JPH0542424A - ワイヤ放電加工機の加工液供給装置 - Google Patents
ワイヤ放電加工機の加工液供給装置Info
- Publication number
- JPH0542424A JPH0542424A JP20198291A JP20198291A JPH0542424A JP H0542424 A JPH0542424 A JP H0542424A JP 20198291 A JP20198291 A JP 20198291A JP 20198291 A JP20198291 A JP 20198291A JP H0542424 A JPH0542424 A JP H0542424A
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- Japan
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- tank
- liquid
- processing
- machining
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- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 大型のポンプを使用することなく、十分な加
工液の供給が可能で、しかもフィルタ等のメンテナンス
が容易なワイヤ放電加工機の加工液供給装置を提供する
こと。 【構成】 加工槽１３から汚液タンク１５に位置水位を
利用して汚液が供給される。汚液タンク１５からポンプ
２７によりフィルタ１７を介して汚液が浄化されて清液
タンク１９に汲み出される。加工槽１３よりも上方にサ
ブタンク２１が設けられており、加工中に清液タンク１
９からポンプ３１により加工液が汲み上げられてサブタ
ンク２１に貯留される。このポンプ３１から汲み上げら
れた加工液は、フラッシングノズル３７，３９に供給さ
れる。加工開始時に加工槽１３に加工液が貯留されてい
ない時にはバルブＶ1を開けばサブタンク２１から加工
槽１３に加工液が短時間で供給される。
工液の供給が可能で、しかもフィルタ等のメンテナンス
が容易なワイヤ放電加工機の加工液供給装置を提供する
こと。 【構成】 加工槽１３から汚液タンク１５に位置水位を
利用して汚液が供給される。汚液タンク１５からポンプ
２７によりフィルタ１７を介して汚液が浄化されて清液
タンク１９に汲み出される。加工槽１３よりも上方にサ
ブタンク２１が設けられており、加工中に清液タンク１
９からポンプ３１により加工液が汲み上げられてサブタ
ンク２１に貯留される。このポンプ３１から汲み上げら
れた加工液は、フラッシングノズル３７，３９に供給さ
れる。加工開始時に加工槽１３に加工液が貯留されてい
ない時にはバルブＶ1を開けばサブタンク２１から加工
槽１３に加工液が短時間で供給される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ワイヤ電極と被加工体
との間で、パルス放電を繰り返して加工するワイヤ放電
加工機の加工液供給装置に関する。
との間で、パルス放電を繰り返して加工するワイヤ放電
加工機の加工液供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ワイヤ放電加工機は、上下の
アームに設けられたガイドにワイヤ電極を張架するとと
もに、ワイヤ電極に対向して他方の電極となる被加工体
を配置し、両電極間のパルス放電によって加工を行って
いる。つまり、負電位側のワイヤ電極と正電位側の被加
工体との間に、加工液供給装置を用いて加工液を供給す
るとともに、ワイヤ電極を上下方向に移動させ、両電極
間のパルス放電を繰り返すことによって、被加工体の加
工を行なっている。
アームに設けられたガイドにワイヤ電極を張架するとと
もに、ワイヤ電極に対向して他方の電極となる被加工体
を配置し、両電極間のパルス放電によって加工を行って
いる。つまり、負電位側のワイヤ電極と正電位側の被加
工体との間に、加工液供給装置を用いて加工液を供給す
るとともに、ワイヤ電極を上下方向に移動させ、両電極
間のパルス放電を繰り返すことによって、被加工体の加
工を行なっている。
【０００３】この種のワイヤ放電加工機としては、例
えば下アームと被加工体とを、共に加工槽内の加工液中
に浸漬するタイプのものが知られている。そして、この
ワイヤ放電加工機に使用される加工液供給装置では、被
