JPH0550735B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0550735B2
JPH0550735B2 JP59202895A JP20289584A JPH0550735B2 JP H0550735 B2 JPH0550735 B2 JP H0550735B2 JP 59202895 A JP59202895 A JP 59202895A JP 20289584 A JP20289584 A JP 20289584A JP H0550735 B2 JPH0550735 B2 JP H0550735B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sulfopolyester
arylene
photosensitive
groups
adduct
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59202895A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6097350A (ja
Inventor
Josefu Rorentsu Uiriamu
Keisu Raason Uein
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Co
Original Assignee
Minnesota Mining and Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minnesota Mining and Manufacturing Co filed Critical Minnesota Mining and Manufacturing Co
Publication of JPS6097350A publication Critical patent/JPS6097350A/ja
Publication of JPH0550735B2 publication Critical patent/JPH0550735B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
発明の分野 本発明は輻射線に感ずる組成物、およびその組
成物の被膜を有する基体からなり水性溶剤で現像
できる感光性製品、好ましくは平版プレート作成
可能な製品に関する。特に、本発明はジアゾニウ
ム樹脂とスルホ基を複数有する低分子量重合体と
の輻射線感受性重合体付加物、およびその重合体
付加物の被膜を有する製品に関する。 先行技術 ジアゾニウム化合物は周知であり、そしてネガ
作用の光平版印刷プレートに感光性を付与するた
めに広く使用されている。露光時にジアゾニウム
塩の光化学分解によつて、非露光領域に比らべて
露光領域が選択的に不溶性になるように架橋、不
溶性、増大した付着性等のような物理的・化学的
変化を生ずる。 最も普通に利用されているジアゾニウム化合物
は米国特許第2714066号に記載されているもの
(それは活性カルボニル化合物とジアゾニウム化
合物との縮合反応によつて合成される)のような
ジアゾニウム樹脂である。 ジアゾニウム樹脂は多数の特許に開示されてお
り、米国特許第2714066号におけるように単独で
被覆されているか;米国特許第3136637号に開示
されているように樹脂状層でオーバーコートされ
ているか;米国特許第3905815号に開示されてい
るように光重合体でオーバーコートされている
か;または米国特許第3660097号に開示されてい
るように他の樹脂状物質と組合わせて含有されて
いる。 ジアゾニウム樹脂の性質の変動は、その溶解性
並びに耐湿性即ち貯蔵寿命の変動が記載されてい
る米国特許第3790556号に開示されているような
種々の蔭イオンを用いることによつて達成されて
いる。また、簡単な単分子ジアゾニウム塩は米国
特許に開示されているように、他の樹脂との組合
わせで、ポジオリジナルからポジ印刷プレートを
作製するために、高分子量のスルホン化フエノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂と反応させられてい
る。 ジアゾニウム樹脂を利用した感光性製品の一普
遍的性質は化学的現像または処理後にこれ等樹脂
が非像領域に残る又は付着する傾向を有すること
である。平版プレートが必要な最終目的物である
場合には、この少量の非除去樹脂によつて背景部
領域にインク付着および汚れを生ずることがあ
る。非像領域にジアゾニウム樹脂が保留される理
由は基体への物理的付着、不溶性画分、副次的な
分解生成物、または多分それ等の組合わせによる
と考えられる。この特異な問題は未露光ジアゾニ
ウム樹脂物質の完全除去を助ける減感剤と呼ばれ
ている特殊な化学物質を現像剤中に使用すること
によつて典型的に解決することができる。例え
ば、米国特許第3905815号、第3891438号、第
3891439号および第3669660号は上記問題点に対す
る解決を開示している。 この、印刷時に平版プレートの背景部にインク
が付着して汚れる問題は米国特許第4401743号に
開示されているように、懸垂ジアゾニウム部位を
複数有するジアゾニウム樹脂とスルホ基を複数有
する重合体との輻射線感受性付加物の使用によつ
て実質的に解消されている。かかるポリイオン種
の組合わせは印刷プレート用には適さない完全不
