JPH054003A - 水切り溶剤組成物 - Google Patents
水切り溶剤組成物Info
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- JPH054003A JPH054003A JP15632491A JP15632491A JPH054003A JP H054003 A JPH054003 A JP H054003A JP 15632491 A JP15632491 A JP 15632491A JP 15632491 A JP15632491 A JP 15632491A JP H054003 A JPH054003 A JP H054003A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】水切り能が高く低毒性の水切り溶剤組成物の提
供。 【構成】 （１）下記（Ｉ）〜（ＩＸ）式で示される完
全フッ素化化合物１種以上と、（２）アルコール１種以
上と、（３）炭素数４〜１０のエーテル化合物又は炭化
水素を含む水切り溶剤組成物。
供。 【構成】 （１）下記（Ｉ）〜（ＩＸ）式で示される完
全フッ素化化合物１種以上と、（２）アルコール１種以
上と、（３）炭素数４〜１０のエーテル化合物又は炭化
水素を含む水切り溶剤組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、精密機器、光学機器、
電子機器及び一般金属部品等の洗浄後水分を除去するた
めの水切り溶剤組成物に関するものである。
電子機器及び一般金属部品等の洗浄後水分を除去するた
めの水切り溶剤組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レンズ、電子部品などの精密機器等は最
終的に純水洗浄を行うことが一般的であるが、水で洗浄
した後、付着した水分を除去する必要がある（以下、こ
の操作を水切りという）。この付着水を除去するために
通常は有機溶剤が用いられる。有機溶剤としては１，
１，２−トリフルオロ−１，２，２−トリクロロエタン
（以下、ＣＦＣ−１１３という）にエチルアルコール、
またはある種の界面活性剤を添加したものが一般的であ
る。この組成物に水分が付着した物品を浸漬すると、水
の濡れ性または比重差を利用して、付着水を物品表面よ
り剥離し、浮上させ分離させることができる。こうして
水切りを行った物品は最終的には乾燥工程に送られる。
この乾燥方法の代表例として溶剤による蒸気乾燥があ
る。この方法は水切り後の物品を加熱した溶剤蒸気中に
曝し、その熱エネルギーで物品表面を乾燥させるもので
ある近年、オゾン層の破壊等の問題から、ＣＦＣ−１１
３の使用は全廃される方向にある。また、特願平１−１
４８２８１号公報に記されているような１，１，１−ト
リクロロエタン等の比較的オゾン層の破壊能の低いハロ
ゲン化炭化水素にある種の界面活性剤を添加した水切り
剤は、オゾン層の破壊はある程度解消されるものの不揮
発性の界面活性剤を含有しているためこれがしみの原因
になり問題視されている。更にハロゲン化炭化水素にエ
チルアルコールを添加したものは界面活性剤を添加した
ものに比べ、水切りする能力が低くこれを実用化するに
は種々の問題があった。
終的に純水洗浄を行うことが一般的であるが、水で洗浄
した後、付着した水分を除去する必要がある（以下、こ
の操作を水切りという）。この付着水を除去するために
通常は有機溶剤が用いられる。有機溶剤としては１，
１，２−トリフルオロ−１，２，２−トリクロロエタン
（以下、ＣＦＣ−１１３という）にエチルアルコール、
またはある種の界面活性剤を添加したものが一般的であ
る。この組成物に水分が付着した物品を浸漬すると、水
の濡れ性または比重差を利用して、付着水を物品表面よ
り剥離し、浮上させ分離させることができる。こうして
水切りを行った物品は最終的には乾燥工程に送られる。
この乾燥方法の代表例として溶剤による蒸気乾燥があ
る。この方法は水切り後の物品を加熱した溶剤蒸気中に
曝し、その熱エネルギーで物品表面を乾燥させるもので
ある近年、オゾン層の破壊等の問題から、ＣＦＣ−１１
３の使用は全廃される方向にある。また、特願平１−１
４８２８１号公報に記されているような１，１，１−ト
リクロロエタン等の比較的オゾン層の破壊能の低いハロ
ゲン化炭化水素にある種の界面活性剤を添加した水切り
剤は、オゾン層の破壊はある程度解消されるものの不揮
発性の界面活性剤を含有しているためこれがしみの原因
になり問題視されている。更にハロゲン化炭化水素にエ