加工体を浸漬される加工液は、加工液供給装置内の清液
槽から、大型のポンプによって直接加工槽内に供給され
ている。
えば下アームと被加工体とを、共に加工槽内の加工液中
に浸漬するタイプのものが知られている。そして、この
ワイヤ放電加工機に使用される加工液供給装置では、被
加工体を浸漬される加工液は、加工液供給装置内の清液
槽から、大型のポンプによって直接加工槽内に供給され
ている。
【０００４】また、他の技術として、図２に示す様
に、加工液供給装置Ｐ１内の清液槽Ｐ２を、加工槽Ｐ３
より高い位置に設けるとともに、汚水槽Ｐ４を加工槽Ｐ
３より低い位置に設けたものが提案されている。この装
置Ｐ１では、一旦汚水槽Ｐ４からポンプＰ５で汚水を汲
み上げるとともに、ポンプＰ５の出口のフィルタＰ６で
濾過して清液槽Ｐ２に加工液を供給し、この清液槽Ｐ２
から位置水位を利用して加工槽Ｐ３に加工液を供給して
いた（実開昭６２−１９２８２７号公報参照）。
に、加工液供給装置Ｐ１内の清液槽Ｐ２を、加工槽Ｐ３
より高い位置に設けるとともに、汚水槽Ｐ４を加工槽Ｐ
３より低い位置に設けたものが提案されている。この装
置Ｐ１では、一旦汚水槽Ｐ４からポンプＰ５で汚水を汲
み上げるとともに、ポンプＰ５の出口のフィルタＰ６で
濾過して清液槽Ｐ２に加工液を供給し、この清液槽Ｐ２
から位置水位を利用して加工槽Ｐ３に加工液を供給して
いた（実開昭６２−１９２８２７号公報参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前者の技
術では、加工液供給装置内の清液槽は、加工槽への十分
な給液を行うために、大きな容量が必要であるという問
題があり、しかも、加工槽内への加工液の給液時間を短
縮するために、大流量の加工液の吐出が可能な大型で高
性能のポンプが必要であるという問題があった。
術では、加工液供給装置内の清液槽は、加工槽への十分
な給液を行うために、大きな容量が必要であるという問
題があり、しかも、加工槽内への加工液の給液時間を短
縮するために、大流量の加工液の吐出が可能な大型で高
性能のポンプが必要であるという問題があった。
【０００６】一方、後者の技術では、図２に示す様
に、上方に配置された清液槽Ｐ２でのフィルタＰ６の交
換の作業等が大変で、メンテナンスが難しいという問題
があった。本発明は、上記課題を解決するためになさ
れ、大型のポンプを使用することなく、十分な加工液の
供給が可能で、しかもフィルタ等のメンテナンスが容易
なワイヤ放電加工機の加工液供給装置を提供することを
目的とする。
に、上方に配置された清液槽Ｐ２でのフィルタＰ６の交
換の作業等が大変で、メンテナンスが難しいという問題
があった。本発明は、上記課題を解決するためになさ
れ、大型のポンプを使用することなく、十分な加工液の
供給が可能で、しかもフィルタ等のメンテナンスが容易
なワイヤ放電加工機の加工液供給装置を提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、ワイヤ電極と他方の電極である被加工体
との間に、加工液を供給するとともにパルス放電を行な
って、前記被加工体を加工するワイヤ放電加工機の加工
液供給装置において、前記被加工体を加工液の中に浸漬
させる加工槽と、該加工槽から取り出した使用済みの加
工液を貯蔵する汚液タンクと、該汚液タンクに貯蔵され
た使用済みの加工液を汲み出して浄化する加工液浄化手
段と、該加工液浄化手段から供給される浄化済みの加工
液を貯蔵する清液タンクと、該清液タンクに貯蔵された
浄化済みの加工液を汲み出す加工液汲出手段と、前記加
工槽の最高水位より高位置にあって、前記加工液汲出手
段によって汲み出された浄化済みの加工液を貯蔵するサ
ブタンクと、該サブタンクに貯蔵された浄化済みの加工
液を、前記加工槽に供給する加工液供給手段と、を備え
たことを特徴とするワイヤ放電加工機の加工液供給装置
を要旨とする。
に、本発明は、ワイヤ電極と他方の電極である被加工体
との間に、加工液を供給するとともにパルス放電を行な
って、前記被加工体を加工するワイヤ放電加工機の加工
液供給装置において、前記被加工体を加工液の中に浸漬
させる加工槽と、該加工槽から取り出した使用済みの加
工液を貯蔵する汚液タンクと、該汚液タンクに貯蔵され
た使用済みの加工液を汲み出して浄化する加工液浄化手
段と、該加工液浄化手段から供給される浄化済みの加工
液を貯蔵する清液タンクと、該清液タンクに貯蔵された
