JPH05344927A - 鍋 - Google Patents

Info

Publication number
JPH05344927A
JPH05344927A JP19890292A JP19890292A JPH05344927A JP H05344927 A JPH05344927 A JP H05344927A JP 19890292 A JP19890292 A JP 19890292A JP 19890292 A JP19890292 A JP 19890292A JP H05344927 A JPH05344927 A JP H05344927A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pot
layer
pan
base material
tin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19890292A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Inoue
潔 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
INR Kenkyusho KK
Original Assignee
INR Kenkyusho KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by INR Kenkyusho KK filed Critical INR Kenkyusho KK
Priority to JP19890292A priority Critical patent/JPH05344927A/ja
Publication of JPH05344927A publication Critical patent/JPH05344927A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cookers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 従来のテフロン(登録商標)コーテイングの
欠点を除去し、鍋類の焼付、焦付防止効果の耐久性を高
めることができ、しかも熱効率を高めようとするもので
ある。 【構成】 鍋、釜、フライパン等の鍋類に於て、鍋母材
1の内面にTiNの鏡面層2を形成し、加熱底面に凹凸
を形成し、又は更に凹凸面にTiCの黒色化層3を形成
したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、鍋類の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の鍋、釜、フライパン等の鍋類は
鉄、ステンレス等によって構成されている。通常、内面
には食物の焼付等を防止するためにテフロンコーテイン
グが施されるが、金属へら等で擦ると容易に剥落ちてし
まう欠点がある。又、このテフロン(商品名)は前記離
型剤として効果はあるものの、鍋類にこれが厚く被覆さ
れると熱伝達効率を低下するから、強度をコーテイング
を厚くすることで補うことはできない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記のよう
なテフロンコーテイングの欠点を除去し、鍋類の焼付、
焦付防止効果の耐久性を高めることができ、しかも熱的
効果も高めることができるようにすることを目的とす
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】鍋、釜、フライパン等の
鍋類に於て、内面にTiNの鏡面層を形成したこと、
又、加熱底面に凹凸面の形成とか炭化物の黒色化層を形
成したことを特徴とする。
【0005】
【作用】本発明は前記のように鍋類の内面にTiNの鏡
面層を形成したから、離型性に優れ、調理食品の焼付、
焦付の無い安定した良好な調理ができる。しかも、この
TiNは硬度が高く、母材表面を硬化させることができ
ると共に剥離摩耗することなどなく耐久性が高く、鍋の
延命効果が得られる。又、鍋母材の加熱底面に凹凸面を
形成するとか炭化物の黒色化層を形成して吸熱効果を高
めることによって、熱効率の極めて高い優れた鍋類が得
られる効果がある。
【0006】
【実施例】以下、図面の一実施例により本発明を説明す
る。図1は鍋の断面図で、1が鍋を形成する母材で、こ
れはAl,ステンレス,鉄,MgTi,Ti,TiAl
V等が用いられる。2はこの内面にコーテイングされた
TiNの鏡面層、3は鍋の加熱底面にコーテイングした
炭化物、例えば、TiNC,TiC,SiC,WC,そ
の他の黒色化層である。鍋母材1の内面にTiNの鏡面
層2を形成するには、プラズマプレーテイング装置が用
いられる。その1例として図2により説明すると、4は
真空処理容器で、ポンプ5によって真空排気され、供給
口4aより反応ガスの供給が行なわれる。6はN等の
反応ガスボンベで、流量制御装置7を介して定量供給が
行なわれる。8は蒸着物質のTi材のワイヤ電極で、巻
回リールから供給され、駆動ローラ9により容器4内に