チルアルコールを添加したものは界面活性剤を添加した
ものに比べ、水切りする能力が低くこれを実用化するに
は種々の問題があった。
【０００３】近年、オゾン層を破壊しない水切り方法と
して完全フッ素化化合物を用いた物品の水切り方法（特
開平２−１８４３０号公報）があるが、これらのみの混
合物だけでは充分な水切り能を示さない。またこれらの
完全フッ素化化合物はアルコールをほとんど溶解しない
ため、従来の水切り剤のようにエタノール等を混合する
ことにより水切り能を高めることができなかった。
して完全フッ素化化合物を用いた物品の水切り方法（特
開平２−１８４３０号公報）があるが、これらのみの混
合物だけでは充分な水切り能を示さない。またこれらの
完全フッ素化化合物はアルコールをほとんど溶解しない
ため、従来の水切り剤のようにエタノール等を混合する
ことにより水切り能を高めることができなかった。
【０００４】これを解決する手段としては完全フッ素化
化合物に可溶な２，２，３，３，３−ペンタフルオロプ
ロパノール（以下５ＦＰという）を添加して水切り剤と
して用いる方法（特願平３−００７６００号公報）があ
る。この混合物は水切り能が高いものの５ＦＰ自体の毒
性が高く低毒性の添加剤が望まれていた。
化合物に可溶な２，２，３，３，３−ペンタフルオロプ
ロパノール（以下５ＦＰという）を添加して水切り剤と
して用いる方法（特願平３−００７６００号公報）があ
る。この混合物は水切り能が高いものの５ＦＰ自体の毒
性が高く低毒性の添加剤が望まれていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、水切
り能が高く、且つ毒性の低い水切り溶剤組成物を提供す
ることにある。
り能が高く、且つ毒性の低い水切り溶剤組成物を提供す
ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意研究を重
ねた結果、前記完全フッ素化化合物とアルコールにある
種の炭化水素を添加すると一様に混合することを発見し
た。更にこれは毒性が低く、前記目的に適合しうること
を見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至
った。
ねた結果、前記完全フッ素化化合物とアルコールにある
種の炭化水素を添加すると一様に混合することを発見し
た。更にこれは毒性が低く、前記目的に適合しうること
を見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至
った。
【０００７】すなわち、本発明は、（１）下記（Ｉ）〜
（ＩＸ）式で示される完全フッ素化化合物１種以上と、
（２）アルコール１種以上と、（３）炭素数４〜１０の
エーテル化合物又は炭化水素を含む水切り溶剤組成物で
ある。
（ＩＸ）式で示される完全フッ素化化合物１種以上と、
（２）アルコール１種以上と、（３）炭素数４〜１０の
エーテル化合物又は炭化水素を含む水切り溶剤組成物で
ある。
【０００８】
【化２】
【０００９】本発明で用いられる完全フッ素化化合物の
代表例としては、パーフルオロジブチルエーテル（沸点
１０２℃）、パーフルオロヘキサン（沸点５６℃）、パ
ーフルオロジメチルシクロブタン（沸点４５℃）、商品
名フロリナート（住友３Ｍ）の内、ＦＣ−７２（沸点５
６℃）、ＦＣ−８４（沸点８０℃）、ＦＣ−７７（沸点
９７℃）、ＦＣ−７５（沸点１０２℃）、商品名アフル
ード（旭硝子）の内、Ｅ−１０（沸点１００℃）、商品
名エフリード（関東電化工業）の内、ＫＰＦ−６１（沸
点５８℃）、ＫＰＦ−７２（沸点７６℃）、ＫＰＦ−８
２（沸点１０２℃）、商品名エフトップ（三菱金属）の
内、ＥＦ−Ｌ１０２（沸点１０２℃）、商品名ガルデン
（日本モンテジソン）の内、Ｄ８０（沸点８４℃）、Ｄ
ＥＴ（沸点９１℃）、Ｄ１００（沸点１０２℃）、Ｄ０
１（沸点１１０℃）が挙げられる。また、該完全フッ素
化化合物の沸点は、３０〜１１０℃の範囲であるのが望
ましい。沸点が３０℃未満では蒸発によるロスが多く、
また、１１０℃以上では乾燥速度が遅くなり実用的では
ない。
代表例としては、パーフルオロジブチルエーテル（沸点
１０２℃）、パーフルオロヘキサン（沸点５６℃）、パ
ーフルオロジメチルシクロブタン（沸点４５℃）、商品
名フロリナート（住友３Ｍ）の内、ＦＣ−７２（沸点５
６℃）、ＦＣ−８４（沸点８０℃）、ＦＣ−７７（沸点
９７℃）、ＦＣ−７５（沸点１０２℃）、商品名アフル
ード（旭硝子）の内、Ｅ−１０（沸点１００℃）、商品
名エフリード（関東電化工業）の内、ＫＰＦ−６１（沸