溶性のイオン架橋素材を生ずるものと予想されて
いたがそうではなかつた。この組合わせは、予め
感光性付与された印刷プレート用の可溶性で大い
に有効な材料をもたらした。 しかしながら、この付加物の使用をもつてさ
え、その付加物の被覆に際して使用される高沸点
の極性溶剤を除去することが難しいこと及び被覆
されたプレートが互いに密接して置かれたときに
ブロツキングしそして湿気環境下で貯蔵された後
のプレスで像領域を失う傾向があることから、や
はり平版プレート作製には問題が残る。 本願で開示される組成物を用いて印刷プレート
を作製するには、広くさまざまの簡単な現像剤お
よび手法、例えば水または水/アルコール、簡単
なマシンプロセツサー、および場合によつてはオ
ンプレスプロセツシングを使用することができ
る。印刷プレートを作製する際に使用される現像
剤が簡単であると云うことは減感剤や従来の不快
な又は汚染性の現像剤を必要としないので環境上
望ましい。 発明の概要 本発明によれば、(1)懸垂(pendant)ジアゾニ
ウム基を複数有する水溶性ジアゾニウム樹脂と(2)
スルホ基を複数有する低分子量非晶性スルホポリ
エステルとの低沸点で溶剤可溶性で感光性の重合
体付加物が提供される。また、その付加物の被膜
を担持する基体からなる感光性製品が提供され
る。 発明の詳細 本発明に使用するために適する典型的なジアゾ
ニウム樹脂は米国特許第2714066号に記載されて
おり、好ましい樹脂はパラホルムアルデヒドとp
−フエニルアミノジアゾニウム塩との縮合生成物
の塩である。ジアゾニウム樹脂と組合わされる蔭
イオンは使用される反応体および被覆用溶剤に対
しての溶解特性を除いて特に重要でない。 スルホ基を複数有する典型的な非晶性スルホポ
リエステルは本譲受人の共願中の出願(代理人包
袋番号33364)中に記載され、参考として本明細
書中に記載されている。これ等スルホポリエステ
ルは式 式 の反復単位、および、任意に、式 式 の単位30重量%以下、をもつて好ましい重量平均
分子量約8000〜約50000を有する非晶性ポリエス
テルである: 式中、 R1は基R2、R3およびR4から選択された2価の
有機基1個以上であり、 R3は6〜14個の炭素原子を有するオルト−お
よびペリ−アリーレン基であり、 R4は6〜14個の炭素原子を有するメタ−およ
びパラ−アリーレン基であり、そして R2とR5は同一であつても異なつていてもよく、
2〜5個の炭素原子と任意に1〜4個のカテナリ
ー酸素原子(その酸素原子2個は結合し合つてい
ることはない又は同一炭素原子に結合していな
い)を有する直鎖もしくは枝分れ鎖または4〜6
個の炭素原子もしくは3〜6個の炭素原子と1個
の酸素原子を有する環である2価の脂肪族基であ
る; 但し、R3のモル%はR1とR5との総モルの少な
くとも約35%であること及び(R1+R2+R5)の
100モル当り1〜15モルの結合−SO3M基(Mは
陽イオンである)が存在することを条件とする。 本発明の感光性付加物に使用するために好まし
いスルホポリエステルは下記式を有する: 式 式中、 R3は上記定義通りであり、 R6は2〜6個の炭素原子を有する直鎖アルキ
レン基であり、 R7は5−スルホ−m−フエニレン基であり、 aは0.1また2であり、 bは約0〜約15の整数であり、 b対cの比は約10対約15〜1であり、そして Mはアルカリ金属である。 非晶性スルホポリエステルは三酸化アンチモン
のような酸触媒の存在下で、必要ならば熱と圧力
を利用して、ジカルボン酸(またはそのジエステ
ル、酸無水物等)をグリコールおよび任意にヒド
ロキシ脂肪族カルボン酸と反応させることによつ
て製造される。通常、過剰のグリコールが使用さ
れ、次いで重合後の工程で通常の手法で除去され
る。望むならば、ポリエステルを酸化から保護す
るためにヒンダードフエノール酸化防止剤を反応
混合物に添加してもよい。 この非晶性スルホポリエステルはジアゾニウム
樹脂のジアゾニウム基と複分解反応して重合体塩
(本願では「付加物」と呼ばれており、正および
負どちらのイオンも重合体である)を生成するス
ルホ基含有成分を提供し、その重合体は驚くべき
ことには多数の低沸点溶剤に可溶性であり、そし
て望ましい物理的性質、例えば、可焼性、耐摩耗
性、水性溶剤溶解性または分散性、および疎水性
即ち耐湿性のような平版プレート用の望ましい物
理的性質を有する。 その輻射線感受性重合体付加物は水またはアル
コール水中のジアゾニウム樹脂(好ましくは約1
〜約10重量%)の溶液を水またはアルコール水中
のスルホポリエステル(好ましくは約1〜約10重
量%)の溶液と混合することによつて製造するこ
とができ、その重合体付加物は微粒状固体として
沈殿し、その固体はろ過され、反対イオンを除去
するために水洗され、そして乾燥されることがで
きる。一般に、溶液は約0.2〜約2.0個のジアゾニ
ウム基好ましくは0.9〜1.7個のジアゾニウム基当
り1個のスルホ基が存在するように調製される。
一般に、重合体付加物が光平版プレートの作製に
使用されるべきものである場合には、ジアゾニウ
ム樹脂の増大した当量を用いると、得られる印刷
プレートの減感能が減少する。 スルホポリエステルはポリマーの分子量約500
〜約8000(好ましい範囲は分子量約1500〜約3000)
当り1個のスルホ基を有すべきである。 予め感光性付与された平版プレートは適する溶
剤中の輻射線感受性重合体付加物の溶液を適する
基体上に被覆し溶剤を除去して乾燥被覆量約0.5