送入され、固定電極10に近接対向させる。11は供給
ワイヤ8の途中に通電する中間電極で、この電極10,
11間に衝撃電源12を接続する。13は母材ホルダ
で、イオンソースから隔つた位置に設けられ、これに蒸
着加工しようとする鍋母材1を取付固定する。14はむ
らのない蒸着をするためにホルダ13を回転する回転モ
ーター、15は母材ホルダ13に高周波電界を加える高
周波電源、16はワイヤ電極8のイオンソース側に設け
たシールド板で、バイアス電源17が接続してある。
【0007】以上において、ワイヤ電極8の線爆は、衝
撃電源12から電圧を印加することによって電極10,
11間のワイヤ電極8に衝撃電流が流れ、ワイヤを溶断
爆発して微細な金属蒸気、イオンを発生する。この線爆
発によって発生する金属イオン量及びエネルギーの制御
は電極10,11間のワイヤ8の長さと、電源12から
加える衝撃電力によって容易に制御できる。又、処理容
器4内にはボンベ6から反応ガスが供給され、これと真
空ポンプ5による排気制御によって室内を所要の反応ガ
ス圧に保つ。この供給反応ガスとイオンソースで発生さ
せた定量蒸気イオンとの化学反応が行われるが、TiN
を生成するために、ワイヤ電極8にTi材を用い、ボン
ベ6からの供給ガスにNを用いる。この化学反応は発
生させたTi蒸気及びイオンと供給したNガスを高周
波電源15による放電プラズマ中で充分に電離(イオ
ン)化し、エネルギーレベルを増大した状態で反応させ
反応促進させる。この反応と同時に反応物はシールド板
16に対して負電位に保たれた鍋母板1に向けて加速さ
れ蒸着し、TiN膜を形成することができる。鍋母材1
1は内面以外をシールしておくことによって、鍋内面に
のみTiNの鏡面層2を形成することができる。又、回
転装置14による回転により均一コーテイングを行なう
ことができる。
【0008】尚、高周波電源15によりバイアスは、コ
ンデンサ18で絶縁することによってホルダ13にはほ
ぼ高周波電圧に等しい値まで負にバイアスすることがで
きる。実験によれば、Nガスを10ml/minで供
給して2〜3×10−2Torr雰囲気に制御し、鍋母
材1から100mmの位置において、太さ0.5mm
φ、長さ100mmのTi材ワイヤに2000V,56
0μS,5kJouleのエネルギーを供給して線爆発
させた。高周波電源15には13.65MHz、500
Wを用いてイオンプレーテイングしたとき、母材に5m
inで厚さ約2μmのTiNを被覆でき、密着性の極め
て良好被膜が形成できた。
【0009】次に、鍋母材1の加熱底面に炭化物3を形
成するには、ボンベ6からの供給ガスとしてC
CH,C,C等を用いる。ホルダ13に
固定する母材1を反転して裏側底面を表にして固定し、
炭素ガス中で放電を行ない、イオンプレーテイングする
ことによってTiC膜の黒色化層の形成ができる。尚、
金属蒸気イオンの発生には、対向する電極に所要の金属
材を用い、その対向間隙にアーク放電を行なってもよ
く、又、母材自体にTi材を用いる場合には反応ガスの
供給のみでTiN,TiC膜の形成ができる。又、炭化
物による黒色化層の形成にはSiC,WC,TiNC,
その他が用いられる。又、蒸着層の形成には、前記イオ
ンプレーテイング以外のPVD,CVDが任意に利用で
きる。
【0010】図3は鍋母材1の加熱底面に凹凸31を形
成したものである。この凹凸31の形成にはダル加工を
利用する。ダル加工には、例えばレーザーのパルス照射
を利用する。パルス照射を母材1の底面全体に走査して
処理し、深さが10〜30μm、直径が15〜50μm
程度の凹部を全面的に均一に形成処理する。他にダル加
工はショットピーニング、パルス放電、その他の任意の
方法が利用できるが、この凹凸面31の形成処理によっ
て、加熱表面積を増加して吸熱効果を高めることができ
る。勿論、この凹凸面31の上に図4のように炭化物層
3を形成して黒色比の処理をすることができ、更に一層
吸熱効果を高めることができる。例えば、鍋母材の底面
に最大凹凸30μHmaxのダル加工をした鍋の吸熱効
果は、約30%程度向上し、その凹凸面にTiCの黒色
比層を形成したときは吸熱効果が更に30%程度上が
り、全体で約70程度吸熱効果を高めることができた。
尚、このテストは6340Cal/Unitのガス炎で
テストしたものである。
【0011】
【発明の効果】以上のように本発明は、鍋類の円面にT
iNの鏡面層を形成したから、離型性に優れ、調理食品
の焼付、焦付の無い安定した良好な調理ができる。この
TiNは硬度が高く母材表面を硬化させることができる
と共に、剥離摩耗することがなく耐久性が高く鍋の延命
効果が得られる。又、本発明は、鍋母材の加熱底面に炭
化物の黒色下層を形成し、凹凸化して表面積を増加する
処理をし、或はその両方の処理によって吸熱効率を高め
るようにしたから、熱効率の極めて高い鍋が容易に得ら
れる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の側断面図。
【図2】図1の処理工程の処理装置の構成図。
【図3】本発明の他の実施例側断面図。
【図4】本発明の他の実施例側断面図。
【符号の説明】
1 鍋母材 2 TiN層 3 TiC黒色化層 31 凹凸面

