JPH0536269Y2 - - Google Patents

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JPH0536269Y2
JPH0536269Y2 JP1989067814U JP6781489U JPH0536269Y2 JP H0536269 Y2 JPH0536269 Y2 JP H0536269Y2 JP 1989067814 U JP1989067814 U JP 1989067814U JP 6781489 U JP6781489 U JP 6781489U JP H0536269 Y2 JPH0536269 Y2 JP H0536269Y2
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    • H01L21/68742Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 この考案は、前段処理部より給送された半導体
基板等(以下、単に基板と称する)を加熱、冷却
処理するのに用いられる基板の熱処理装置に関す
るものである。
《従来の技術》 この種の装置としては、従来より例えば第3図
中符号101で示すものが知られている。
これは一般に「オーブン」と称されており、前
段処理部100で例えばフオトレジスト塗布を終
えた基板Wを加熱処理し、引き続き後続処理部1
20へ基板Wを送り出すように構成されている。
即ち、複数の熱処理板102,103を上下多
段に配置して加熱処理部101を構成し、加熱処
理部101の近傍に基板Wのバツフア収容部10
6を並置し、何らかの事故で後続処理部120に
おける処理が中断した際に、熱処理済みの基板を
バツフア収容部106へ収容し、当該事故が解消
すれば、バツフア収容部106より後続処理部1
20へ基板を送り出すように構成されている。
《考案が解決しようとする課題》 一般に、この種の装置は限られたスペースのク
リーンルーム内に設置されることから、出来る限
り省スペース化を図ることが望ましい。しかしな
がら、上記従来例ではバツフア収容部106が加
熱処理部101に並設されているため設置面積が
広がり、上記要望に沿わないものであつた。
本考案はこのような事情を考慮したもので、設
置面積を小さくして省スペース化を図ることを技
術課題とする。
《課題を解決するための手段》 本考案は上記課題を解決するものとして以下の
ように構成される。
即ち、複数の熱処理板を上下多段に配置して構
成した熱処理部と、熱処理部の上側又は下側に配
設した基板のバツフア収容部と、基板を熱処理部
及びバツフア収容部へ給排する基板移載ロボツト
とを具備して成り、後続処理部における処理の中
断に際し、熱処理済みの基板をバツフア収容部へ
収容するように構成したことを特徴とするもので
ある。
《作用》 本考案は基板のバツフア収容部が熱処理部の上
側又は下側に配設されており、バツフア処理理部
独自の設置面積は不要となる。
《実施例》 第1図は本考案の一実施例を示す基板の熱処理
装置の斜視図である。
この熱処理装置は複数の熱処理板2〜4を上下
多段に配置して構成した熱処理部1と、熱処理部
1の上側に配置固定した基板Wのバツフア収容部
6と、基板Wを熱処理部1及びバツフア収容部6
へ給排する前後一組の基板移載ロボツト10,1
0とを具備して成り、後続処理部における処理が
中断した際に、熱処理済みの基板Wをバツフア収
容部6へ収容するとともに、中断が解かれた際に
は、バツフア収容部6に収容した基板Wを後続処
理部へ送り出すように構成されている。
上記熱処理部1は上段より順に加熱板2,3
と、冷却板4とを備え、基板Wを加熱板2又は3
で加熱処理した後、1枚の冷却板4で常温まで冷
却するように構成され、この実施例では加熱処理
に対して冷却処理能力が2倍となるように設定さ
れている。なお、加熱板や冷却板の数は、基板W
のサイズや種類に対応して適宜増減し得ることは
云うまでもない。また、各熱処理板2〜4には出
没自在の基板支持ピン5……が立設されており、
この基板支持ピン5を介して、基板移載ロボツト
10との間で基板Wを受け渡すように構成されて
いる。
上記バツフア収容部6は上下多段に形成した基
板収容溝7を備え、その収容溝7内へ基板Wを収
容するように構成されている。
上記の各基板移載ロボツト10は基板Wを吸着
保持する吸着アーム11と、吸着アーム11の基
端部を水平旋回可能に支持する旋回アーム12
と、旋回アーム12の基端部を水平旋回可能に支
持するアーム支持枠13と、アーム支持枠13を
上下動可能に支持する一組の昇降駆動ねじ14及
びスプライン軸15と、昇降駆動ねじ14及びス
プライン軸15をそれぞれ回転駆動する昇降駆動
モータ16及びアーム駆動モータ17とを具備し
て成り、昇降駆動モータ16及びアーム駆動モー
タ17を図示しない駆動制御手段で駆動制御する
ことにより、吸着アーム11で支持した基板Wを
熱処理部1及びバツフア収容部6へ給排するよう
に構成されている。
なお、第1図中符号18,19はそれぞれ昇降
駆動ねじ14及びスプライン軸15に付設された