〜約2.0g/m2、好ましくは0.7〜1.5g/m2をもた
らすことによつて製造することができる。約0.7
g/m2未満の被覆量は短いプレート寿命をもたら
すことがあり、また、約2.0g/m2まで増大した
被覆量をさらに増大せしめてもプレート寿命は認
め得る程増加しない。 プレート基体が「低エネルギー基体」と称する
もの例えば平滑なアルミニウムである場合には、
最も好ましい被覆量は約0.8〜約1.0g/m2であ
り、そしてプレート基体が「高エネルギー基体」
からなる例えば粗面の陽極酸化されたアルミニウ
ムである場合には、最も好ましい被覆量は約1.1
〜約1.3g/m2である。 大気圧で約40℃〜約100℃の沸点を有する低沸
点溶剤が有用であり、その例はジクロロメタン、
1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリクロ
ロエタン、およびシクロヘキサノン等である。あ
まり望ましくない溶剤はジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドンおよびベンジルアルコール
のような高沸点極性溶剤である。 輻射線感受性溶液を被覆されて予め感光性付与
された感光性製品を提供することができる基体は
シート材料例えばペーパー、プラスチツク、また
は金属、等々であり、好ましくは平版プレートの
製造に通常使用されている恒久的に親水性のもの
である。まず洗浄されそして恒久的に親水性にな
るように処理されたアルミニウムは平版構成用の
好ましい基体である。周知の処理方法はシリケー
ト化、電解陽極酸化、機械的粗面化、それ等の組
合わせ、等々である。耐久性のある親水性背景部
をもたらす他に、その処理は被膜の性能特性、例
えば露光時間、現像容易性、像付付着性、印刷寿
命等々に影響することもある。 本発明によつて融通性のあるそして多様な感光
性被覆性組成物を製造できるので、最適性能を達
成するようにベースと被膜の好ましい組合わせを
選択する又は達成することが可能になる。 重合体付加物の輻射線感受性溶液は被膜の物理
的性質を改質する又は改善するために熱可塑性重
合体のような改質添加剤を含有することもでき
る。例えば、現像剤溶解性、耐摩耗性、インク反
撥性、印刷寿命等のような性質は約30重量%以下
の量の熱可塑性重合体の添加によつて左右される
ことが可能である。適する重合体はスルホポリエ
ステル、その他のスルホン化ポリマー、例えば、
なかでもスルホン化ポリウレタン、ポリエステ
ル、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、ナイ
ロン、塩化ビニリデン共重合体、ポリビニルエス
テル、ポリアクリレート、α−アルキルポリアク
リレート、ポリ塩化ビニル例えばユニオンカーバ
イドから「VYHH 」として市販されている86
%/14%塩ビ酢ビ共重合体、ポリビニルアセター
ル、およびポリビニルアルコール、等々である。
配合物を改善するために添加される樹脂の量およ
びタイプは変えるべき具体的性質によつて左右さ
れるが、それは実験的に求めることができる。 基本的な予め感光性付与された製品は製造管理
を容易にするため及び生成物の外観のため並びに
その製品の使用にあたつて配置、現像等に関する
助けとするために顔料または染料が典型的に配合
されている。「ミクロリス」シリーズ(チバガイ
ギーから市販されている、ビニル樹脂中に予め分
散された顔料の商標)のような予め分散された顔
料は被膜の約5〜20重量%で有効である。「モナ
ストラルブルー」や「ミクロリスパープル」(チ
バガイギーから市販されている)のような顔料も
また、標準的な微粉砕分散技術を用いて同じよう
な一般濃度範囲で使用することが可能である。ま
た、トリフエニルメタン染料例えばデユポンから
市販されている「ビクトリアブルーBO」、のよ
うな染料も着色剤として、好ましくは被膜の約
0.5〜約5重量%で有効である。 また、化学線に露出したときに可視像をもたら
す染料を配合物に添加して露光済製品を現像前に
可視化するようにしてもよい。通常の周知ロイコ
染料と酸−塩基染料の焼出しシステムを利用でき
る。典型的な材料は4−(フエニルアゾ)ジフエ
ニルアミンであり、それは被膜の約1〜2重量%
で使用できる。 また、改善された尖鋭度を有する印刷コピーを
提供する印刷プレートをもたらすために感光性重
合体付加物の溶液中に有機溶剤可溶性ジアゾニウ
ム塩を添加することも可能である。付加物の重量
に対して約5重量%以下の有機溶剤可溶性ジアゾ
ニウム塩が有効に使用できる。かかる可溶性塩の
例は4−トルエンジアゾニウムトルエンスルホネ
ートやホルムアルデヒドと4−フエニルアミノベ
ンゼンジアゾニウムトリイソプロピルナフタレン
スルホネート(TINS)との縮合生成物のような
ジアゾニウム塩の有機スルホネート塩である。 加えて、像領域と非像領域との間の溶解度の差
を増大せしめるために配合物に光重合性成分を添
加してもよい。光の作用下で重合することができ
る不飽和多官能性モノマーまたはオリゴマー化合
物はアクリルエステル、アクリルアミド等であ
り、全固形分の重量の約30重量%までの濃度で使
用することができる。 好ましくは、光開始剤が被膜の約1〜5重量%
で光重合体配合物中に包含されている。好ましい
光開始剤は米国特許第3987037号に開示されてい
る発色団置換ビニルハロメチル−s−トリアジン
等である。 輻射線感受性溶液は酢酸セルロース、部分加水
分解ポリビニルアルコール、または水性溶剤可溶