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 鍋、釜、フライパン等の鍋類に於て、内
    面にTiNの鏡面層を形成すると共に加熱底面に凹凸面
    を形成したことを特徴とする鍋。
  2. 【請求項2】 請求項1に於て、加熱底面に炭化物の黒
    色化層を形成したことを特徴とする鍋。
JP19890292A 1992-06-16 1992-06-16 Pending JPH05344927A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19890292A JPH05344927A (ja) 1992-06-16 1992-06-16

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19890292A JPH05344927A (ja) 1992-06-16 1992-06-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05344927A true JPH05344927A (ja) 1993-12-27

Family

ID=16398847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19890292A Pending JPH05344927A (ja) 1992-06-16 1992-06-16

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05344927A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2807071A1 (fr) * 2000-03-28 2001-10-05 Dja Dodane Jean Et Associes Revetement anti-adherent ceramo-metallique pour ustensiles culinaires
WO2005082162A1 (ja) * 2004-03-01 2005-09-09 Yugen Kaisha Marumankiko 製麺装置
JP2006521176A (ja) * 2003-03-24 2006-09-21 ナショナル・マテリアル・エルピー 耐変色性セラミックコーティングを有する食物用器具およびその製法
US8569665B2 (en) * 2006-10-17 2013-10-29 Meyer Intellectual Properties Limited Cookware with tarnish protected copper exterior
CN105506536A (zh) * 2014-09-26 2016-04-20 中国科学院金属研究所 一种碳钢炒锅耐蚀工艺
CN112244615A (zh) * 2019-07-22 2021-01-22 马兆瑞 无致癌性不锈炒锅

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2807071A1 (fr) * 2000-03-28 2001-10-05 Dja Dodane Jean Et Associes Revetement anti-adherent ceramo-metallique pour ustensiles culinaires
JP2006521176A (ja) * 2003-03-24 2006-09-21 ナショナル・マテリアル・エルピー 耐変色性セラミックコーティングを有する食物用器具およびその製法
WO2005082162A1 (ja) * 2004-03-01 2005-09-09 Yugen Kaisha Marumankiko 製麺装置
US8569665B2 (en) * 2006-10-17 2013-10-29 Meyer Intellectual Properties Limited Cookware with tarnish protected copper exterior
US8841590B2 (en) 2006-10-17 2014-09-23 Meyer Intellectual Properties Limited Cookware with tarnish protected exterior
CN105506536A (zh) * 2014-09-26 2016-04-20 中国科学院金属研究所 一种碳钢炒锅耐蚀工艺
CN112244615A (zh) * 2019-07-22 2021-01-22 马兆瑞 无致癌性不锈炒锅

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1269061A (en) Process for the production of diamond-like carbon coatings
US7504008B2 (en) Refurbishment of sputtering targets
US6176982B1 (en) Method of applying a coating to a metallic article and an apparatus for applying a coating to a metallic article
US4486462A (en) Method for coating by glow discharge
RU2660502C1 (ru) Способ нанесения покрытия на поверхность стального изделия
JPH05344927A (ja)
EP2829635A1 (en) Method for controlled production of diffusion based coatings by vacuum cathodic arc systems
JP2004292934A (ja) イオン窒化装置およびこれを用いた成膜装置
KR20190056558A (ko) 금색 박막을 형성하기 위한 Ti-Zr 합금타겟의 제조방법과 이를 이용한 금색 박막의 코팅방법
JP4402898B2 (ja) 物理的蒸着装置
Xu et al. Plasma surface alloying
RU2671026C1 (ru) Способ комбинированного плазменного упрочнения поверхности изделий из титановых сплавов
JPH07208520A (ja) セラミックコーティングされた機械要素部品およびセラミックコーティング方法
KR0176664B1 (ko) 티타늄계 코팅재료의 진공증착방법 및 그 장치
GB1574677A (en) Method of coating electrically conductive components
RU2146724C1 (ru) Способ нанесения композиционных покрытий
JP3679113B2 (ja) 層堆積方法および装置
US7250196B1 (en) System and method for plasma plating
JP2667309B2 (ja) Hcdイオンプレーティングによる耐摩耗性被膜形成法
JPH07258825A (ja) セラミック被膜被覆材並びにその製造方法及び装置
JP2004298562A (ja) 刃物の表面処理方法とその刃物
JP3224488B2 (ja) 硬質カーボン膜の形成方法
JPH029104B2 (ja)
JP4210141B2 (ja) 硬質窒化炭素膜の形成方法
JPS60125366A (ja) 部材の表面処理方法