JPH0542147B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0542147B2
JPH0542147B2 JP62107827A JP10782787A JPH0542147B2 JP H0542147 B2 JPH0542147 B2 JP H0542147B2 JP 62107827 A JP62107827 A JP 62107827A JP 10782787 A JP10782787 A JP 10782787A JP H0542147 B2 JPH0542147 B2 JP H0542147B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge
power supply
laser
oscillation device
discharge tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP62107827A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63273378A (ja
Inventor
Norio Karube
Akira Egawa
Etsuo Yamazaki
Nobuaki Iehisa
Mitsuo Manabe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fanuc Corp
Original Assignee
Fanuc Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fanuc Corp filed Critical Fanuc Corp
Priority to JP62107827A priority Critical patent/JPS63273378A/ja
Priority to PCT/JP1988/000426 priority patent/WO1988008630A1/ja
Priority to DE8888903941T priority patent/DE3879615T2/de
Priority to US07/283,479 priority patent/US4930135A/en
Priority to EP88903941A priority patent/EP0313664B1/en
Publication of JPS63273378A publication Critical patent/JPS63273378A/ja
Publication of JPH0542147B2 publication Critical patent/JPH0542147B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0975Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は金属などの切断加工用大出力用のレー
ザ発振装置に関する。より詳細には安定した高周
波放電励起のできるレーザ発振装置に関する。
〔従来の技術〕 高周波励起軸流CO2レーザは高出力でかつ安定
した発振が可能であり、開発がすすめられてお
り、出願人は特願昭61−243212号を出願してい
る。
従来の軸流型高周波放電励起レーザ発振装置の
例を第7図に示す。図において、1は放電管であ
り、図では4本で構成した例を示しているが、出
力に応じて種々の本数が使用される。2は全反射
鏡、3は出力結合鏡であり、2個の鏡は正確に位
置が決められている。4はレーザ光を示す。放電
管のセグメントにはガスの出入口が設けられてお
り、それは1台のルーツブローワ7に結合されて
いる。5及び6は冷却機であり、放電で発熱した
レーザガスを冷却する。放電管及びガス送風管内
のガス流の方向は矢印で示してある。8a,8b
〜11a,11bは電極であり、それぞれの高周
波電源12,13,14及び15に接続されてい
る。放電管1内のガス流は約100m/秒であり、
高周波電源12〜15からの高周波電圧によつて
放電が行われ、レーザビームが発振増幅される。
従来の高周波電源の原理図を第8図に示す。図
において、16はDC電源である。17は高周波
(RF)電源である。DC電源16のDC出力は高周
波電源16に出力される。高周波電源17は4個
のFET18〜21で構成されるブランチ回路、
昇圧トランス22、インピーダンス整合回路23
で構成されている。その出力は放電管1に電極8
a1,8a2を介して結合されている。24は
CTコイルであり、放電管1の電流を検出する。
25は電流帰還ラインであり、電流を帰還し放電
管1への電流が一定になるように制御している。
このような高周波励起レーザは通常のDC励起
レーザに比較して、 (i) 無電極放電のため電極材料にまつわる問題が
ない。
(ii) バラスト抵抗が不要である。
(iii) 陰極降下がなく高エネルギー降下が得られ
る。
(iv) 低電圧動作が可能であり、オペレータにたい
して安全である。
(v) CO2分子の解離率が低くランニングコストが
低い。
(vi) パルス特性が優れている。
(vii) 装置形状が小形にできる。
(viii) 周波数を充分高くすることにより、電子捕捉
現象が利用できる。
(ix) 放電材料の選択の自由度が高い。
等の数々の長所を有する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、複数個の電源及び放電管負荷の並列稼
動によつて、電磁波干渉にもとずく電流電圧の振
動現象が発生する。1ユニツトの電源−負荷のル
ープでは安定に動作する場合でも並列動作のルー
プを増していくとこの現象が現れる。しかもこれ
らの干渉は隣接のループ間で干渉が著しく、遠方
の間では無視でき、ケーブルを束線にすると著し
いことから、これらの干渉が各電源−負荷ループ
を構成するケーブル間の電磁波の授受によるもの
であることが判明した。
本発明の目的は上記問題点を解決し、このような
電磁波の干渉による不安定性を改良し、安定して
発振できる高周波レーザ発振装置を提供すること
にある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の問題点を解決するために、 誘電体からなる複数の放電管に高周波電圧を印
加して高周波放電を行わせてレーザ励起を行わせ
るレーザ発振装置において、電磁シールドされた
直流電源用筐体に収納された各放電管用の直流電
源と、電磁シールドされた高周波電源用筐体に収
納され、前記直流電源の直流電圧を高周波電圧に