性重合体ジアゾニウム化合物例えば米国特許第
2714066号に記載されているようなp−アゾジフ
エニルアミンのアルデヒド縮合生成物の塩化物ま
たは塩化亜鉛複塩、のような下引き化合物の薄層
(即ち0.5〜15mg/m2)によつて下塗されている基
体上に被覆されることが好ましい。最後の下引き
化合物を用いると、過剰のスルホン化ポリマーを
使用することが可能であり、その場合スルホポリ
エステルはジアゾニウム層と結合するので現像剤
中に減感剤を添加する必要なく背景部の減感をも
たらす。改善された耐湿性も認められた。 露光済み組成物を現像するために有効な現像剤
は水溶性有機溶剤の水性溶液および、任意に緩衝
剤、減感剤、界面活性剤、安定剤およびガムを包
含する。現像剤中に使用するための典型的な水溶
性有機溶剤はエタノール、1−プロパノール、2
−プロパノール、ベンジルアルコール、および2
−メトキシエタノール等であり、選択されたアル
コールおよびその溶解力に応じて約2〜約40重量
%の濃度で使用することができる。例えば、1−
プロパノールまたは2−プロパノールの濃度は20
〜40重量%が好ましく、ベンジルアルコールの場
合には約2〜約5重量%である。使用化能なその
他の水混和性溶剤はエチレングリコールジアセテ
ートおよび−ブチロラクトン等である。 アルコール/水溶液に蔭イオン界面活性剤また
は減感塩を添加すると最も有効な現像剤システム
を生ずる。 典型的な蔭イオン界面活性剤は有機スルホン酸
塩および硫酸塩例えばドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム、スルホイソフタル酸ジメチルナト
リウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スルホコハク
酸ジオクチルナトリウム、ナフタレンスルホン酸
ナトリウムアルキル等々である。 典型的な減感塩は亜硫酸アンモニウム、亜硫酸
ナトリウム、等々である。界面活性剤または減感
塩は現像剤溶液の約0.5〜10重量%、好ましくは
約0.5〜2.0重量%の濃度で使用することができ
る。 次に、本発明を下記の非限定的な実施例によつ
てより具体的に記述するが、その中で部は別に特
定されない限り重量である。 下記に記載されるスルホポリエステル「A」〜
「L」はスルホポリエステルの代表的なものであ
り、それ等は全て式の範囲内に包含され、それ
は本発明の輻射線感受性重合体塩または付加物を
生成するために使用されてもよい。 スルホポリエステル「A」 撹拌機、温度計、還流カラム、およびフラスコ
の内容物の上に窒素の雰囲気を維持するための手
段を装備した500mlの3口フラスコ中に無水フタ
ル酸136.2g(0.92モル)、5−スルホイソフタル
酸モノナトリウム塩21.1g(0.08モル)、エチレ
ングリコール124g(2.0モル)、三塩化アンチモ
ン8.4g、および酢酸ナトリウム1.09gを入れた。
撹拌しながら、混合物を193℃に加熱し、そして
この温度に4時間保つた。それから還流カラムを
真空蒸留ヘツドで置き換え、真空ラインを取付
け、0.5時間かけて圧力は1.0トル未満に低下し、
そして反応体の温度は250℃に増大した。これ等
条件を2.5時間保つた後に、反応生成物スルホポ
リエステルはオルト位炭素原子上にカルボニル基
を有する成分46モル%(ジカルボン酸全体100モ
ル当りo−ジカルボン酸92モル)を含有する蜂蜜
状樹脂として激しく反応フラスコから放出され
た。そのスルホポリエステルはスルホ当量2500、
ジメチルホルムアルデヒド中での固有粘度0.17、
ガラス転移温度Tg50℃、および(光散乱法によ
つて測定された)分子量約20000を有していた。
結晶化の証拠は100℃で48時間アニールされたサ
ンプルにおける示差走査熱量によつては認められ
なかつた。 スルホポリエステル「B〜M」 第1表に示された反応体および量を用いて製法
Aの手順によつてその他の非晶性スルホポリエス
テルを製造した。得られた各スルホポリエステル
のスルホ当量および分子量も併わせて示されてい
る。得られた重合体は1,2−ジクロロエタン中
に容易に溶解可能であり、そして結晶化を示さな
かつた。
【表】
【表】 実施例 1 非晶性スルホポリエステル「A」5g(スルホ
基を2ミリ当量含有する)を水に溶解しそして
1.0%固形分に希釈した。その溶液を10℃に冷却
し、そしてp−ジアゾジフエニルアミンのホルム
アルデヒド縮合生成物の塩化亜鉛複塩(「F−4
−D」で表わす)の1%水溶液64ml(2.0ミリ当
量)に撹拌しながら滴加した。淡褐色の微細固体
沈殿物が直ちに得られ、それをろ過し、水洗しそ
して乾燥した。その沈殿物は後の使用のために貯
蔵することができるか又は直ちに溶解して被覆す
ることができた。 ジアゾニウム樹脂と非晶性スルホポリエステル
「B〜M」の感光性付加物を同じような方法で製
造した。 実施例 2 混合によつて被覆性溶液を調製した。 重量部 スルホポリエステル「Aと「F−4−D」ジアゾ
ニウム樹脂との1:1当量の付加物 1.0 ビクトリアブルー染料(デユポン) 0.2 1,2−ジクロロエタン 19.0 この溶液をシリケート化アルミニウムホイル−
ペーパー積層体上に約1.08g/m2(100mg/ft2
で被覆して予め感光性付与されたプレートを製造
した。このプレートはステンシルを介して紫外線
に露出され、そしてベンジルアルコール3.5重量
%、亜硫酸アンモニウム2.0重量%およびナフタ
