精度５μm以内（240mm=Lにて）と、
従来の線巾±0.030mm、トータルピッチ精度、約0.050mm
（L=240mm）に比べて、非常に改善された結果が得られ
た。しかも、被膜周縁部の膜厚不均一部分に関しては、
ストライプの中央膜厚に比して、従来180％（被膜周縁
部最大膜厚/中心部膜厚×100）と盛り上がっていたとこ
ろが、120％程度と、かなり平滑化された。
【００２６】
【発明の効果】本発明の薄膜パターン形成装置は、多数
のインキセルを有する凹版ロールと、凹版ロールの表面
にインキを供給するインキ供給装置と、供給されたイン
キをインキセル内に充填するドクターと、凹版ロールに
頂面が接触する凸版を版胴の円周面に有しインキセル内
のインキを凸版頂面に転移させる印刷ロールと、被印刷
体を固定し印刷ロールの凸版頂面に被印刷体を接触して
印刷ロールの凸版頂面上のインキを被印刷体表面に転移
させる印刷テーブルとからなる薄膜パターン形成装置に
おいて、印刷ロールの凸版が、金属またはセラミックか
らなり、弾性層を介して版胴の円周面に形成されている
ように構成した。
のインキセルを有する凹版ロールと、凹版ロールの表面
にインキを供給するインキ供給装置と、供給されたイン
キをインキセル内に充填するドクターと、凹版ロールに
頂面が接触する凸版を版胴の円周面に有しインキセル内
のインキを凸版頂面に転移させる印刷ロールと、被印刷
体を固定し印刷ロールの凸版頂面に被印刷体を接触して
印刷ロールの凸版頂面上のインキを被印刷体表面に転移
させる印刷テーブルとからなる薄膜パターン形成装置に
おいて、印刷ロールの凸版が、金属またはセラミックか
らなり、弾性層を介して版胴の円周面に形成されている
ように構成した。
【００２７】したがって、本発明の薄膜パターン形成装
置は、印刷ロールが硬質材料からなる凸版を弾性層を介
して版胴の円周面に形成しているので、精密な薄膜パタ
ーンが形成できる。つまり、被印刷体との圧接の際に凸
版表面が変形しないためパターン周縁部が直線性を有し
またトータルピッチ精度にバラツキが少ない。また、凹
版ロールへの圧接の際にも凸版表面が変形せず凸版頂面
のみにインキが転移されるため、均一な厚さの薄膜が得
られる。また、凸版が溶剤を吸収しないため常に一定の
線幅で薄膜パターンを形成できる。
置は、印刷ロールが硬質材料からなる凸版を弾性層を介
して版胴の円周面に形成しているので、精密な薄膜パタ
ーンが形成できる。つまり、被印刷体との圧接の際に凸
版表面が変形しないためパターン周縁部が直線性を有し
またトータルピッチ精度にバラツキが少ない。また、凹
版ロールへの圧接の際にも凸版表面が変形せず凸版頂面
のみにインキが転移されるため、均一な厚さの薄膜が得
られる。また、凸版が溶剤を吸収しないため常に一定の
線幅で薄膜パターンを形成できる。
【図１】本発明の薄膜パターン形成装置に用いる印刷ロ
ールの実施例を示す断面図
ールの実施例を示す断面図
【図２】本発明の薄膜パターン形成装置に用いる印刷ロ
ールの実施例を示す断面図
ールの実施例を示す断面図
【図３】本発明の薄膜パターン形成装置に用いる印刷ロ
ールの実施例を示す断面図
ールの実施例を示す断面図
【図４】本発明の薄膜パターン形成装置に用いる印刷ロ
ールの実施例を示す断面図
ールの実施例を示す断面図
【図５】本発明の薄膜パターン形成装置に用いる印刷ロ
ールの実施例を示す断面図
ールの実施例を示す断面図
【図６】本発明の薄膜パターン形成装置に用いる印刷ロ
ールの実施例を示す断面図
ールの実施例を示す断面図
【図７】本発明の薄膜パターン形成装置に用いる印刷ロ
ールの実施例を示す断面図
ールの実施例を示す断面図
【図８】本発明の薄膜パターン形成装置に用いる印刷ロ
ールの実施例を示す断面図
ールの実施例を示す断面図
【図９】本発明の薄膜パターン形成装置の印刷工程を示
す断面図
す断面図
【図１０】本発明の薄膜パターン形成装置の印刷工程を
示す断面図
示す断面図
【図１１】本発明の薄膜パターン形成装置の印刷工程を
示す断面図
示す断面図
【図１２】本発明の薄膜パターン形成装置の印刷工程を
示す断面図
示す断面図
【図１３】本発明の薄膜パターン形成装置を示す斜視図
【図１４】従来の薄膜形成装置に用いる印刷ロールを示
す断面図
す断面図
１ 凹版ロール ２ インキ供給装置 ３ ドクター ４ 印刷ロール ５ 印刷テーブル ６ インキセル ７ 回転軸 ８ 基台 ９ 支持枠 １０ インキ供給体 １１ インキノズル １２ 案内レール １３ インキ １４ 被印刷体 １５ 凸版 １６ 版胴 １７ 弾性層 １８ レリーフ深度 １９ フロアー部 ２０ 凸版頂面 ２１ マット加工 ２２ 案内レール ２３ 印刷テーブル駆動モーター ２４ ボールネジ ２５ 樹脂凸版
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成３年１０月２１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００３】これを解決するために、実開昭５７-１６