点５８℃）、ＫＰＦ−７２（沸点７６℃）、ＫＰＦ−８
２（沸点１０２℃）、商品名エフトップ（三菱金属）の
内、ＥＦ−Ｌ１０２（沸点１０２℃）、商品名ガルデン
（日本モンテジソン）の内、Ｄ８０（沸点８４℃）、Ｄ
ＥＴ（沸点９１℃）、Ｄ１００（沸点１０２℃）、Ｄ０
１（沸点１１０℃）が挙げられる。また、該完全フッ素
化化合物の沸点は、３０〜１１０℃の範囲であるのが望
ましい。沸点が３０℃未満では蒸発によるロスが多く、
また、１１０℃以上では乾燥速度が遅くなり実用的では
ない。
【００１０】本発明で用いられるアルコールの代表例と
しては、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコー
ル、ｓｅｃ−オクチルアルコール、イソブチルアルコー
ル、エタノール、１−ノナノール、２−メチル−１−ブ
タノール、２−プロペン−１−オール、３−ペンタノー
ル、イソアミルアルコール、２−ヘプタノール、１，５
−ペンタンジオール、４−メチル−２−ペンタノール、
ｎ−アミルアルコール、２−メチルシクロヘキサノー
ル、ｎ−ヘキシルアルコール、２−エチル−１−ブタノ
ール、ｎ−ウンデシルアルコール、イソノニルアルコー
ル、ヘキシレングリコール、３−メチル−２−ブタノー
ル、１−ブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール、オ
クチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、２−エ
チル−１，３−ヘキサンジオール、１，３−ブタンジオ
ール、１−プロパノール、２−メチル−１−ペンタノー
ル、ｎ−オクチルアルコール、２−プロピン−１−オー
ル、ｎ−デシルアルコール、１−ヘプタノール、ｓｅｃ
−アミルアルコールが挙げられ、好ましくはイソプロピ
ルアルコール若しくはエタノールが挙げられる。沸点が
３０℃未満では蒸発によるロスが大きく、沸点が２５０
℃より大きいと乾燥速度が遅くなるばかりでなく、完全
フッ素化化合物との沸点差が大きいため蒸留再生してい
る間に水切り溶剤組成物の組成が大きく変化し実用的で
はない。
しては、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコー
ル、ｓｅｃ−オクチルアルコール、イソブチルアルコー
ル、エタノール、１−ノナノール、２−メチル−１−ブ
タノール、２−プロペン−１−オール、３−ペンタノー
ル、イソアミルアルコール、２−ヘプタノール、１，５
−ペンタンジオール、４−メチル−２−ペンタノール、
ｎ−アミルアルコール、２−メチルシクロヘキサノー
ル、ｎ−ヘキシルアルコール、２−エチル−１−ブタノ
ール、ｎ−ウンデシルアルコール、イソノニルアルコー
ル、ヘキシレングリコール、３−メチル−２−ブタノー
ル、１−ブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール、オ
クチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、２−エ
チル−１，３−ヘキサンジオール、１，３−ブタンジオ
ール、１−プロパノール、２−メチル−１−ペンタノー
ル、ｎ−オクチルアルコール、２−プロピン−１−オー
ル、ｎ−デシルアルコール、１−ヘプタノール、ｓｅｃ
−アミルアルコールが挙げられ、好ましくはイソプロピ
ルアルコール若しくはエタノールが挙げられる。沸点が
３０℃未満では蒸発によるロスが大きく、沸点が２５０
℃より大きいと乾燥速度が遅くなるばかりでなく、完全
フッ素化化合物との沸点差が大きいため蒸留再生してい
る間に水切り溶剤組成物の組成が大きく変化し実用的で
はない。
【００１１】本発明で用いる炭素数４〜１０のエーテル
化合物又は炭化水素の代表例としては、ジエチルエーテ
ル、イソプロピルエーテル、ｎ−ヘキサン、２，２−ジ
メチルブタン、イソオクタン、イソヘキサン、ｎ−ペン
タンが挙げられる。水切り工程及び乾燥工程に供せられ
る物品にはガラス、セラミックス、鉄、アルミニウム、
亜鉛、銅、真鍮や各種合金がある。これらの物品に対し
て腐食を防止したり溶剤の分解を抑止する目的で各種の
安定剤、例えばニトロメタン等のニトロアルカン類、
１，４−ジオキサン、ジオキソラン等の環状エーテル
類、１，２−ブチレンオキサイド等のｖｉｃ−エポキシ
アルカン類、ベンゾトリアゾール類、エチレンジアミ
ン、エタノールアミン、ドデシルアミン、オクチルアミ
ン等のアミン類、安息香酸等のカルボン酸類を本発明の
水切り溶剤組成物に加えることができる。