レンスルホン酸ナトリウム2.0重量%を含有する
水で現像され、「AM1250」印刷機(アドレソグ
ラフ・マルチグラフから市販されている)に装架
され、濃密な像領域およびきれいな汚れていない
背景部を有するコピーを1000コピー以上与えた。
さらに、そのプレートは湿つた雰囲気(95%相対
湿度)中に2週間貯蔵された後でも濃い像で且つ
汚れのないプリントを与えた。 実施例 3 スルホポリエステル「A」5.0gと「F−D−
4」ジアゾニウム樹脂1.56gとから実施例1の手
順によつて得られた付加物(従つてその付加物は
スルホ基1.0当量当りジアゾニウム基0.5当量を有
する)1.0重量部を用いて実施例2の手順を繰り
返した。得られた平版プレートは濃い像領域およ
びきれいな汚れていない背景部を有するコピーを
500コピー以上与え、そしてそのプレートは相対
湿度95%の雰囲気下で2週間貯蔵された後でも劣
化しなかつた。 実施例 4 実施例1に記載されているようにスルホポリエ
ステル「B」1.7g(1.0ミリ当量)と「F−4−
D」ジアゾ樹脂1.09g(0.35ミリ当量)から輻射
線感受性付加物を製造した。得られた付加物は
1,2−ジクロロエタン、ジクロロメタンおよび
ジクロヘキサノン中に容易に溶解し得る粒状粉末
であつた。 1,2−ジクロロエタン中の5.0重量%溶液を
調製し、それを平滑なシリケート化アルミニウム
上に被覆して乾燥被覆量0.8g/m2(75g/ft2
にした。これ等予め感光性付与されたプレートは
高湿度下でブロツキングすることなく2週間以上
堆積することができた。像露光後、そのプレート
はドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム2.0重
量%を含有するベンジルアルコールの3.2%水溶
液で現像されてきれいな汚れていない背景部領域
を有するプレートを提供した。それから、そのプ
レートは95%相対湿度で長期間貯蔵することがで
き、そのプレートはそれでも尚早期損壊すること
無くコピーを作成するために使用された。 実施例 5 約0.1g/m2(10mg/ft2)の被覆量の「F−4
−D」ジアゾニウム樹脂で予め感光性付与されて
いるシリケート化アルミニウムの上に実施例3に
記載されているように調製された被覆性溶液を被
覆した。得られたこの予め感光性付与されたプレ
ートはブロツキングすること無く長期間堆積する
ことができた。 実施例 6 スルホポリエステル「A」8.0g、「フタロシア
ニンブルー」8.0g、および1,2−ジクロロエ
タン100gの混合物を、顔料が微細に分散される
まで、ボールミル処理することによつて被覆性溶
液を調製した。その分散物を1,2−ジクロロエ
タン300gで希釈してから、実施例1に記載され
ているようなスルホポリエステル「A」12.0gと
ジアゾ樹脂1.5gとから得られた洗浄済み重合体
付加物(スルホ1.0当量に対してジアゾ0.6頭領の
比を与える)およびホルムアルデヒドと4−フエ
ニルアミノベンゼンジアゾニウムトリイソプロピ
ルナフタレンスルホネート(TINS)との縮合生
成物0.75gを上記分散物に添加した。約0.1g/
m2の被覆量の「F−4−D」ジアゾニウム樹脂で
予め下引きされているシリケート化アルミニウム
の上に上記溶液を被覆した。得られたこの予め感
光性付与されたプレートはロール形態で長期間ブ
ロツキングすることなく貯蔵することができた。
そのプレートを露光しそして水性現像剤で現像し
たところ、相対湿度95%で2週間貯蔵した後でさ
え鮮鋭な像を与えるプレートが得られた。 実施例 7 使用された重合体付加物はスルホポリエステル
「A」の代りにスルホポリエステル「D」から製
造されたこと及び被覆性溶液は実施例6に記載さ
れているように「F−4−D」ジアゾニウムで下
引きされているシリケート化アルミニウム上に被
覆されたことを除いて実施例2に記載されている
ようにして印刷プレートを製造した。得られたこ
の予め感光性付与されたプレートはブロツキング
することなく長期間堆積することができた。露光
現像後に得られた印刷プレートは湿つた温度下で
少なくとも2週間貯蔵することができ、それでも
尚濃い像の汚れていないプリントを提供すること
ができた。 実施例 8〜16 スルホポリエステル「D」の代りにスルホポリ
エステル「E」〜「M」を使用して実施例7を繰
り返したときにも、実施例7で得られた結果と同
じような結果が達成された。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 懸垂ジアゾニウム基を複数有するジアゾ樹脂
    とスルホ基を複数有する非晶性スルホポリエステ
    ルとの組合せからなり、該スルホポリエステルが
    少なくとも1種のカルボン酸(その少なくとも約
    35モル%はオルト−アリーレンカルボン酸および
    ペリ−アリーレンカルボン酸から選択され、その
    アリーレン基は炭素原子6個〜14個を有する)か
    ら誘導されている、感光性付加物。 2 スルホポリエステルが分子量約500〜約8000
    当り1個のスルホ基を有する、特許請求の範囲第
    1項に記載の付加物。 3 分子量が約1500〜約3000である、特許請求の
    範囲第2項に記載の付加物。 4 スルホポリエステルが少なくとも1種の有機
    ジオールと少なくとも1種のカルボン酸(該カル
    ボン酸の少なくとも約35モル%はオルト−アリー
    レンカルボン酸およびペリ−アリーレンカルボン