回転位置検出手段であり、それぞれ昇降駆動ねじ
14又はスプライン軸15の回転位置を検出する
ことにより、アーム支持枠13の高さと旋回アー
ム12の旋回角度、及び吸着アーム11の伸長位
置等を位置決め制御するように構成されている。
上記スプライン軸15は、アーム支持枠13内
に設けた伝動ベルト等を介して旋回アーム12の
基端部支軸を旋回するように構成されているが、
その基本構造は一般のアーム旋回式のロボツトと
同様であるので図示を省略する。
この実施例では、熱処理部1の上手側に配置し
た基板移載ロボツト10で基板Wを加熱板2,3
へ供給し、熱処理部の下手側に配置した基板移載
ロボツト10で基板Wを冷却板4から後続処理部
へ排出するとともに、加熱板2,3から冷却板4
への基板の移載や、冷却板4からバツフア収容部
6への基板の移載は適宜空いているロボツト10
で行うことになる。
第2図は本考案の別の実施例を略示した概要図
である。
この実施例は、バツフア収容部6を熱処理部1
の下側に配置した点が上記の実施例と異なり、そ
の他の点では第1図に示すものと同様に構成され
ている。
なお、上記実施例では、いずれも基板移載ロボ
ツト10が昇降位置制御可能に構成されたものと
して説明したが、これに限るものではなく、熱処
理部及びバツフア収容部をロボツトに対して相対
的に昇降させるようにしてもよい。
《考案の効果》 以上の説明で明らかなように、本考案では基板
のバツフア収容部を熱処理部の上側又は下側に配
設したので、従来に比べてその分だけ設置面積を
小さくして、省スペース化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す基板の熱処理
装置の斜視図、第2図は本考案の別実施例を略示
した概要図、第3図は従来例を示す概要図であ
る。 1……熱処理部、2,3,4……熱処理板、6
……バツフア収容部、10……基板移載ロボツ
ト。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 複数の熱処理板を上下多段に配置して構成した
    熱処理部と、熱処理部の上側又は下側に配設した
    基板のバツフア収容部と、基板を熱処理部及びバ
    ツフア収容部へ給排する基板移載ロボツトとを具
    備して成り、後続処理部における処理の中断に際
    し、熱処理済みの基板をバツフア収容部へ収容す
    るように構成したことを特徴とする基板の熱処理
    装置。
JP1989067814U 1989-06-09 1989-06-09 Expired - Lifetime JPH0536269Y2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1989067814U JPH0536269Y2 (ja) 1989-06-09 1989-06-09
KR1019900008438A KR930010971B1 (ko) 1989-06-09 1990-06-08 기판을 열처리하기 위한 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1989067814U JPH0536269Y2 (ja) 1989-06-09 1989-06-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH038424U JPH038424U (ja) 1991-01-28
JPH0536269Y2 true JPH0536269Y2 (ja) 1993-09-14

Family

ID=13355791

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1989067814U Expired - Lifetime JPH0536269Y2 (ja) 1989-06-09 1989-06-09

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JP (1) JPH0536269Y2 (ja)
KR (1) KR930010971B1 (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59211243A (ja) * 1983-05-17 1984-11-30 Toshiba Corp 半導体基板処理装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59211243A (ja) * 1983-05-17 1984-11-30 Toshiba Corp 半導体基板処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR910001897A (ko) 1991-01-31
KR930010971B1 (ko) 1993-11-18
JPH038424U (ja) 1991-01-28

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