JPH05340886A - 光電子増倍管の保護機構 - Google Patents
光電子増倍管の保護機構Info
- Publication number
- JPH05340886A JPH05340886A JP17381592A JP17381592A JPH05340886A JP H05340886 A JPH05340886 A JP H05340886A JP 17381592 A JP17381592 A JP 17381592A JP 17381592 A JP17381592 A JP 17381592A JP H05340886 A JPH05340886 A JP H05340886A
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- JP
- Japan
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- laser beam
- wafer
- reflector
- photomultiplier tube
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエハ表面検査装置において、回転機構２が
着脱位置にある時間中における、受光系５に対するレー
ザビームＬT の入射を防止し、光電子増倍管52を保護す
る。 【構成】 回転機構２が着脱位置にあるとき、投光系４
よりのレーザビームＬTを受光し、これを受光系５に入
射しない水平方向に反射する反射器６を、回転機構２の
駆動部21に取り付ける。 【効果】 ウエハ１の検査に支障せず、光電子増倍管52
の無用な劣化が防止される。
着脱位置にある時間中における、受光系５に対するレー
ザビームＬT の入射を防止し、光電子増倍管52を保護す
る。 【構成】 回転機構２が着脱位置にあるとき、投光系４
よりのレーザビームＬTを受光し、これを受光系５に入
射しない水平方向に反射する反射器６を、回転機構２の
駆動部21に取り付ける。 【効果】 ウエハ１の検査に支障せず、光電子増倍管52
の無用な劣化が防止される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ウエハ表面検査装置
における光電子増倍管の保護機構に関する。
における光電子増倍管の保護機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体のＩＣは、シリコンウエハに配線
パターンを形成して製作される。素材のウエハの表面に
凹凸や異物が存在すると、これが欠陥となってＩＣの品
質が劣化するので、ウエハ表面検査装置により検査され
ている。ウエハ表面検査装置は、配線パターンの微細化
に伴って検出すべき欠陥の大きさが漸次に微小となり、
最近では０．１μｍ以下の微小欠陥を検査できる装置が
開発されている。
パターンを形成して製作される。素材のウエハの表面に
凹凸や異物が存在すると、これが欠陥となってＩＣの品
質が劣化するので、ウエハ表面検査装置により検査され
ている。ウエハ表面検査装置は、配線パターンの微細化
に伴って検出すべき欠陥の大きさが漸次に微小となり、
最近では０．１μｍ以下の微小欠陥を検査できる装置が
開発されている。
【０００３】図２は上記のウエハ表面検査装置（以下単
に検査装置という）の要部の基本構成を示す。図２(a)
において、検査装置は被検査のウエハ１を装着して回転
するスピンドル22と、これを駆動する駆動部21よりなる
回転機構２、および回転機構２をウエハ１の半径Ｒの方
向に移動する移動テーブル３を具備する。これに対し
て、レーザ光源41と投光レンズ42よりなる投光系４と、
それぞれ複数の集光レンズ51と光電子増倍管52よりなる
受光系５を設けて構成される。検査においては、予め、
レーザ光源41と各光電子増倍管52に対して所定の電圧を
加圧して、それぞれの動作を安定化する。回転機構２を
点線で示すウエハの着脱位置に停止し、スピンドル22に
ウエハ１を装着し、駆動部21によりウエハ１をθ回転す
る。移動テーブル３によりウエハ１を半径Ｒの方向に移
動しながら、レーザビームＬT をウエハ１の表面に対し
て鉛直に投射する。θ回転とＲ移動によりウエハ１の表
面はレーザビームＬT によりスパイラル状に走査され、
表面の欠陥による散乱光ＬR が受光系５の各集光レンズ
51により集光され、これが各光電子増倍管52に受光され
て欠陥検出信号が出力される。図２(b) は受光系５の構
成を示す平面図で、ウエハ１の表面欠陥による散乱光Ｌ
R は、欠陥の形状などによりその指向性が変動するの
で、できるかぎり多方向で受光することが必要であり、
図ではそれぞれ４個の集光レンズ51a,51b,51c,51d と、
光電子増倍管52a,52b,52c,52d を、レーザビームＬT の
投射点に対して対称的に配置してある。この場合、各集
光レンズ51と光電子増倍管52の光軸の方向は、欠陥が良
好に検出できるように、ウエハ１の表面に対して適切な
角度に設定される。
に検査装置という）の要部の基本構成を示す。図２(a)
において、検査装置は被検査のウエハ１を装着して回転
するスピンドル22と、これを駆動する駆動部21よりなる
回転機構２、および回転機構２をウエハ１の半径Ｒの方
向に移動する移動テーブル３を具備する。これに対し