変換する各放電管用の高周波電源と、を有し、前
記直流電源用筐体と高周波電源用筐体をそれぞれ
対応する放電管ごとに一体に結合したことを特徴
とするレーザ発振装置が、提供される。
また、誘電体からなる複数の放電管に高周波電
圧を印加して高周波放電を行わせてレーザ励起を
行わせるレーザ発振装置において、前記放電管の
周囲を金属メツシユ状の部材で電磁シールドし、
レーザの出口を2重の透過孔を設けてシールドし
たことを特徴とするレーザ発振装置が、提供され
る。
〔作用〕
個々の放電管ごとの直流電源と高周波電源をそ
れぞれ、電磁シールドされた直流電源用筐体、高
周波電源用筐体に収納することにより、相互に電
磁干渉しないようになる。さらに、これらの直流
電源用筐体、高周波電源用筐体を一体にすること
により、2つの筐体を結ぶケーブルが外部にでる
ことなく、電磁干渉が防止される。
また、放電菅の周囲を金属メツシユ状の部材
で、電磁シールドし、レーザの出口を二重の透過
孔を設けて電磁シールドすることにより、放電管
間における電磁波干渉を除去できる。
〔実施例〕
以下本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
第1図にDC電源と高周波電源を一体化した構
成を示す。図において、1は放電管であり、図で
は4本で構成した例を示しているが、出力に応じ
て種々の本数が使用される。2は全反射鏡、3は
出力結合鏡であり、2個の鏡は正確に位置が決め
られている。4はレーザ光を示す。放電管の各セ
グメントにはガスの出入口が設けられており、そ
れは1台のルーツブローワ7に結合れている。5
及び6a及び6bは冷却機であり、放電に発熱し
たレーザガスを冷却する。放電管及びガス送風管
内のガス流の方向は第7図と同様である。放電管
1の電極はそれぞれの高周波電源12,13,1
4及び15に接続されている。放電管1内のガス
流は約100m/秒であり、高周波電源12〜15
からの高周波電圧によつて放電が行われ、レーザ
ビームが発振増幅される。
12a〜15aは直流電源であり、これは高周
波電源12b〜15bとそれぞれ一体に結合され
ている。この構成では直流電源と高周波電源を結
ぶケーブルは最短距離で、かつ電磁シールドされ
た筐体内にあるので異なつたユニツト間の干渉を
無視することができる。
また、図において、高周波電源12b〜15b
と放電間1(電極)との結合は最短の銅板を使用
している。
第2図に直流電源12aと高周波電源12bが
結合された一体化電源とインピーダンス整合回路
23の位置関係を示す。図に示すように、インピ
ーダンス整合回路23はコイル23a及びコンデ
ンサ23b及び23cから構成されており、これ
を高周波電源の筐体から放電管1の近傍に設置し
てある。この構成では整合回路中の、特にコイル
23a付近に鉄板などの金属のない広い領域に設
置できるのでコイル23aを仲介として電磁的結
合ができる。また、高周波電源の損失電流の大部
分はコイル23a近傍の鉄板等の金属の誘起する
渦電流であるので、高周波電源の損失を低減させ
ることにもなる。
第3図にフエライトコア38入のコイルを示
す。第2図に示す空芯のコイルよりも第3図に示
すフエライトコア入のコイルの方が磁力線の漏れ
が少なく、相互干渉も少なくなる。さらに、第3
図に示すように、フエライトコア38をコイルに
対してスライドできるようにしておくと、インピ
ーダンス整合が簡単にとれて便利である。
第4図に放電管をシールドした図を示す。第1
図と同一の構成要素には同一の符号が付けられて
おり、その説明は省略する。図において、放電管
1を含むレーザ共振部を銅板メツシユ39によつ
て電磁シールドしている。図では略して荒いメツ
シユで示してあるが実際のメツシユは細かいもの
が望ましい。また、銅板メツシユのかわりに、銅
板を使用することもできる。
第5図にレーザ光4の出入り口のシールドを示
す。図において、レーザ光4の透過孔を設けるた
めに2枚のシールド板とこれにそれぞれ42及び
43の透過孔を設けている。透過孔42及び43
を見透おせる立体角は充分小さいので、電磁波の
漏洩は無視することができる。
第6図に放電管間の電磁シールドの図を示す。
図において、26a及び26bは高周波電源、2
3a及び23bはインピーダンス整合回路1a及
び1bは別個の放電管である。CT1a及びCT1
bは電流検出器である。44はシールド板であ
り、アースされている。シールド板は放電管1a
と1b間或いはリード板間の電磁波干渉を防止す
る。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明では、個々の放電管
ごとの直流電源と高周波電源をそれぞれ、電磁シ
ールドされた直流電源用筐体、高周波電源用筐体
に収納したので、相互に電磁干渉しないようにな
る。さらに、これらの直流電源用筐体、高周波電
源用筐体を一体にしたことにより、2つの筐体を
結ぶケーブルが外部にでることがなくなり、ケー
ブルによる電磁干渉が防止される。
また、放電管の周囲を金属メツシユ状の部材で
電磁シールドし、レーザの出口を二重の透過孔を
設けて電磁シールドするようにしたので、放電管
間における電磁波干渉を除去できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はDC電源と高周波電源を一体化した構
成を示す図、第2図はインピーダンス整合回路の
配置を示す図、第3図はフエライトコアを有する
コイルの図、第4図は放電管をシールドした図、
第5図は放電管の軸方向のシールドをした図、第
6図は放電管間のシールドをした図、第7図は従
来の軸流型RF放電励起レーザ発振装置の原理図、
第8図は従来のレーザ励起用高周波電源回路の原
理図である。 1……放電管、2……全反射鏡、3……出力結
合鏡、4……レーザ光、12〜15……一体化電
源、12a〜15a……直流電源、12b〜15
b……高周波電源、22……出力トランス、23
……整合回路、23a……コイル、38……フエ
ライトコア、39〜41……シールド板、44…
…電磁シールド板。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 誘電体からなる複数の放電管に高周波電圧を
    印加して高周波放電を行わせてレーザ励起を行わ
    せるレーザ発振装置において、 電磁シールドされた直流電源用筐体に収納され
    た各放電管用の直流電流と、 電磁シールドされた高周波電源用筐体に収納さ
    れ、前記直流電源の直流電圧を高周波電圧に変換