浄化済みの加工液を汲み出す加工液汲出手段と、前記加
工槽の最高水位より高位置にあって、前記加工液汲出手
段によって汲み出された浄化済みの加工液を貯蔵するサ
ブタンクと、該サブタンクに貯蔵された浄化済みの加工
液を、前記加工槽に供給する加工液供給手段と、を備え
たことを特徴とするワイヤ放電加工機の加工液供給装置
を要旨とする。
【０００８】
【作用】本発明においては、ワイヤ電極と他方の電極で
ある被加工体との間に、加工液を供給するとともにパル
ス放電を行なって、被加工体を加工する。そして、加工
槽内で被加工体を加工液の中に浸漬させ、加工槽から取
り出した使用済みの加工液を汚液タンクに貯蔵する。ま
た、加工液浄化手段によって、汚液タンクに貯蔵された
使用済みの加工液を汲み出して浄化し、加工液浄化手段
から供給される浄化済みの加工液を清液タンクに貯蔵す
る。更に、加工液汲出手段によって、清液タンクに貯蔵
された浄化済みの加工液を汲み出し、汲み出された浄化
済みの加工液を、加工槽の最高水位より高位置にあるサ
ブタンクに貯蔵する。そして、サブタンクに貯蔵された
浄化済みの加工液を、加工液供給手段によって加工槽に
供給する。
ある被加工体との間に、加工液を供給するとともにパル
ス放電を行なって、被加工体を加工する。そして、加工
槽内で被加工体を加工液の中に浸漬させ、加工槽から取
り出した使用済みの加工液を汚液タンクに貯蔵する。ま
た、加工液浄化手段によって、汚液タンクに貯蔵された
使用済みの加工液を汲み出して浄化し、加工液浄化手段
から供給される浄化済みの加工液を清液タンクに貯蔵す
る。更に、加工液汲出手段によって、清液タンクに貯蔵
された浄化済みの加工液を汲み出し、汲み出された浄化
済みの加工液を、加工槽の最高水位より高位置にあるサ
ブタンクに貯蔵する。そして、サブタンクに貯蔵された
浄化済みの加工液を、加工液供給手段によって加工槽に
供給する。
【０００９】この構成によって、加工液が順次浄化さ
れ、浄化された加工液がサブタンクに供給されて、適宜
加工槽に供給されるので、大型のポンプ等を使用するこ
となく、迅速にかつ十分な加工液の供給が可能になる。
れ、浄化された加工液がサブタンクに供給されて、適宜
加工槽に供給されるので、大型のポンプ等を使用するこ
となく、迅速にかつ十分な加工液の供給が可能になる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明を具体化した実施例を図面を参
照して説明する。図１に示す様に、本実施例におけるワ
イヤ放電加工機１は、下アーム２と上アーム３との間に
ワイヤ電極５が張架されるとともに、ワークテーブル７
上に被加工体９が載置されており、このワイヤ電極５と
被加工体９とが、僅かの間隙を介して対向して配置され
ている。
照して説明する。図１に示す様に、本実施例におけるワ
イヤ放電加工機１は、下アーム２と上アーム３との間に
ワイヤ電極５が張架されるとともに、ワークテーブル７
上に被加工体９が載置されており、このワイヤ電極５と
被加工体９とが、僅かの間隙を介して対向して配置され
ている。
【００１１】このワイヤ放電加工機１における加工液供
給装置１１は、次の様な構成を備えている。被加工体９
の加工が行われる加工槽１３には加工液が入れられてお
り、この加工槽１３の下方には、加工槽１３から排出さ
れる汚液を溜める汚液タンク１５が配置されている。ま
た、汚液タンク１５に隣接して、汚液タンク１５から汲
み出されてフィルタ１７によって浄化された加工液を、
一定量まで溜めることができる清液タンク１９が配置さ
れている。一方、加工槽１３の上方には、清液タンク１
９から供給された加工液を溜めるサブタンク２１が配置
されている。
給装置１１は、次の様な構成を備えている。被加工体９
の加工が行われる加工槽１３には加工液が入れられてお
り、この加工槽１３の下方には、加工槽１３から排出さ
れる汚液を溜める汚液タンク１５が配置されている。ま
た、汚液タンク１５に隣接して、汚液タンク１５から汲
み出されてフィルタ１７によって浄化された加工液を、
一定量まで溜めることができる清液タンク１９が配置さ
れている。一方、加工槽１３の上方には、清液タンク１
９から供給された加工液を溜めるサブタンク２１が配置
されている。
【００１２】そして、サブタンク２１は、バルブＶ1を
備えた配管２３を介して、加工槽１３に接続されてお
り、このサブタンク２１から加工槽１３に、位置水位を