化合物又は炭化水素の代表例としては、ジエチルエーテ
ル、イソプロピルエーテル、ｎ−ヘキサン、２，２−ジ
メチルブタン、イソオクタン、イソヘキサン、ｎ−ペン
タンが挙げられる。水切り工程及び乾燥工程に供せられ
る物品にはガラス、セラミックス、鉄、アルミニウム、
亜鉛、銅、真鍮や各種合金がある。これらの物品に対し
て腐食を防止したり溶剤の分解を抑止する目的で各種の
安定剤、例えばニトロメタン等のニトロアルカン類、
１，４−ジオキサン、ジオキソラン等の環状エーテル
類、１，２−ブチレンオキサイド等のｖｉｃ−エポキシ
アルカン類、ベンゾトリアゾール類、エチレンジアミ
ン、エタノールアミン、ドデシルアミン、オクチルアミ
ン等のアミン類、安息香酸等のカルボン酸類を本発明の
水切り溶剤組成物に加えることができる。
【００１２】本発明の水切り溶剤組成物は室温あるいは
この付近の温度で使用することができるが、場合により
溶剤組成物の沸点に近い温度あるいは沸点においても使
用し得る。本発明の水切り溶剤組成物は、一般に次のよ
うに使用される。水切り工程では緩やかな一定方向の流
れを持ち、槽から溢流している水切り溶剤組成物中に水
の付着した物品を浸漬し、水を分離し、浮上させる。浮
上した水は水切り溶剤組成物の溢流と共に槽から流出さ
せる。流出した水と水切り溶剤組成物は水分離槽に導
き、水分離槽の上部から水を、下部から水切り溶剤組成
物を抜き出す。更に乾燥工程では、水切り後の物品を加
熱した溶剤蒸気中に曝し、その蒸気の熱エネルギーで物
品表面を乾燥させる。
この付近の温度で使用することができるが、場合により
溶剤組成物の沸点に近い温度あるいは沸点においても使
用し得る。本発明の水切り溶剤組成物は、一般に次のよ
うに使用される。水切り工程では緩やかな一定方向の流
れを持ち、槽から溢流している水切り溶剤組成物中に水
の付着した物品を浸漬し、水を分離し、浮上させる。浮
上した水は水切り溶剤組成物の溢流と共に槽から流出さ
せる。流出した水と水切り溶剤組成物は水分離槽に導
き、水分離槽の上部から水を、下部から水切り溶剤組成
物を抜き出す。更に乾燥工程では、水切り後の物品を加
熱した溶剤蒸気中に曝し、その蒸気の熱エネルギーで物
品表面を乾燥させる。
【００１３】これらの水切り工程と乾燥工程は、通常一
連の連続装置で行われ、お互いに液の混合または混入が
起こる場合が多い。即ち、乾燥工程の溶剤蒸気が凝縮し
て水切り工程に導入されたり、水切り工程の水切り溶剤
組成物が乾燥工程の溶剤として補給されることが多い。
従って、水切り工程で使用される水切り溶剤組成物と乾
燥工程で用いられる溶剤は実質的に同一か極めて組成の
近似したものであることが望ましい。
連の連続装置で行われ、お互いに液の混合または混入が
起こる場合が多い。即ち、乾燥工程の溶剤蒸気が凝縮し
て水切り工程に導入されたり、水切り工程の水切り溶剤
組成物が乾燥工程の溶剤として補給されることが多い。
従って、水切り工程で使用される水切り溶剤組成物と乾
燥工程で用いられる溶剤は実質的に同一か極めて組成の
近似したものであることが望ましい。
【００１４】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。 （水切り能の測定）水切り溶剤組成物の水切り能は、２
５ｃｃのメスシリンダーにパテントブルーで着色した水
４ｃｃを入れ、その上から径２ｍｍのガラスビーズ１４
ｇを静かに入れる。しばらく静置した後、水切り溶剤組
成物を注ぎ込み、着色水が２ｃｃ上昇してくる時間を測
定、それぞれの溶剤の水切り能とした。時間が短い方が
水切り能が高いと判断した。
する。 （水切り能の測定）水切り溶剤組成物の水切り能は、２
５ｃｃのメスシリンダーにパテントブルーで着色した水
４ｃｃを入れ、その上から径２ｍｍのガラスビーズ１４
ｇを静かに入れる。しばらく静置した後、水切り溶剤組
成物を注ぎ込み、着色水が２ｃｃ上昇してくる時間を測
定、それぞれの溶剤の水切り能とした。時間が短い方が
水切り能が高いと判断した。
【００１５】
【実施例１〜５】完全フッ素化化合物とアルコールと炭
化水素を表１に示す割合で混合した水切り溶剤組成物の
水切り能（着色水上昇時間）を測定した。その結果を表
１に示す。
化水素を表１に示す割合で混合した水切り溶剤組成物の
水切り能（着色水上昇時間）を測定した。その結果を表
１に示す。
【００１６】
【比較例１〜５】ＣＦＣ−１１３にエチルアルコール１
０ｖｏｌ％を添加したもの（比較例１）、５ＦＰ単品
（比較例２）、完全フッ素化化合物単品（比較例３〜
５）を水切り溶剤組成物として用い、その水切り能（着
