JPH0554173B2 - - Google Patents
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- JPH0554173B2 JPH0554173B2 JP61225603A JP22560386A JPH0554173B2 JP H0554173 B2 JPH0554173 B2 JP H0554173B2 JP 61225603 A JP61225603 A JP 61225603A JP 22560386 A JP22560386 A JP 22560386A JP H0554173 B2 JPH0554173 B2 JP H0554173B2
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 25
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000013020 steam cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は磁気記録装置に用いられる磁気記録媒
体を製造する方法に関する。
体を製造する方法に関する。
近年、磁気記録装置に用いられる磁気デイスク
などの磁気記録媒体はますます高記録密度となる
傾向にあり、これに伴い磁気記録媒体の磁性層の
膜層を従来の約1μm程度から0.1μm以下まで薄く
し、保持力(Hc)もより高くする必要が生じて
いる。そのため磁気記録媒体の製造方法もサブミ
クロンオーダでは磁性層の膜層が不均一になるス
ピンコート法に代つて、均一な薄膜を容易に形成
することが可能なスパツタ法やメツキ法が注目さ
れるとともに、磁性層としてスパツタ法によつて
形成されるCo系合金例えばCo−Ni合金磁性薄膜
が使用されるようになつた。
などの磁気記録媒体はますます高記録密度となる
傾向にあり、これに伴い磁気記録媒体の磁性層の
膜層を従来の約1μm程度から0.1μm以下まで薄く
し、保持力(Hc)もより高くする必要が生じて
いる。そのため磁気記録媒体の製造方法もサブミ
クロンオーダでは磁性層の膜層が不均一になるス
ピンコート法に代つて、均一な薄膜を容易に形成
することが可能なスパツタ法やメツキ法が注目さ
れるとともに、磁性層としてスパツタ法によつて
形成されるCo系合金例えばCo−Ni合金磁性薄膜
が使用されるようになつた。
第2図にデイスク状磁気記録媒体の要部構成断
面図を示す。第2図において、磁気記録媒体は合
金基板1上に非磁性基体層2を被覆し、この非磁
性基体層2の上にさらに非磁性金属下地層3を介
して磁性層4を被覆し、磁性層4上に保護潤滑膜
5を被覆したものである。
面図を示す。第2図において、磁気記録媒体は合
金基板1上に非磁性基体層2を被覆し、この非磁
性基体層2の上にさらに非磁性金属下地層3を介
して磁性層4を被覆し、磁性層4上に保護潤滑膜
5を被覆したものである。
このように構成された磁気記録媒体の合金基板
1にはアルミニウム合金が多用されており、所定
の面粗さ、平行度および平面度に仕上げられる。
非磁性基体層2は例えばNi−P合金を無電解め
つきした所定の硬さをもつたものが用いられ表面
は機械的研磨により鏡面仕上げを行なう。非磁性
金属下地層3は一般にCrを用いてスパツタ法に
より形成され、さらにその上にスパツタされる磁
性層4は例えばCo−30at%Ni−7.5at%Cr合金が
用いられる。
1にはアルミニウム合金が多用されており、所定
の面粗さ、平行度および平面度に仕上げられる。
非磁性基体層2は例えばNi−P合金を無電解め
つきした所定の硬さをもつたものが用いられ表面
は機械的研磨により鏡面仕上げを行なう。非磁性
金属下地層3は一般にCrを用いてスパツタ法に
より形成され、さらにその上にスパツタされる磁
性層4は例えばCo−30at%Ni−7.5at%Cr合金が
用いられる。
以下この磁気記録媒体の製造方法の概要を述べ
る。第3図はスパツタ装置におけるチヤンバー内
の部材配置と作動を説明するための模型的断面図
である。第3図においてチヤンバー6の外周に真
空排気口7とArガス導入口8を備え、それぞれ
図示してない真空排気系とArガスボンベに連通
しており、いずれも操作バルブ9,9aを備え、
チヤンバー6の内部には基板1aがとりつけれた
トレー10が配設され、基板1aと対向して基板
1aを昇温するヒータ11が置かれている。トレ
ー10は基板1aとともに矢印の方法に移動する
ことができ、その移動過程でCrターゲツト12
により下地層がスパツタされ、引き続きCo−
30at%Ni−7.5at%Crの磁性合金ターゲツト13
からCo系磁性層がスパツタ形成される。
る。第3図はスパツタ装置におけるチヤンバー内
の部材配置と作動を説明するための模型的断面図
である。第3図においてチヤンバー6の外周に真
空排気口7とArガス導入口8を備え、それぞれ
図示してない真空排気系とArガスボンベに連通
しており、いずれも操作バルブ9,9aを備え、
チヤンバー6の内部には基板1aがとりつけれた