利用して加工液が供給される。加工槽１３は、バルブＶ
2を備えた配管２５を介して、汚液タンク１５に接続さ
れており、この加工槽１３から汚液タンク１５に、位置
水位を利用して汚液が供給される。汚液タンク１５は、
ポンプ２７及びフィルタ１７を備えた配管２９を介し
て、清液タンク１９に接続されており、この汚液タンク
１５からポンプ２７によって汚液が汲み出されるととも
にフィルタ１７によって浄化されて、浄化済みの加工液
が清液タンク１９に供給される。尚、上記配管２３，２
５，２９の内、サブタンク２１からバルブＶ1を介して
加工槽１３に到る配管２３は、大口径流路とされてい
る。
備えた配管２３を介して、加工槽１３に接続されてお
り、このサブタンク２１から加工槽１３に、位置水位を
利用して加工液が供給される。加工槽１３は、バルブＶ
2を備えた配管２５を介して、汚液タンク１５に接続さ
れており、この加工槽１３から汚液タンク１５に、位置
水位を利用して汚液が供給される。汚液タンク１５は、
ポンプ２７及びフィルタ１７を備えた配管２９を介し
て、清液タンク１９に接続されており、この汚液タンク
１５からポンプ２７によって汚液が汲み出されるととも
にフィルタ１７によって浄化されて、浄化済みの加工液
が清液タンク１９に供給される。尚、上記配管２３，２
５，２９の内、サブタンク２１からバルブＶ1を介して
加工槽１３に到る配管２３は、大口径流路とされてい
る。
【００１３】また、清液タンク１９は、ポンプ３１，バ
ルブＶ3及び絞り弁Ｂ1を備えた配管３３を介して、サブ
タンク２１に接続されており、この清液タンク１９から
サブタンク２１に、ポンプ３１によって浄化済みの加工
液が供給される。それとともに、配管３３から分岐し、
バルブＶ4及び絞り弁Ｂ2，Ｂ3を備えた配管３５によっ
て、上アーム３及び下アーム２のフラッシングノズル３
７，３９に加工液が供給される。
ルブＶ3及び絞り弁Ｂ1を備えた配管３３を介して、サブ
タンク２１に接続されており、この清液タンク１９から
サブタンク２１に、ポンプ３１によって浄化済みの加工
液が供給される。それとともに、配管３３から分岐し、
バルブＶ4及び絞り弁Ｂ2，Ｂ3を備えた配管３５によっ
て、上アーム３及び下アーム２のフラッシングノズル３
７，３９に加工液が供給される。
【００１４】上記構成を有する本実施例の加工液供給装
置１１は、下記の様に動作する。 まず、非加工時間にサブタンク２１に給液する場合に
ついて説明する。非加工時間にサブタンク２１に給液す
る場合には、バルブＶ4を閉ざすとともにバルブＶ3を開
放する。この状態で、ポンプ２７を駆動して、汚液タン
ク１５から清液タンク１９に浄化済みの加工液を供給す
るとともに、ポンプ３１を駆動して、清液タンク１９か
らバルブＶ3及び絞り弁Ｂ1を介して、サブタンク２１に
浄化済みの加工液を供給する。
置１１は、下記の様に動作する。 まず、非加工時間にサブタンク２１に給液する場合に
ついて説明する。非加工時間にサブタンク２１に給液す
る場合には、バルブＶ4を閉ざすとともにバルブＶ3を開
放する。この状態で、ポンプ２７を駆動して、汚液タン
ク１５から清液タンク１９に浄化済みの加工液を供給す
るとともに、ポンプ３１を駆動して、清液タンク１９か
らバルブＶ3及び絞り弁Ｂ1を介して、サブタンク２１に
浄化済みの加工液を供給する。
【００１５】そして、加工を行なう場合には、加工に先
だって、バルブＶ2を閉ざすとともにバルブＶ1を開放し
て、サブタンク２１から加工槽１３内に、大量の加工液
を迅速に供給する。 次に、加工時間にサブタンク２１に給液する場合につ
いて説明する。
だって、バルブＶ2を閉ざすとともにバルブＶ1を開放し
て、サブタンク２１から加工槽１３内に、大量の加工液
を迅速に供給する。 次に、加工時間にサブタンク２１に給液する場合につ
いて説明する。
【００１６】加工時間にサブタンク２１に給液する場合
には、バルブＶ3を閉ざすとともにバルブＶ4を開放す
る。この状態で、ポンプ２７を駆動して、汚液タンク１
５から清液タンク１９に浄化済みの加工液を供給し、更
にポンプ３１を駆動して、清液タンク１９から絞り弁Ｂ
2，Ｂ3を介して、フラッシングノズル３７，３９に加工
液を供給するとともに、絞り弁Ｂ1を介してサブタンク
２１に浄化済みの加工液を供給する。つまり、清液タン
ク１９からの加工液を、フラッシングノズル３７，３９
とサブタンク２１とに分岐して供給する。
には、バルブＶ3を閉ざすとともにバルブＶ4を開放す