色水上昇時間）を測定したその結果を表２に示す。表中
１１１−Ｔは１，１，１−トリクロロエタンを指す。
０ｖｏｌ％を添加したもの（比較例１）、５ＦＰ単品
（比較例２）、完全フッ素化化合物単品（比較例３〜
５）を水切り溶剤組成物として用い、その水切り能（着
色水上昇時間）を測定したその結果を表２に示す。表中
１１１−Ｔは１，１，１−トリクロロエタンを指す。
【００１７】
【表１】
【００１８】
【表２】
【００１９】
【発明の効果】本発明の水切り溶剤組成物による水切り
乾燥方法により、完全フッ素化化合物の１種以上の混合
物による水切り能よりも高い水切り能が得られ、また従
来のフロン系の水切り溶剤組成物をも凌駕している。
乾燥方法により、完全フッ素化化合物の１種以上の混合
物による水切り能よりも高い水切り能が得られ、また従
来のフロン系の水切り溶剤組成物をも凌駕している。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 （１）下記（Ｉ）〜（ＩＸ）で示される
完全フッ素化化合物１種以上と、（２）アルコール１種
以上と、（３）炭素数４〜１０のエーテル化合物又は炭
化水素を含む水切り溶剤組成物。 【化１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15632491A JPH054003A (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 水切り溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15632491A JPH054003A (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 水切り溶剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH054003A true JPH054003A (ja) | 1993-01-14 |
Family
ID=15625304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15632491A Withdrawn JPH054003A (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 水切り溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH054003A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5560861A (en) * | 1993-04-01 | 1996-10-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Azeotropic compositions |
| WO1999063043A1 (en) * | 1998-06-05 | 1999-12-09 | 3M Innovative Properties Company | Cleaning and coating composition and methods of using same |
-
1991
- 1991-06-27 JP JP15632491A patent/JPH054003A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5560861A (en) * | 1993-04-01 | 1996-10-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Azeotropic compositions |
| WO1999063043A1 (en) * | 1998-06-05 | 1999-12-09 | 3M Innovative Properties Company | Cleaning and coating composition and methods of using same |
| US6274543B1 (en) | 1998-06-05 | 2001-08-14 | 3M Innovative Properties Company | Cleaning and coating composition and methods of using same |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980903 |