    する各放電管用の高周波電源と、 を有し、 前記直流電源用筐体と高周波電源用筐体をそれ
    ぞれ対応する放電管ごとに一体に結合したことを
    特徴とするレーザ発振装置。 2 前記放電管の近傍にインピーダンス整合回路
    を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載のレーザ発振装置。 3 誘電体からなる複数の放電管に高周波電圧を
    印加して高周波放電を行わせてレーザ励起を行わ
    せるレーザ発振装置において、 前記放電管の周囲を金属メツシユ状の部材で電
    磁シールドし、レーザの出口を2重の透過孔を設
    けてシールドしたことを特徴とするレーザ発振装
    置。 4 さらに、並列に配置された放電管間にシール
    ド金属板を設けたことを特徴とする特許請求の範
    囲第3項記載のレーザ発振装置。
JP62107827A 1987-04-30 1987-04-30 レ−ザ発振装置 Granted JPS63273378A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62107827A JPS63273378A (ja) 1987-04-30 1987-04-30 レ−ザ発振装置
PCT/JP1988/000426 WO1988008630A1 (en) 1987-04-30 1988-04-28 Laser oscillator
DE8888903941T DE3879615T2 (de) 1987-04-30 1988-04-28 Laser-oszillator.
US07/283,479 US4930135A (en) 1987-04-30 1988-04-28 Laser oscillator device
EP88903941A EP0313664B1 (en) 1987-04-30 1988-04-28 Laser oscillator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62107827A JPS63273378A (ja) 1987-04-30 1987-04-30 レ−ザ発振装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63273378A JPS63273378A (ja) 1988-11-10
JPH0542147B2 true JPH0542147B2 (ja) 1993-06-25

Family

ID=14469042

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62107827A Granted JPS63273378A (ja) 1987-04-30 1987-04-30 レ−ザ発振装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4930135A (ja)
EP (1) EP0313664B1 (ja)
JP (1) JPS63273378A (ja)
DE (1) DE3879615T2 (ja)
WO (1) WO1988008630A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2509638B2 (ja) * 1987-10-29 1996-06-26 ファナック株式会社 高周波放電励起レ―ザ装置
DE3923624A1 (de) * 1989-07-17 1991-01-31 Siemens Ag Verfahren zum betrieb eines gaslasers, insbesondere eines co(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)-lasers, mit gasstroemung quer zu seiner optischen achse und gaslaser zur durchfuehrung des verfahrens
CA2059134A1 (en) * 1990-04-16 1991-10-17 Ken Ohmata Laser device
US5528613A (en) * 1993-04-12 1996-06-18 Macken; John A. Laser apparatus utilizing a magnetically enhanced electrical discharge with transverse AC stabilization
JP2007059690A (ja) * 2005-08-25 2007-03-08 Fanuc Ltd 高周波放電励起ガスレーザ発振器
ATE416498T1 (de) 2005-11-12 2008-12-15 Huettinger Elektronik Gmbh Verfahren zum betrieb einer vakuumplasmaprozessanlage
DE102006052060B4 (de) 2006-11-04 2009-11-26 Hüttinger Elektronik GmbH & Co. KG Verfahren und Anordnung zur Anregung einer Gaslaseranordnung
JP5172996B2 (ja) 2011-07-15 2013-03-27 ファナック株式会社 高速、高精度に指令が可能なガスレーザ発振器における指令装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS583053U (ja) * 1981-06-26 1983-01-10 株式会社東芝 ガス・レ−ザ管装置
JPS58153465U (ja) * 1982-04-08 1983-10-14 株式会社東芝 高周波励起ガスレ−ザ装置
JPS60177692A (ja) * 1984-02-24 1985-09-11 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ発振装置
JPS61208883A (ja) * 1985-03-14 1986-09-17 Toshiba Corp 交流放電型気体レ−ザ−装置
JPS6381878A (ja) * 1986-09-25 1988-04-12 Toshiba Corp ガスレ−ザ発振装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS495254Y1 (ja) * 1969-09-26 1974-02-07