る。この状態で、ポンプ２７を駆動して、汚液タンク１
５から清液タンク１９に浄化済みの加工液を供給し、更
にポンプ３１を駆動して、清液タンク１９から絞り弁Ｂ
2，Ｂ3を介して、フラッシングノズル３７，３９に加工
液を供給するとともに、絞り弁Ｂ1を介してサブタンク
２１に浄化済みの加工液を供給する。つまり、清液タン
ク１９からの加工液を、フラッシングノズル３７，３９
とサブタンク２１とに分岐して供給する。
【００１７】この様に、本実施例では、加工槽１３より
低い位置に、汚液タンク１５と清液タンク１９とを隣接
して設け、ポンプ２７及びフィルタ１７によって、汚液
を浄化して供給するので、ポンプ２７の容量が小さくて
も十分であるという利点がある。しかもフィルタ１７が
装置１１の下方の位置に設けてあるので、そのメンテナ
ンスが容易であるという効果がある。
低い位置に、汚液タンク１５と清液タンク１９とを隣接
して設け、ポンプ２７及びフィルタ１７によって、汚液
を浄化して供給するので、ポンプ２７の容量が小さくて
も十分であるという利点がある。しかもフィルタ１７が
装置１１の下方の位置に設けてあるので、そのメンテナ
ンスが容易であるという効果がある。
【００１８】また、サブタンク２１に加工液を供給する
場合には、加工時間及び非加工時間を問わず、徐々に行
なうことができるので、ポンプ３１の容量が小さくても
十分であるという特長がある。更に、清液タンク１９に
接続された大きなサブタンク２１が、加工槽１３の上方
に設けてあるので、加工を開始する際には、バルブＶ1
を開くことによって、サブタンク２１に溜められた加工
液を、大口径の流路である配管２３を介して、大量にか
つ迅速に加工槽１３内に満たすことができるという利点
がある。
場合には、加工時間及び非加工時間を問わず、徐々に行
なうことができるので、ポンプ３１の容量が小さくても
十分であるという特長がある。更に、清液タンク１９に
接続された大きなサブタンク２１が、加工槽１３の上方
に設けてあるので、加工を開始する際には、バルブＶ1
を開くことによって、サブタンク２１に溜められた加工
液を、大口径の流路である配管２３を介して、大量にか
つ迅速に加工槽１３内に満たすことができるという利点
がある。
【００１９】尚、本発明は、上記実施例に何等限定され
ず、本発明の要旨の範囲内において各種の態様で実施で
きることは勿論である。例えば、フィルタ１７として、
密閉形式の外圧フィルタを採用する場合には、フィルタ
内室を清液タンク１９として使うことができる。この場
合には、清液タンク１９を別個に設ける必要はない。
ず、本発明の要旨の範囲内において各種の態様で実施で
きることは勿論である。例えば、フィルタ１７として、
密閉形式の外圧フィルタを採用する場合には、フィルタ
内室を清液タンク１９として使うことができる。この場
合には、清液タンク１９を別個に設ける必要はない。
【００２０】また、上記実施例では、加工時間及び非加
工時間にわたって加工液を供給する場合について述べた
が、加工時間又は非加工時間のどちらかのみに、加工液
を供給してもよい。更に、サブタンク２１を配置する位
置として、ワイヤ放電加工機１の上部のコラム４１に配
置しても良い。
工時間にわたって加工液を供給する場合について述べた
が、加工時間又は非加工時間のどちらかのみに、加工液
を供給してもよい。更に、サブタンク２１を配置する位
置として、ワイヤ放電加工機１の上部のコラム４１に配
置しても良い。
【００２１】
【発明の効果】以上詳述したことから明らかな様に、本
発明によれば、汚液タンク，加工液浄化手段，清液タン
ク，加工液汲出手段，サブタンク，加工液供給手段及び
加工槽を備えているので、加工液が順次浄化され、浄化
された加工液がサブタンクに供給されて、適宜加工槽に
供給される。従って、大型のポンプ等を使用することな
く、迅速にかつ十分にサブタンクから加工槽への加工液
の供給ができる。また、フィルタ等の加工液浄化手段の
交換などのメンテナンスが容易である。
発明によれば、汚液タンク，加工液浄化手段，清液タン
ク，加工液汲出手段，サブタンク，加工液供給手段及び
加工槽を備えているので、加工液が順次浄化され、浄化
された加工液がサブタンクに供給されて、適宜加工槽に
供給される。従って、大型のポンプ等を使用することな
く、迅速にかつ十分にサブタンクから加工槽への加工液
の供給ができる。また、フィルタ等の加工液浄化手段の