トレー10が配設され、基板1aと対向して基板
1aを昇温するヒータ11が置かれている。トレ
ー10は基板1aとともに矢印の方法に移動する
ことができ、その移動過程でCrターゲツト12
により下地層がスパツタされ、引き続きCo−
30at%Ni−7.5at%Crの磁性合金ターゲツト13
からCo系磁性層がスパツタ形成される。
まず例えば直径3.5インチの円板状アルミニウ
ム合金板上にNi−Pメツキを均一に厚さ約15μm
行ない、これに平面ポリツシユにより表面鏡面加
工を施したものをアルコール溶液で超音波洗浄、
フロン溶液の超音波洗浄、蒸気洗浄などを行なつ
た後、チヤンバー6内のトレー10にセツトす
る。次いでチヤンバー6内を排気口7から5×
10-7torrまで真空排気し、ヒータ11を用いて基
板1aを100℃に加熱保持しておき、バルブ9a
を開きArガス導入口8からArガスを流量60sccm
でチヤンバー6内に流入させ、バルブ9を調節し
てチヤンバー6内の圧力を5×10-2torrに設定す
る。Crターゲツト12と磁性合金ターゲツト1
3に印加するスパツタパワーは、例えばCr下地
層の膜厚が2000Å、磁性層の膜厚が500Åとなる
ように調節し、トレー10を矢印の方向に117
mm/minの速度で搬送することにより、基板1a
上にCr下地層とCo−30at%Ni−7.5at%Cr磁性層
がこの順に形成されるのである。
ム合金板上にNi−Pメツキを均一に厚さ約15μm
行ない、これに平面ポリツシユにより表面鏡面加
工を施したものをアルコール溶液で超音波洗浄、
フロン溶液の超音波洗浄、蒸気洗浄などを行なつ
た後、チヤンバー6内のトレー10にセツトす
る。次いでチヤンバー6内を排気口7から5×
10-7torrまで真空排気し、ヒータ11を用いて基
板1aを100℃に加熱保持しておき、バルブ9a
を開きArガス導入口8からArガスを流量60sccm
でチヤンバー6内に流入させ、バルブ9を調節し
てチヤンバー6内の圧力を5×10-2torrに設定す
る。Crターゲツト12と磁性合金ターゲツト1
3に印加するスパツタパワーは、例えばCr下地
層の膜厚が2000Å、磁性層の膜厚が500Åとなる
ように調節し、トレー10を矢印の方向に117
mm/minの速度で搬送することにより、基板1a
上にCr下地層とCo−30at%Ni−7.5at%Cr磁性層
がこの順に形成されるのである。
次に以上の過程と得られる磁気記録媒体に付与
される磁気特性の関係について述べる。磁気特性
は保磁力(Hc)、残留磁束密度(Br)と磁性層
の膜厚(δ)との積〔Br・δ〕、保磁力角形比
(S*)がバランスよく保たれ、Hc800(Oe)、
Br・δ400(G・μm)、S*0.85とするのが望
ましい。これら磁気特性を得るにはHcを高める
ことが優先的に留意され、Hcの増大に寄与する
のはCr下地層の膜厚であり、Cr下地層の膜厚を
厚くするとHcが増大する傾向がある。しかしCr
下地層の膜厚が大きくなるにつれてHcやS*の磁
気異方性が顕著になり、磁気デイスクの再生出力
のモジユレーシヨンが発生するようになるので
Cr下地層の膜厚は2000Å程度としている。Hcを
高めるための別の方法は上記の製造過程において
Arガス圧力がHcの値に効果的に作用するのでAr
ガス圧力を高くするのがよく、例えばArガス圧
力を5×10-2torrにすればHcは900Oe以上が得ら
れる。しかしながら、このとき他の磁気特性
Br・δやS*は低下し、媒体全体の磁気特性とし
て上述したような好いバランスを保つことができ
なくなることがわかつた。
される磁気特性の関係について述べる。磁気特性
は保磁力(Hc)、残留磁束密度(Br)と磁性層
の膜厚(δ)との積〔Br・δ〕、保磁力角形比
(S*)がバランスよく保たれ、Hc800(Oe)、
Br・δ400(G・μm)、S*0.85とするのが望
ましい。これら磁気特性を得るにはHcを高める
ことが優先的に留意され、Hcの増大に寄与する
のはCr下地層の膜厚であり、Cr下地層の膜厚を
厚くするとHcが増大する傾向がある。しかしCr
下地層の膜厚が大きくなるにつれてHcやS*の磁
気異方性が顕著になり、磁気デイスクの再生出力
のモジユレーシヨンが発生するようになるので
Cr下地層の膜厚は2000Å程度としている。Hcを
高めるための別の方法は上記の製造過程において
Arガス圧力がHcの値に効果的に作用するのでAr
ガス圧力を高くするのがよく、例えばArガス圧
力を5×10-2torrにすればHcは900Oe以上が得ら
れる。しかしながら、このとき他の磁気特性
Br・δやS*は低下し、媒体全体の磁気特性とし
て上述したような好いバランスを保つことができ
なくなることがわかつた。
したがつて、Cr下地層と磁性層を所定の膜厚
となるように連続スパツタを行なうとき、Arガ
ス圧を最適な条件とすることにより磁気特性をバ
ランスよく媒体に付与させることが必要となる。
となるように連続スパツタを行なうとき、Arガ
ス圧を最適な条件とすることにより磁気特性をバ
ランスよく媒体に付与させることが必要となる。