    酸からなる群から選択され、そのアリーレン基は
    炭素原子6個〜14個を有する)とのエステル化生
    成物からなる、特許請求の範囲第1項に記載の付
    加物。 5 スルホポリエステルがジオールとカルボン酸
    との総モルに対して約1.0〜約15モル%のスルホ
    基を有する、特許請求の範囲第4項に記載の付加
    物。 6 懸垂ジアゾニウム基を複数有するジアゾ樹脂
    とスルホ基を複数有する非晶性スルホポリエステ
    ル〔該スルホポリエステルは少なくとも1種のカ
    ルボン酸(その少なくとも約35モル%はオルト−
    アリーレンカルボン酸およびペリ−アリーレンカ
    ルボン酸から選択され、そのアリーレン基は炭素
    原子6個〜14個を有する)から誘導されている〕
    との組合せからなる付加物からなる感光性被膜で
    一表面が被覆されている基体からなる予め感光性
    付与された感光性製品。 7 スルホポリエステルがスルホポリエステルの
    分子量約500〜約8000当り1個のスルホ基を有す
    る、特許請求の範囲第6項に記載の感光性製品。 8 分子量が約1500〜約3000である、特許請求の
    範囲第7項に記載の感光性製品。 9 スルホポリエステルが少なくとも1種の有機
    ジオールと少なくとも1種のカルボン酸(該カル
    ボン酸の少なくとも約35モル%はオルト−アリー
    レンカルボン酸およびペリ−アリーレンカルボン
    酸からなる群から選択され、そのアリーレン基は
    炭素原子6個〜14個を有する)とのエステル化生
    成物からなる、特許請求の範囲第6項に記載の感
    光性製品。 10 スルホポリエステルがジオールとカルボン
    酸との総モルに対して約1.0〜約15モル%のスル
    ホ基を有する、特許請求の範囲第9項に記載の感
    光性製品。 11 被膜がさらに顔料を分散含有している、特
    許請求の範囲第6項に記載の感光性製品。 12 被膜がさらにジアゾニウム塩を含有してい
    る、特許請求の範囲第6項に記載の感光性製品。 13 ジアゾニウム塩がホルムアルデヒドと4−
    フエニルアミノベンゼンジアゾニウムトリイソプ
    ロピルナフタレンスルホネートとの縮合生成物で
    ある、特許請求の範囲第12項に記載の感光性製
    品。 14 被膜がさらに光重合性成分を含有してい
    る、特許請求の範囲第6項に記載の感光性製品。 15 被膜と基体の間に下引き層が介在する、特
    許請求の範囲第6項に記載の感光性製品。 16 下引き層が水性溶剤可溶性の重合体ジアゾ
    ニウム化合物からなる、特許請求の範囲第15項
    に記載の感光性製品。 17 基体上に疎水性像領域と親水性背景部領域
    を有する平版印刷プレートであり、該疎水性像領
    域が化学線に暴露された付加物からなり、該付加
    物が懸垂ジアゾニウム基を複数有するジアゾ樹脂
    とスルホ基を複数有する非晶性スルホポリエステ
    ルとの組合せからなり、該スルホポリエステルが
    少なくとも1種のカルボン酸(その少なくとも約
    35モル%はオルト−アリーレンカルボン酸および
    ペリ−アリーレンカルボン酸から選択され、その
    アリーレン基は炭素原子6個〜14個を有する)か
    ら誘導されている、印刷プレート。 18 スルホポリエステルがスルホポリエステル
    の分子量約500〜約8000当り1個のスルホ基を有
    する、特許請求の範囲第17項に記載の印刷プレ
    ート。 19 分子量が約1500〜約3000である、特許請求
    の範囲第18項に記載のプレート。
JP59202895A 1983-09-30 1984-09-27 貯蔵安定性の感光性組成物 Granted JPS6097350A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US537828 1983-09-30
US06/537,828 US4543315A (en) 1983-09-30 1983-09-30 Storage-stable photosensitive composition and article with adduct of diazo resin and amorphous sulfopolyester

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6097350A JPS6097350A (ja) 1985-05-31
JPH0550735B2 true JPH0550735B2 (ja) 1993-07-29

Family

ID=24144276

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59202895A Granted JPS6097350A (ja) 1983-09-30 1984-09-27 貯蔵安定性の感光性組成物

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4543315A (ja)
EP (1) EP0136903B1 (ja)
JP (1) JPS6097350A (ja)
BR (1) BR8404852A (ja)
CA (1) CA1222245A (ja)
DE (1) DE3486283T2 (ja)