交換などのメンテナンスが容易である。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の実施例の構成を例示する概略構成図
である。
である。
【図２】 従来例の説明図である。
１…ワイヤ放電加工機 ５…ワイヤ電極 １１…加工液供給装置 １３…加工槽 １５…汚液タンク １７…フィルタ １９…清液タンク ２１…サブタン
ク ２３，２５，２９，３３，３５…配管 ２７，３１…ポ
ンプ
ク ２３，２５，２９，３３，３５…配管 ２７，３１…ポ
ンプ
Claims (1)
- 【請求項１】 ワイヤ電極と他方の電極である被加工体
との間に、加工液を供給するとともにパルス放電を行な
って、前記被加工体を加工するワイヤ放電加工機の加工
液供給装置において、 前記被加工体を加工液の中に浸漬させる加工槽と、 該加工槽から取り出した使用済みの加工液を貯蔵する汚
液タンクと、 該汚液タンクに貯蔵された使用済みの加工液を汲み出し
て浄化する加工液浄化手段と、 該加工液浄化手段から供給される浄化済みの加工液を貯
蔵する清液タンクと、 該清液タンクに貯蔵された浄化済みの加工液を汲み出す
加工液汲出手段と、 前記加工槽の最高水位より高位置にあって、前記加工液
汲出手段によって汲み出された浄化済みの加工液を貯蔵
するサブタンクと、 該サブタンクに貯蔵された浄化済みの加工液を、前記加
工槽に供給する加工液供給手段と、 を備えたことを特徴とするワイヤ放電加工機の加工液供
給装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03201982A JP3111517B2 (ja) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | ワイヤ放電加工機の加工液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03201982A JP3111517B2 (ja) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | ワイヤ放電加工機の加工液供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0542424A true JPH0542424A (ja) | 1993-02-23 |
| JP3111517B2 JP3111517B2 (ja) | 2000-11-27 |
Family
ID=16449979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03201982A Expired - Fee Related JP3111517B2 (ja) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | ワイヤ放電加工機の加工液供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3111517B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6533927B1 (en) | 1999-11-17 | 2003-03-18 | Sodick Co., Ltd. | Liquid feeder for electrodischarge machining |
| JP6391867B1 (ja) * | 2018-02-28 | 2018-09-19 | 株式会社ソディック | 放電加工装置 |
-
1991
- 1991-08-12 JP JP03201982A patent/JP3111517B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6533927B1 (en) | 1999-11-17 | 2003-03-18 | Sodick Co., Ltd. | Liquid feeder for electrodischarge machining |
| JP6391867B1 (ja) * | 2018-02-28 | 2018-09-19 | 株式会社ソディック | 放電加工装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3111517B2 (ja) | 2000-11-27 |
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