JPH0554378A - 磁気デイスク媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁気ディスク媒体の潤滑層膜厚の高速回転に
よる減少を、保護膜表面と潤滑層との結合を強固にする
ことによって防止する。 【構成】 磁気ディスク媒体、特に金属薄膜磁性層を有
する磁気ディスク媒体の磁性層主要成分であるＣｏを保
護膜表面にマイグレーションさせた後、官能基を有する
パーフルオロポリエーテルを潤滑層として付与し、Ｃｏ
と官能基を反応させることによって保護膜と潤滑層との
結合を強固にさせる。Ｃｏをマイグレーションさせる方
法としては、常圧下での加熱或いは加湿及び加熱、又は
高圧下での加湿及び加熱がある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、記録媒体としてのハー
ドディスクの記録面上に潤滑膜を形成する方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ハードディスク、例えば固定磁気ディス
ク装置に使用される磁気ディスクは、磁気ヘッドと接触
しながら回転するので、ディスク基板上に形成された磁
性層を直接に磁気ヘッドと接触させるとそこに摩耗が発
生し、磁性層の損傷に至ることもある。この摩耗を防止
するために、磁性体層上に保護膜層及び潤滑膜層を形成
して、この磁性体層を保護している。

【０００３】この潤滑膜の形成方法としては、トリクロ
ロトリフルオロエタン等のクロロカーボン系の揮発性の
高い溶媒に、潤滑剤であるパーフルオロポリエーテル等
の高分子含フッ素化合物と溶解した溶液を作り、この溶
液をディップコート法或いはスプレーコート法或いはス
ピンコート法によって媒体の表面である保護膜（カーボ
ン，ＳｉＯ₂が一般的）上に塗布する方法が一般的であ
る。その後、残留溶媒を除去する目的で１００℃前後の
温度で加熱することもある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の方法においては、形成された潤滑層は、物理的
に保護膜上に吸着しているだけであり、磁気ディスク装
置内で媒体が高速で回転（一般的には３６００ｒｐｍ）
する際、その遠心力によって媒体表面上の潤滑剤が媒体
外周側に向って飛び散ってしまい、徐々に潤滑膜厚が減
少し、潤滑層としての機能を発揮できなくなってしま
う。（この様な現象をスピンオフと称する。）

【０００５】このスピンオフを改善するために、官能基
を有する潤滑剤例えば、その分子構造の両端に水酸基を
有するパーフルオロポリエーテル或いは同じくカルボキ
シル基を有するパーフルオロポリエーテル等が使用され
ている。

【０００６】しかし、このような官能基を有する潤滑剤
でも未だカーボン或いはＳｉＯ₂保護膜との結合は十分
ではなく、上記スピンオフ現象を十分に解決するには至
っていない。

【０００７】本発明の目的は、磁性層成分と潤滑層とを
強固に結合させてスピンオフを防止する磁気ディスク媒
体の製造方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による磁気ディスク媒体の製造方法において
は、金属薄膜磁性層を有する磁気ディスク媒体におい
て、磁性層の主要成分であるＣｏを保護膜表面にマイグ
レーションさせる前処理を行った後潤滑層を成膜するも
のである。

【０００９】また、前記前処理は、常圧下で、且つ１０
０〜３００℃の温度範囲の加熱下で行うものである。

【００１０】また、前記前処理は、常圧下で、且つ５０
〜１００℃，５０〜１００％ＲＨの温湿度範囲の加熱及
び加湿条件下で行うものである。

【００１１】また、前記前処理は、高圧下で、且つ１０
０〜３００℃，５０〜１００％ＲＨの温湿度範囲の加熱
及び加湿条件下で行うものである。

【００１２】

【作用】本発明の磁気ディスク媒体の製造方法において
は、潤滑層と保護膜表面とを強固に結合させるため、保
護膜表面に磁性体層の主要組成であるＣｏをマイグレー
ションさせ、このＣｏと潤滑剤とを化学的に結合させた
ものである。

【００１３】磁気ディスク媒体、特にめっき法或いはス
パッタ法で成膜される薄膜媒体では、その磁性体層は、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｚｎ−Ｐ，Ｃｏ−Ｃｒ−
Ｔａ或いはＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の組成が一般的である。

【００１４】この磁性体層の金属元素は、ある処理を行
うことによって、保護膜であるカーボンやＳｉＯ₂の微
細孔を通って表面にまでマイグレーションする。更に磁
性体層の金属元素、特にＣｏは、潤滑剤、特に官能基を
有するパーフルオロポリエーテルの官能基と反応し、金
属塩を生成することによって保護膜表面と強力に結合す
る。

【００１５】本発明は、Ｃｏのマイグレーション現象を
利用し、磁気ディスク媒体表面に潤滑層を強固に結合さ
せるという特徴を有している。

【００１６】

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。

【００１７】図１は、本発明の実施例のめっき型磁気デ
ィスク媒体の製造プロセスを示すフロー図である。プロ
セスは、下地めっき層成膜、磁性めっき層成膜、保護め
っき層成膜、前処理、潤滑層成膜の工程からなってい
る。比較のため、図２に従来のフロー図を併せて記す。

【００１８】本発明の実施例が従来例と異なる点は、潤
滑層成膜前に前処理を施していることである。

【００１９】この前処理は、Ｃｏをマイグレーションさ
せ、その後で成膜する潤滑層と保護膜とを強固に結合さ
せるために行う。

【００２０】この前処理は、具体的には次の３つの方法
がある。 常圧下で加熱する。加熱温度範囲は１００〜３００
℃。 常圧下で加熱及び加湿する。温湿度範囲は５０〜１
００℃，５０〜１００％ＲＨ。 プレッシャー・クッカー等を利用して高圧下で加熱
及び加湿する。温湿度範囲は１００〜３００℃，５０〜
１００％ＲＨ。

【００２１】図３は、本発明の実施例で作成した磁気デ
ィスク媒体の表面から６００Åの深さまでの主要元素を
ＳＩＭＳを用いてデプスプロファイルした結果である。
前処理の条件は２５０℃，２Ｈ加熱とした。

【００２２】図４に示す従来例のデプスプロファイルと
比べると、Ｃｏが表面近傍でリッチであり、マイグレー
ションが加速されていることが明らかである。

【００２３】図５は、実施例と従来例で作成した磁気デ
ィスク媒体を高速回転させ潤滑層膜厚の減少推移を比較
したものである。

【００２４】実施例の前処理条件は、２５０℃，２Ｈ加
熱とした。又、高速回転は加速するため１２０℃以下，
７２００ｒｐｍとした。

【００２５】実施例によれば、潤滑層膜厚の減少がほと
んどなく、スピンオフ特性に優れた媒体になっている。

【００２６】尚、図３及び図５に用いた実施例は、図６
に示す断面図を有する磁気ディスク媒体であり、Ｎｉ−
Ｐ層１，２及び４、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ層３は、めっき法に
よって成膜し、保護膜であるＳｉＯ₂膜５は、テトラヒ
ドロキシシランのアルコール溶液をスピンコート法にて
成膜し、更に潤滑層６は、官能基として水酸基を有する
パーフルオロポリエーテル（商品名：Ｆｏｍｂｌｉｎ
Ｚ−Ｄｏｌ）をスピンコート法にて成膜した。

【００２７】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、磁
気ディスク媒体において、磁性層成分であるＣｏを保護
膜表面にマイグレーションさせ、その上に成膜する潤滑
層との結合を強固にすることによって潤滑層のスピンオ
フ特性を改善するという効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例であるめっき型磁気ディスク
媒体の製造プロセスフロー図である。

【図２】従来例のめっき型磁気ディスクの製造プロセス
フロー図である。

【図３】実施例と従来例のＳＩＭＳによる主要元素のデ
プスプロファイルを示す図である。

【図４】実施例と従来例のＳＩＭＳによる主要元素のデ
プスプロファイルを示す図である。

【図５】高速回転による潤滑膜厚の減少推移を実施例と
従来例で比較した図である。

【図６】本発明の一実施例として示しためっき型磁気デ
ィスク媒体の代表的な断面図である。

【符号の説明】

１，２，４ Ｎｉ−Ｐ層 ３ Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ層 ５ ＳｉＯ₂層 ６ 潤滑層

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 金属薄膜磁性層を有する磁気ディスク媒
   体において、磁性層の主要成分であるＣｏを保護膜表面
   にマイグレーションさせる前処理を行った後潤滑層を成
   膜することを特徴とする磁気ディスク媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 前記前処理は、常圧下で、且つ１００〜
   ３００℃の温度範囲の加熱下で行う請求項１に記載の磁
   気ディスク媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 前記前処理は、常圧下で、且つ５０〜１
   ００℃，５０〜１００％ＲＨの温湿度範囲の加熱及び加
   湿条件下で行う請求項１に記載の磁気ディスク媒体の製
   造方法。
4. 【請求項４】 前記前処理は、高圧下で、且つ１００〜
   ３００℃，５０〜１００％ＲＨの温湿度範囲の加熱及び
   加湿条件下で行う請求項１に記載の磁気ディスク媒体の
   製造方法。