０７６４号に提示されているような薄膜形成装置が用い
られている。この薄膜形成装置は、多数のインキセルを
有する平版状凹版と被印刷体とを基台上に並べて載置す
る一方、凹版の近傍に数10〜30,000cＰの粘度を有する
高分子溶液からなるインキを凹版のインキセルに充填す
るインキ供給装置と印刷ロールとを有する印刷ロール支
持枠を基台に凹版と被印刷体との間で移動自在に備える
と共に、印刷ロール支持枠にドクターを備えている。こ
の薄膜形成装置においては、印刷ロールが回転軸７に固
定された版胴１６の円周面に合成樹脂製の樹脂凸版２５
を形成しており（図１４参照）、インキを凹版のインキ
セルに供給してドクターで余分なインキをかき落とした
後、印刷ロールを凹版に圧接させつつ回転させて、印刷
ロールの柔らかい凸部の表面に上記凹版のインキセルの
インキを所定パターンに付着させ、インキが付着した印
刷ロールを回転させつつ凸部のインキを被印刷体の表面
に印刷して上記所定パターンの薄膜を形成するようにし
たものである。
０７６４号に提示されているような薄膜形成装置が用い
られている。この薄膜形成装置は、多数のインキセルを
有する平版状凹版と被印刷体とを基台上に並べて載置す
る一方、凹版の近傍に数10〜30,000cＰの粘度を有する
高分子溶液からなるインキを凹版のインキセルに充填す
るインキ供給装置と印刷ロールとを有する印刷ロール支
持枠を基台に凹版と被印刷体との間で移動自在に備える
と共に、印刷ロール支持枠にドクターを備えている。こ
の薄膜形成装置においては、印刷ロールが回転軸７に固
定された版胴１６の円周面に合成樹脂製の樹脂凸版２５
を形成しており（図１４参照）、インキを凹版のインキ
セルに供給してドクターで余分なインキをかき落とした
後、印刷ロールを凹版に圧接させつつ回転させて、印刷
ロールの柔らかい凸部の表面に上記凹版のインキセルの
インキを所定パターンに付着させ、インキが付着した印
刷ロールを回転させつつ凸部のインキを被印刷体の表面
に印刷して上記所定パターンの薄膜を形成するようにし
たものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】インキ供給装置２は、インキ供給体１０と
インキノズル１１と一対の案内レール１２とからなる。
インキ供給体１０は、支持枠９の上部に架設された一対
の案内レール１２に沿って左右に移動することができる
ように構成されている。また、インキ供給体１０からイ
ンキノズル１１が凹版ロール１の表面上方に延びてい
る。このインキノズル１１は、凹版ロール１のインキセ
ル６中にインキ１３が留まる時間を短くしてインキ１３
の乾燥を防止するため凹版ロール１と被印刷体１４との
接触位置にできるだけ近い位置に設けられる。なお、こ
のインキ１３は、合成樹脂または樹脂前駆体および溶剤
の混合物などからなり、高粘度のもののみでなく低粘度
のものまで適用が可能であり、特に数cＰ〜数十cＰ程度
のものまで適用が可能である。
インキノズル１１と一対の案内レール１２とからなる。
インキ供給体１０は、支持枠９の上部に架設された一対
の案内レール１２に沿って左右に移動することができる
ように構成されている。また、インキ供給体１０からイ
ンキノズル１１が凹版ロール１の表面上方に延びてい
る。このインキノズル１１は、凹版ロール１のインキセ
ル６中にインキ１３が留まる時間を短くしてインキ１３
の乾燥を防止するため凹版ロール１と被印刷体１４との
接触位置にできるだけ近い位置に設けられる。なお、こ
のインキ１３は、合成樹脂または樹脂前駆体および溶剤
の混合物などからなり、高粘度のもののみでなく低粘度
のものまで適用が可能であり、特に数cＰ〜数十cＰ程度
のものまで適用が可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２４】被印刷体は、1.1mm厚のSiO2コート付きソ
ーダライムガラスを使用し、インキ１３材料としては、
粘度60cＰ、固形分濃度8.00％のオクチル酸スズと硝酸
インジウムの混合溶液を使用した。 ─────────────────────────────────────────────────────
ーダライムガラスを使用し、インキ１３材料としては、
粘度60cＰ、固形分濃度8.00％のオクチル酸スズと硝酸
インジウムの混合溶液を使用した。 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年８月１９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】インキ供給装置２は、インキ供給体１０と
インキノズル１１と一対の案内レール１２とからなる。
インキ供給体１０は、支持枠９の上部に架設された一対
の案内レール１２に沿って左右に移動することができる
ように構成されている。また、インキ供給体１０からイ