本発明は上述の点に鑑みてなされたものであ
り、その目的は磁気記録媒体を製造する際に、良
好な磁気特性を得るための最適Arガス圧の設定
値を提供することにある。
り、その目的は磁気記録媒体を製造する際に、良
好な磁気特性を得るための最適Arガス圧の設定
値を提供することにある。
本発明は、上述の目的を達成するため、基板を
トレーに取り付けて搬送可能なチヤンバー内に、
基板を昇温するためのヒータと、Crターゲツト
と、Co合金ターゲツトとを、基板の搬送方向に
順次設けたスパツタ装置を用いて磁気記録媒体を
製造する磁気記録媒体の製造方法において、前記
トレーに非磁性基板を取り付けて前記チヤンバー
内を真空排気し、前記ヒータにより当該磁性基板
を昇温する第1工程と、前記チヤンバー内にAr
ガスを導入してその圧力を1×10-3〜2×
10-2torrの範囲内の所定圧力に設定する第2工程
と、該所定圧力のArガス中で前記非磁性基板を
所定速度で搬送し、該搬送時に前記Crターゲツ
ト及びCo合金ターゲツトを連続的にスパツタリ
ングすることにより前記非磁性基板上にCr下地
層及びCo合金磁性層をこの順に積層形成する第
3工程とを備えることを特徴としている。
トレーに取り付けて搬送可能なチヤンバー内に、
基板を昇温するためのヒータと、Crターゲツト
と、Co合金ターゲツトとを、基板の搬送方向に
順次設けたスパツタ装置を用いて磁気記録媒体を
製造する磁気記録媒体の製造方法において、前記
トレーに非磁性基板を取り付けて前記チヤンバー
内を真空排気し、前記ヒータにより当該磁性基板
を昇温する第1工程と、前記チヤンバー内にAr
ガスを導入してその圧力を1×10-3〜2×
10-2torrの範囲内の所定圧力に設定する第2工程
と、該所定圧力のArガス中で前記非磁性基板を
所定速度で搬送し、該搬送時に前記Crターゲツ
ト及びCo合金ターゲツトを連続的にスパツタリ
ングすることにより前記非磁性基板上にCr下地
層及びCo合金磁性層をこの順に積層形成する第
3工程とを備えることを特徴としている。
以下本発明を実施例に基づき説明する。
本発明に用いられる装置は第3図に示したもの
と同様であるからその説明は省略する。ここでは
ターゲツトにCrおよびCo−30at%Ni−7.5at%Cr
合金を用い、第2図の構成を有する磁気記録媒体
を製造するものであることおよびその他の主な成
膜条件を前述と全く同様に設定しておき、Arガ
ス圧力のみを変化させ、Arガス圧力と得られた
媒体の磁気特性との対応を求め最適Arガス圧力
の範囲を定めるようにしたものである。
と同様であるからその説明は省略する。ここでは
ターゲツトにCrおよびCo−30at%Ni−7.5at%Cr
合金を用い、第2図の構成を有する磁気記録媒体
を製造するものであることおよびその他の主な成
膜条件を前述と全く同様に設定しておき、Arガ
ス圧力のみを変化させ、Arガス圧力と得られた
媒体の磁気特性との対応を求め最適Arガス圧力
の範囲を定めるようにしたものである。
本実施例はArガス圧力を1×10-3torrから5×
10-2torrの範囲に変化させたが、これは1×
10-3torr以下では安定した放電状態が得られず、
5×10-2torrは従来行なわれていたArガス圧力で
あり、その中間を採用したからである。
10-2torrの範囲に変化させたが、これは1×
10-3torr以下では安定した放電状態が得られず、
5×10-2torrは従来行なわれていたArガス圧力で
あり、その中間を採用したからである。
第1図は横軸をArガス圧力、縦軸を磁気特性
として両者の関係を表わした線図である。第1図
における三つの線図はそれぞれArガス圧力の変
化に対してHc、Br・δおよびS*の値をプロツト
したものである。この結果HcはArガス圧力の上
昇とともに増加し、Br・δとS*は低下するが、
これらの線図からHc800Oe、Br・δ400G・
μm、S*0.85に磁気特性を保持するための良好
な放電状態におけるArガス圧力は1×10-3torrか
ら2×10-2torrの範囲にあることがわかる。また
この範囲のArガス圧力は下地層と磁性層と連続
形成に同一条件で適用することができるから、磁
気記録媒体の量産性にも寄与している。
として両者の関係を表わした線図である。第1図
における三つの線図はそれぞれArガス圧力の変
化に対してHc、Br・δおよびS*の値をプロツト
したものである。この結果HcはArガス圧力の上
昇とともに増加し、Br・δとS*は低下するが、
これらの線図からHc800Oe、Br・δ400G・
μm、S*0.85に磁気特性を保持するための良好
な放電状態におけるArガス圧力は1×10-3torrか
ら2×10-2torrの範囲にあることがわかる。また
この範囲のArガス圧力は下地層と磁性層と連続
形成に同一条件で適用することができるから、磁
気記録媒体の量産性にも寄与している。
以上のような本発明によれば、チヤンバー内を
真空排気してヒータにより非磁性基板を昇温した
後、非磁性基板を所定速度で搬送し、この搬送時
にCrターゲツト及びCo合金ターゲツトを連続的