US4169251A (en) * 1978-01-16 1979-09-25 Hughes Aircraft Company Waveguide gas laser with high frequency transverse discharge excitation
US4373202A (en) * 1979-09-24 1983-02-08 Walwel, Inc. RF Excited waveguide gas laser
JPS57202793A (en) * 1981-06-09 1982-12-11 Mitsubishi Electric Corp Laser device
JPS6047487A (ja) * 1983-08-25 1985-03-14 Inoue Japax Res Inc レ−ザ発振器
US4785458A (en) * 1984-02-13 1988-11-15 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Gas laser device
GB2165407B (en) * 1984-10-02 1988-01-20 Ferranti Plc Gas laser power supply apparatus
JPS6276511A (ja) * 1985-09-28 1987-04-08 Toshiba Corp 磁気スイツチおよびこの磁気スイツチを用いたガスレ−ザ装置
JPS62108588A (ja) * 1985-11-06 1987-05-19 Toshiba Corp 充放電装置
JPH0682875B2 (ja) * 1986-10-15 1994-10-19 フアナツク株式会社 高周波放電励起レ−ザ装置
DE3785028T2 (de) * 1986-12-22 1993-07-01 Fanuc Ltd Lasereinheit, angeregt durch hf-entladung.

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS583053U (ja) * 1981-06-26 1983-01-10 株式会社東芝 ガス・レ−ザ管装置
JPS58153465U (ja) * 1982-04-08 1983-10-14 株式会社東芝 高周波励起ガスレ−ザ装置
JPS60177692A (ja) * 1984-02-24 1985-09-11 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ発振装置
JPS61208883A (ja) * 1985-03-14 1986-09-17 Toshiba Corp 交流放電型気体レ−ザ−装置
JPS6381878A (ja) * 1986-09-25 1988-04-12 Toshiba Corp ガスレ−ザ発振装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0313664A4 (en) 1989-04-27
EP0313664A1 (en) 1989-05-03
DE3879615T2 (de) 1993-07-01
EP0313664B1 (en) 1993-03-24
WO1988008630A1 (en) 1988-11-03
DE3879615D1 (de) 1993-04-29
US4930135A (en) 1990-05-29
JPS63273378A (ja) 1988-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4513424A (en) Laser pumped by X-band microwaves
JPH0542147B2 (ja)
JPS61263128A (ja) ガス柱の中のプラズマを超高周波により励磁する装置
EP0278201A1 (en) Ultra compact, RF excited gaseous lasers
KR20240125589A (ko) 유도 결합 플라즈마 광원
JPH0832155A (ja) 複数個チャンネル レーザーの励起装置
EP0331734B1 (en) R-f discharge-excited laser
EP2382695B1 (en) Particle damage protection for high power co2 slab laser mirrors
JPH0736458B2 (ja) レ−ザ発振装置
US4921357A (en) Laser oscillator device
EP0439608B1 (en) R-f discharge excited laser device
JP2509621B2 (ja) レ−ザ発振装置
JPH067103B2 (ja) 放射線分光装置に使用可能な密封シールドボックス
WO1988004848A1 (en) High-frequency discharge-excited laser unit
JP3928873B2 (ja) マイクロストリップ伝送線への誘電共振器の結合
Bhagat et al. Shielding considerations of 25 kW RF power source for FAF CO/sub 2/laser
Bilida et al. Resonant cavity excitation system for radial array slab CO2 lasers
GB2138629A (en) High-frequency gas-discharge lamp system
KR100230360B1 (ko) 유도 결합형 플라즈마 형성 장치
RU2089983C1 (ru) Газовый лазер
JPH08148736A (ja) ガスレーザ装置
JPH05275183A (ja) 無電極放電灯点灯装置
JPS6282342A (ja) Icp原子スペクトロメトリ−装置
Fattens et al. Longitudinal coupling impedance of a stationary electron ring in a cylindrical geometry
Eldredge et al. DESIGN AND FABRICATION OF THE ACCELERATING STRUCTURE FOR THE STANFORD TWO-MILE ACCELERATOR November I962

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees