JPH0544107B2

JPH0544107B2 -

Info

Publication number: JPH0544107B2
Application number: JP59217180A
Authority: JP
Inventors: Toshiki Aoi; Noryoshi Nanba; Hiroshi Hosaka; Shohei Mimura
Original assignee: Tokyo Magnetic Printing Co Ltd; TDK Corp
Current assignee: TDK Corp; Toppan Infomedia Co Ltd
Priority date: 1984-10-16
Filing date: 1984-10-16
Publication date: 1993-07-05
Also published as: JPS6196538A

Description

【発明の詳細な説明】発明の背景技術分野本発明は、光カード、特にヒートモードの光記
録を行う光カードに関する。

先行技術とその問題点一般に、情報の記録および再生として磁気記録
方式が広く知られている。例えば、磁気テープ、
磁気デイスク、磁気記録カード等の磁気記録媒体
が挙げられる。この一つの利用例としてキヤツシ
ユカード等として使用されている磁気カードがあ
る。

周知のように磁気記録再生方式は、情報の記
録、消去および再記録を容易に行なうことができ
る。従つて、この方式を利用した磁気カードは、
悪用されたり、または磁石等による磁場の中に置
かれると、記録されている情報に変化が生ずるな
ど、情報の信頼性は低い。また、磁気カードは、
磁気ヘツドの制約から低密度の情報の記録しかで
きず、さらにカードの大きさに基づく制限から、
極めて少量の情報しか記録できないという欠点が
ある。

従つて、悪用防止のために複雑な信号形態を取
るという手段も、以上の磁気カード上の制限から
不可能である。

これらの欠点を改善するものとして、光学的原
理による記録および再生方式が最近提案されてい
る。この光学的記録および再生方式によるものに
は、光カードが挙げられる。

この光カードの応用範囲は広く、銀行のキヤツ
シユカードをはじめ、クレジツトカード、身分証
明書、運転免許証、定期券、公衆電話カード、ガ
ソリン購入カード等、多種にわたつて、その実用
化が期待されている。

ところで、光カードに適用しうる光記録媒体と
してはヒートモードのものがある。

このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱
として利用する光記録媒体であり、その１例とし
て、レーザー等の記録光で媒体の一部を融解、除
去等して、ピツトと称される小穴を形成して書き
込みを行い、このピツトにより情報を記録し、こ
のピツトを読み出し光で検出して読み出しを行う
ピツト形成タイプのものがある。

このようなピツト形成タイプの媒体、特にその
うち、装置を小型化できる半導体レーザーを光源
とするものにおいては、これまで、Teを主体と
する材料を記録層とするものが大半をしめてい
る。

しかし、近年、Te系材料が有害であること、
そしてより高感度化する必要があること、より製
造コストを安価にする必要があることから、Te
系にかえ、各種色素を主とした有機材料系の記録
層を用いる媒体についての提案や報告が増加して
いる。

ところで、光カードでは、記録層の損傷防止の
ため、記録層上に保護膜を形成する必要がある。
そして、この保護膜は、基材とラミネートされる
ので、記録層と保護膜は密着される。

しかし、このように記録層と保護層とを密着す
ると、色素系の記録層では反射率が低下し、コン
トラストおよびＳ／Ｎ比が小さいという欠点があ
る。

発明の目的本発明の目的は、コントラストおよびＳ／Ｎ比
の高い色素系の記録層を有する光カードを提供す
ることにある。

発明の開示このような目的は、下記の本発明によつて達成
される。

すなわち、本発明は、基板と、色素または色素
組成物からなる記録層を有する光記録部と、保護
膜とを有する光カードにおいて、基板に凹部が形成されており、この凹部によ
り、光記録部と保護膜との間に0.01mm以上の空隙
が形成されていることを特徴とする光カードであ
る。

発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。

第１図には、本発明の実施例が示される。

第１図に示されるように、本発明の光カード１
は、基板２を有する。

基板２は、通常、樹脂材質とし、アクリル樹
脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリオレフイ
ン等のいずれであつてもよい。

ただ、印刷性、積層性、耐湿性、強度等を考慮
すると、ポリ塩化ビニル系のポリマーが好適であ
る。ポリ塩化ビニル系のポリマーとしては、塩化
ビニルのホモポリマーの他、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル、塩化ビニル−マレイン酸等の塩化ビニルコ
ポリマーであつてよい。

基板２の厚さは、0.1〜1.0mm程度とする。

このような基板２の光記録部形成面には、凹部
が形成されている。

凹部は後述の空隙５を形成するためのものであ
つて、空隙長に対応して0.01mm以上とする。

この場合、凹部の深さは、強度の点から基板厚
の1/2以下とすることが好ましい。

また、凹部は、基板のほぼ全域に設けられても
よく、部分的に設けられてもよい。部分的に設け
るときには、その部分を記録トラツクとしてもよ
い。

また、凹部は、連続溝状としても、連続点状と
してもよい。あるいは、必要に応じ、ほぼ基板の
全域に設けられてもよい。

なお、凹部の形成は、加圧成形によつたり、射
出成形時に形成したりすればよい。

基板２上には、記録層３が設層される。

記録層としては、色素単独からなるか、色素組
成物からなるものである。

用いる色素としては、書き込み光および読み出
し光の波長に応じ、これを有効に吸収するものの
なかから、適宜決定すればよい。この場合、これ
らの光源としては、装置を小型できる点で、半導
体レーザーを用いることが好ましいので、色素は
シアニン系、フタロシアニン系、アントラキノン
系、アゾ系、トリフエニルメタン系、ピリリウム
ないしチアピリリウム塩系等が好ましい。