にスパツタリングすることにより非磁性基板上に
Cr下地層及びCo合金磁性層をこの順に積層形成
するときのArガス圧力を1×10-3〜20-2torrの範
囲内の所定圧力に設定するようにし、基板を搬送
しながらスパツタリングするようにしたので、磁
気記録媒体を量産するのに好適であり、しかも、
本発明により製造する磁気記録媒体に、その磁気
特性のHc、Br・δ及びS*をバランス良くもたせ
ることができる。
真空排気してヒータにより非磁性基板を昇温した
後、非磁性基板を所定速度で搬送し、この搬送時
にCrターゲツト及びCo合金ターゲツトを連続的
にスパツタリングすることにより非磁性基板上に
Cr下地層及びCo合金磁性層をこの順に積層形成
するときのArガス圧力を1×10-3〜20-2torrの範
囲内の所定圧力に設定するようにし、基板を搬送
しながらスパツタリングするようにしたので、磁
気記録媒体を量産するのに好適であり、しかも、
本発明により製造する磁気記録媒体に、その磁気
特性のHc、Br・δ及びS*をバランス良くもたせ
ることができる。
第1図はArガス圧力と媒体の磁気特性との関
係線図、第2図は磁気記録媒体の構成断面図、第
3図はスパツタチヤンバーの模型断面図である。 11a……基板、3……下地層、4……磁性
層、6……チヤンバー、10……トレー、12…
…Crターゲツト、13……磁性合金ターゲツト。
係線図、第2図は磁気記録媒体の構成断面図、第
3図はスパツタチヤンバーの模型断面図である。 11a……基板、3……下地層、4……磁性
層、6……チヤンバー、10……トレー、12…
…Crターゲツト、13……磁性合金ターゲツト。
Claims (1)
- 1 基板をトレーに取り付けて搬送可能なチヤン
バー内に、基板を昇温するためのヒータと、Cr
ターゲツトと、Co合金ターゲツトとを、基板の
搬送方向に順次設けたスパツタ装置を用いて磁気
記録媒体を製造する磁気記録媒体の製造方法にお
いて、前記トレーに非磁性基板を取り付けて前記
チヤンバー内を真空排気し、前記ヒータにより当
該磁性基板を昇温する第1工程と、前記チヤンバ
ー内にArガスを導入してその圧力を1×10-3〜
2×10-2torrの範囲内の所定圧力に設定する第2
工程と、該所定圧力のArガス中で前記非磁性基
板を所定速度で搬送し、該搬送時に前記Crター
ゲツト及びCo合金ターゲツトを連続的にスパツ
タリングすることにより前記非磁性基板上にCr
下地層及びCo合金磁性層をこの順に積層形成す
る第3工程とを備えることをことを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22560386A JPS6379233A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22560386A JPS6379233A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6379233A JPS6379233A (ja) | 1988-04-09 |
JPH0554173B2 true JPH0554173B2 (ja) | 1993-08-11 |
Family
ID=16831913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22560386A Granted JPS6379233A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6379233A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR970002340B1 (ko) * | 1988-07-15 | 1997-03-03 | 미쓰비시 가세이 가부시끼가이샤 | 자기 기록 매체의 제조방법 |
JP2697227B2 (ja) * | 1989-10-20 | 1998-01-14 | 富士電機株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61202324A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-08 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-09-24 JP JP22560386A patent/JPS6379233A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61202324A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-08 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6379233A (ja) | 1988-04-09 |
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