ンキノズル１１が凹版ロール１の表面上方に延びてい
る。このインキノズル１１は、凹版ロール１のインキセ
ル６中にインキ１３が留まる時間を短くしてインキ１３
の乾燥を防止するため凹版ロール１と被印刷体１４との
接触位置にできるだけ近い位置に設けられる。なお、こ
のインキ１３は高粘度のもののみでなく低粘度のものま
で適用が可能であり、特に数cＰ〜数十cＰ程度のものま
で適用が可能である。
インキノズル１１と一対の案内レール１２とからなる。
インキ供給体１０は、支持枠９の上部に架設された一対
の案内レール１２に沿って左右に移動することができる
ように構成されている。また、インキ供給体１０からイ
ンキノズル１１が凹版ロール１の表面上方に延びてい
る。このインキノズル１１は、凹版ロール１のインキセ
ル６中にインキ１３が留まる時間を短くしてインキ１３
の乾燥を防止するため凹版ロール１と被印刷体１４との
接触位置にできるだけ近い位置に設けられる。なお、こ
のインキ１３は高粘度のもののみでなく低粘度のものま
で適用が可能であり、特に数cＰ〜数十cＰ程度のものま
で適用が可能である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１５】凸版１５に用いる金属材料としては、SUS3
04、SUS316などのステンレス系材料、あるいはアンバ
ー、スーパーアンバーなどの低膨張率を有する磁歪材
料、その他Niなどの材料が用いられる。前記ステンレス
系材料やNiなどの材料からなる凸版１５に関しては、凹
版ロール１または剛性を有する被印刷体との摩擦による
金属粉などの不純物混入を防ぐために、SiO2、SiC、SiN
などをパッシベーション層として凸版１５表面をコーテ
ィングしてもよい。
04、SUS316などのステンレス系材料、あるいはアンバ
ー、スーパーアンバーなどの低膨張率を有する磁歪材
料、その他Niなどの材料が用いられる。前記ステンレス
系材料やNiなどの材料からなる凸版１５に関しては、凹
版ロール１または剛性を有する被印刷体との摩擦による
金属粉などの不純物混入を防ぐために、SiO2、SiC、SiN
などをパッシベーション層として凸版１５表面をコーテ
ィングしてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２５】印刷済のガラスを、480℃、30min、酸化還
元雰囲気にて、焼成したところ、線巾0.150mm±0.010m
m、トータルピッチ精度0.005mm以内（Ｌ＝240mm）と、
従来の線巾0.150mm±0.030mm、トータルピッチ精度、約
0.050mm（Ｌ＝240mm）に比べて、非常に改善された結果
が得られた。しかも、被膜周縁部の膜厚不均一部分に関
しては、ストライプの中央膜厚に比して、従来180％
（被膜周縁部最大膜厚/中心部膜厚×100）と盛り上がっ
ていたところが、120％程度と、かなり平滑化された。
元雰囲気にて、焼成したところ、線巾0.150mm±0.010m
m、トータルピッチ精度0.005mm以内（Ｌ＝240mm）と、
従来の線巾0.150mm±0.030mm、トータルピッチ精度、約
0.050mm（Ｌ＝240mm）に比べて、非常に改善された結果
が得られた。しかも、被膜周縁部の膜厚不均一部分に関
しては、ストライプの中央膜厚に比して、従来180％
（被膜周縁部最大膜厚/中心部膜厚×100）と盛り上がっ
ていたところが、120％程度と、かなり平滑化された。
Claims (7)
- 【請求項１】 多数のインキセルを有する凹版ロール
と、凹版ロールの表面にインキを供給するインキ供給装
置と、供給されたインキをインキセル内に充填するドク
ターと、凹版ロールに頂面が接触する凸版を版胴の円周
面に有しインキセル内のインキを凸版頂面に転移させる
印刷ロールと、被印刷体を固定し印刷ロールの凸版頂面
に被印刷体を接触して印刷ロールの凸版頂面上のインキ
を被印刷体表面に転移させる印刷テーブルとからなる薄
膜パターン形成装置において、印刷ロールの凸版が、金
属またはセラミックからなり、弾性層を介して版胴の円
周面に形成されていることを特徴とする薄膜パターン形
成装置。 - 【請求項２】 凸版が、0.05〜0.20mmのレリーフ深度で
ある請求項１に記載の薄膜パターン形成装置。 - 【請求項３】 凸版が、そのフロアー部において2.0mm
以下の厚さである請求項１または２のいずれかに記載の
薄膜パターン形成装置。 - 【請求項４】 弾性層が、版胴の円周面上に形成されて
いる請求項１〜３のいずれかに記載の薄膜パターン形成
装置。 - 【請求項５】 弾性層が、版胴の円周面に部分的に埋め
込まれている請求項１〜３のいずれかに記載の薄膜パタ
ーン形成装置。 - 【請求項６】 凸版が、部分的に設けられた弾性層の側
面を圧縮余地を残して凸版周縁部で覆っている請求項１
〜５のいずれかに記載の薄膜パターン形成装置。 - 【請求項７】 凸版頂面が、マット加工されている請求