MX (1) MX158061A (ja)
ZA (1) ZA846973B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5240780A (en) * 1988-02-08 1993-08-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Colored salts of polymeric sulfonate polyanions and dye cations, and light-absorbing coatings made therewith
DE4037518C2 (de) * 1989-11-27 1998-12-17 Toyo Boseki Polymerteilchen, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung derselben
CA2039668A1 (en) * 1990-06-20 1991-12-21 Steven T. Hedrick Photosensitive composition and printing plate
US5527655A (en) * 1994-09-28 1996-06-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiation-sensitive adducts comprising diazonium cations, quaternary cations, and sulfonated polyester anions
US5846685A (en) * 1997-01-31 1998-12-08 Kodak Polychrome Graphics, Llc Radiation sensitive diazo sulfo-acrylic adducts and method for producing a printing plate
US11602412B2 (en) 2016-12-23 2023-03-14 3M Innovative Properties Company Printable compositions including polymeric and polymerizable components, articles, and methods of making articles therefrom

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3679419A (en) * 1969-05-20 1972-07-25 Azoplate Corp Light-sensitive diazo condensate containing reproduction material
US3779993A (en) * 1970-02-27 1973-12-18 Eastman Kodak Co Polyesters and polyesteramides containing ether groups and sulfonate groups in the form of a metallic salt
DE2508472C3 (de) * 1975-02-27 1980-08-28 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zum gleichmäßigen Färben von Fasermaterialien aus linearen Polyestern
US4052368A (en) * 1976-06-21 1977-10-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Water-dispellable hot melt polyester adhesives
US4300580A (en) * 1977-01-07 1981-11-17 Eastman Kodak Company Hair grooming method using linear polyesters
GB1600350A (en) * 1978-05-31 1981-10-14 Vickrs Ltd Radiation sensitive materials
US4304901A (en) * 1980-04-28 1981-12-08 Eastman Kodak Company Water dissipatable polyesters
US4401743A (en) * 1980-04-30 1983-08-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous developable photosensitive composition and printing plate
CA1153611A (en) * 1980-04-30 1983-09-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous developable photosensitive composition and printing plate
US4480085A (en) * 1983-09-30 1984-10-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Amorphous sulfopolyesters