また、色素組成物を記録層とする場合、ニトロ
セルロース等の自己酸化性の樹脂や、ポリスチレ
ン、ナイロン等の熱可塑性樹脂を含有させること
ができる。また、色素の酸化劣化を防止するた
め、クエンチヤーを含有させることもできる。さ
らには、この他の添加剤を含有させてもよい。

このような場合、特に好ましくは、インドレニ
ン系のシアニン色素とビスフエニルジチオール系
等のクエンチヤーとの混合物が好ましい。

またこれらを色素のカチオンと、クエンチヤー
のアニオンとのイオン結合体として用いるのも好
ましい。

記録層の設層は、ケトン系、エステル系、エー
テル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系、アル
コール系等の溶媒を用いてスピンナーコート等の
塗布を行えばよい。あるいは、蒸着を行なつても
よい。

このような記録層は0.01〜10μｍの厚さとすれ
ばよく、特に0.05〜0.1μｍの厚さとすることが好
ましい。

なお、トラツキング制御用の溝を設けることも
できるが、その場合、記録層における記録トラツ
ク部の厚さは、0.2μｍ以下、より好ましくは0.05
〜0.15μｍとすることが好ましい。

このような光記録層は、それのみで光記録部と
してもよい。あるいは記録層の上層あるいは下地
層を設層して、光記録部とすることもできる。

上層または下地層としては、記録層の上下に半
透膜（ハーフミラー層）や反射層等を設けてもよ
い。

このような光記録部は、カードの用途に応じ、
基板上にて、その全面または一部に、ストライプ
状、矩形状等の形状に設けられる。

なお、記録層は、凹部内に形成されさえすれば
よく、凹部以外の基板凸部には形成されていても
いなくてもよい。

光記録部の上には保護膜４が設けられる。

保護膜４は、通常、フイルム体を融着ないし接
着して形成する。

保護膜４の材質としては、各種樹脂が好適であ
るが、特に吸湿性、耐ヒツカキ性等の点で、前記
のポリ塩化ビニル系のポリマーが好適である。

そして、その厚さは、0.1〜1.0mm程度とする。
これは、0.1mm未満となると、ホコリやゴミの影
響で記録・再生が阻害され、また1.0mmをこえる
と実用上不適となるからである。

なお、保護膜４は、各種ヒツカキ防止用の被覆
層を有していてもよい。

また、基板は、その両面に光記録部および保護
層を有してもよく、これらは片面のみに設けられ
ていてもよい。

後者の場合、基板裏面には保護層が形成されて
いてもよい。

このような保護膜シートは、基板２の凸部と融
着ないし接着される。

このような保護膜シートの固着により、保護膜
４と記録部との間には、空隙５が形成される。

このような空隙は、0.01mm以上とする。

これは、0.01mm未満となると、コントラスト向
上効果の実効がないからである。

なお、必要に応じ、保護膜シートにも、基板の
凹部と対応して凹部を形成することもできる。

なお、記録層は、保護膜４によつて、その全面
が外系からシールされることが好ましい。

これにより、記録層の劣化がなくなる。

発明の具体的効果本発明によれば、光記録部と保護膜との間に
0.01mm以上の空隙が形成されているので、コント
ラストおよびＳ／Ｎ比が向上する。

本発明者らは、本発明の効果を確認するため
種々実験を行つた。以下に１例を示す。

実施例 85×54×0.3mmの塩化ビニル樹脂製シート上に、
0.06μｍ厚にて、１，1′，３，３，3′，3′−ヘキサ
メチル−４，4′，５，5′−ジベンゾ−２，2′−イ
ンドトリカルボシアニンパークロレート（２重
量部）と、NIR−PA1006〔三井東圧化学株式会
社製、ビスフエニルジチオール−Ni錯体〕（１重
量部）とからなる記録層を設層した。

この上に、塩化ビニル樹脂製、0.3mm厚さのシ
ートを熱融着した。

なお、基板には、0.1mm深さ、３mm巾、３mm間
隔の凹部を形成した。

半導体レーザーを用いて記録・再生を行つたと
ころ、凹部を形成しないときと比較して、コント
ラストは２倍向上した。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光カードの断面図である。符号の説明、１……光記録カード、２……基
板、３……記録層、４……保護部材、５……空
隙。

Claims

【特許請求の範囲】１基板と、色素または色素組成物からなる記録
層を有する光記録部と、保護膜とを有する光カー
ドにおいて、基板に凹部が形成されており、この凹部によ
り、光記録部と保護膜との間に、0.01mm以上の空
隙が形成されていることを特徴とする光カード。