項１〜６のいずれかに記載の薄膜パターン形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3246754A JP3052270B2 (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 薄膜パターン形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3246754A JP3052270B2 (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 薄膜パターン形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0557873A true JPH0557873A (ja) | 1993-03-09 |
| JP3052270B2 JP3052270B2 (ja) | 2000-06-12 |
Family
ID=17153164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3246754A Expired - Fee Related JP3052270B2 (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 薄膜パターン形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3052270B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005157240A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-06-16 | Iinuma Gauge Seisakusho:Kk | 液晶表示素子製造装置および液晶表示素子の製造方法 |
| JP2006163080A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Nippon Paper Chemicals Co Ltd | 液晶配向膜形成材料及び液晶配向膜の形成方法 |
| US20100028540A1 (en) * | 2007-03-09 | 2010-02-04 | Jie-Hyun Seong | Method and system for forming black matrix |
| KR100942840B1 (ko) * | 2003-04-26 | 2010-02-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시패널의 배향막 제조장치 및 그 방법 |
| CN103728778A (zh) * | 2013-12-17 | 2014-04-16 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 图案变化辊及转印设备 |
-
1991
- 1991-08-30 JP JP3246754A patent/JP3052270B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100942840B1 (ko) * | 2003-04-26 | 2010-02-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시패널의 배향막 제조장치 및 그 방법 |
| JP2005157240A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-06-16 | Iinuma Gauge Seisakusho:Kk | 液晶表示素子製造装置および液晶表示素子の製造方法 |
| JP2006163080A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Nippon Paper Chemicals Co Ltd | 液晶配向膜形成材料及び液晶配向膜の形成方法 |
| US20100028540A1 (en) * | 2007-03-09 | 2010-02-04 | Jie-Hyun Seong | Method and system for forming black matrix |
| CN103728778A (zh) * | 2013-12-17 | 2014-04-16 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 图案变化辊及转印设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3052270B2 (ja) | 2000-06-12 |
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