Also Published As

Publication number Publication date
BR8404852A (pt) 1985-08-13
EP0136903A3 (en) 1987-01-14
CA1222245A (en) 1987-05-26
MX158061A (es) 1988-12-29
US4543315A (en) 1985-09-24
DE3486283D1 (de) 1994-04-07
EP0136903A2 (en) 1985-04-10
DE3486283T2 (de) 1994-09-29
ZA846973B (en) 1986-04-30
EP0136903B1 (en) 1994-03-02
JPS6097350A (ja) 1985-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4631245A (en) Photosensitive composition admixture of a diazonium salt polycondensation product and polymeric binder with carboxyl side chain groups
CA1175703A (en) Image-forming compositions and elements containing ionic polyester dispersing agents
CA1172492A (en) Process for the production of lithographic printing forms using a light-sensitive material based on diazonium salt polycondensation products
JPH09118718A (ja) 感光性組成物に有用な新規のアセタールポリマー
JPH0451018B2 (ja)
US5316892A (en) Method for developing lithographic printing plates
JP3378305B2 (ja) 感光性組成物およびブラインディング傾向を低減した平版印刷版
US4225661A (en) Photoreactive coating compositions and photomechanical plates produced therewith
US6596456B2 (en) Use of cinnamic acid groups containing acetal polymers for radiation-sensitive compositions and lithographic printing plates
US4839254A (en) Photosensitive mixture and photosensitive recording material produced therefrom with polymeric binder which is reaction product of (thio) phosphinic acidiso (thio) cyanate and active hydrogen containing polymer
EP0778497B1 (en) Aqueous developable negative acting photosensitive composition having improved image contrast
GB1572016A (en) Metal image-forming materials
JPH0550735B2 (ja)
US5380623A (en) Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity
CA1153611A (en) Aqueous developable photosensitive composition and printing plate
US5279927A (en) Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
US5846685A (en) Radiation sensitive diazo sulfo-acrylic adducts and method for producing a printing plate
JPS6027978B2 (ja) 電子印写製版用版材の製造法
JPS647374B2 (ja)
JPS6142251B2 (ja)
EP0580532B1 (en) Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
EP0462704A1 (en) Photosensitive composition and printing plate
JP2000513455A (ja) 水なし平版板
JP2003107692A (ja) カルボン酸コポリマーベースの、放射感受性ポジ型コーティング組成物
US4902602A (en) Light-sensitive composition and presensitized plate with light-sensitive diazo resin, acidic binder and compound with pivaloyl group