て、レーザ光源41と投光レンズ42よりなる投光系４と、
それぞれ複数の集光レンズ51と光電子増倍管52よりなる
受光系５を設けて構成される。検査においては、予め、
レーザ光源41と各光電子増倍管52に対して所定の電圧を
加圧して、それぞれの動作を安定化する。回転機構２を
点線で示すウエハの着脱位置に停止し、スピンドル22に
ウエハ１を装着し、駆動部21によりウエハ１をθ回転す
る。移動テーブル３によりウエハ１を半径Ｒの方向に移
動しながら、レーザビームＬT をウエハ１の表面に対し
て鉛直に投射する。θ回転とＲ移動によりウエハ１の表
面はレーザビームＬT によりスパイラル状に走査され、
表面の欠陥による散乱光ＬR が受光系５の各集光レンズ
51により集光され、これが各光電子増倍管52に受光され
て欠陥検出信号が出力される。図２(b) は受光系５の構
成を示す平面図で、ウエハ１の表面欠陥による散乱光Ｌ
R は、欠陥の形状などによりその指向性が変動するの
で、できるかぎり多方向で受光することが必要であり、
図ではそれぞれ４個の集光レンズ51a,51b,51c,51d と、
光電子増倍管52a,52b,52c,52d を、レーザビームＬT の
投射点に対して対称的に配置してある。この場合、各集
光レンズ51と光電子増倍管52の光軸の方向は、欠陥が良
好に検出できるように、ウエハ１の表面に対して適切な
角度に設定される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】さて図３において、回
転機構２はウエハの着脱位置に停止しているとする。レ
ーザ光源41はつねに動作しているので、これより出力さ
れたレーザビームＬT は、回転機構２が着脱位置に停止
中、移動テーブル３の表面に投射されて反射光Ｌs を反
射する。この反射光Ｌs は受光系５のいずれかの集光レ
ンズ51に、直接入力するか、または光学系を構成する他
の部品を経由して間接的に入力して集光され、光電子増
倍管52に入射する。元来、光電子増倍管52は電圧の加圧
または無加圧にかかわらず、入射光により性能が劣化す
るもので、従って劣化防止のためには検査時以外には極
力、無用な光の入射を避けることが是非とも必要とされ
ている。このために、移動テーブル３の表面を梨地など
の乱反射面に加工するとか、光拡散板を設けるとか、ま
たは黒色の無反射面に塗装するとかの種々の方法が実験
された。しかし、なにぶんにもレーザビームＬT の強度
は非常に強いため、上記の各種の反射防止方法はいずれ
も不完全で、劣化防止効果が挙がらないことが判明し
た。そこで、移動テーブル３の手前で、受光系５に入射
しない方向にレーザビームＬT を反射する方法が有効と
考えられる。ただし、ウエハの検査に支障しないことが
必要である。この発明は以上の考えにより、回転機構２
が検査位置にあるときはウエハ検査に支障せず、着脱位
置にあるとき、レーザビームＬT を受光系５に入射しな
い方向に反射して、光電子増倍管52の無用な劣化を防止
する保護機構を提供することを目的とする。
転機構２はウエハの着脱位置に停止しているとする。レ
ーザ光源41はつねに動作しているので、これより出力さ
れたレーザビームＬT は、回転機構２が着脱位置に停止
中、移動テーブル３の表面に投射されて反射光Ｌs を反
射する。この反射光Ｌs は受光系５のいずれかの集光レ
ンズ51に、直接入力するか、または光学系を構成する他
の部品を経由して間接的に入力して集光され、光電子増
倍管52に入射する。元来、光電子増倍管52は電圧の加圧
または無加圧にかかわらず、入射光により性能が劣化す
るもので、従って劣化防止のためには検査時以外には極
力、無用な光の入射を避けることが是非とも必要とされ
ている。このために、移動テーブル３の表面を梨地など
の乱反射面に加工するとか、光拡散板を設けるとか、ま
たは黒色の無反射面に塗装するとかの種々の方法が実験
された。しかし、なにぶんにもレーザビームＬT の強度
は非常に強いため、上記の各種の反射防止方法はいずれ
も不完全で、劣化防止効果が挙がらないことが判明し
た。そこで、移動テーブル３の手前で、受光系５に入射
しない方向にレーザビームＬT を反射する方法が有効と
考えられる。ただし、ウエハの検査に支障しないことが
必要である。この発明は以上の考えにより、回転機構２
が検査位置にあるときはウエハ検査に支障せず、着脱位
置にあるとき、レーザビームＬT を受光系５に入射しな
い方向に反射して、光電子増倍管52の無用な劣化を防止
する保護機構を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明は上記の目的を
達成する光電子増倍管の保護機構であって、上記のウエ
ハ表面検査装置の回転機構が着脱位置にあるとき、投光
系よりのレーザビームを受光して、受光系に入射しない
水平方向に反射する反射器を、回転機構の駆動部に取り
付けたものである。
達成する光電子増倍管の保護機構であって、上記のウエ
ハ表面検査装置の回転機構が着脱位置にあるとき、投光
系よりのレーザビームを受光して、受光系に入射しない
水平方向に反射する反射器を、回転機構の駆動部に取り
付けたものである。
【０００６】
【作用】上記の保護機構においては、回転機構の駆動部
に取り付けられた反射器は、回転機構がウエハの着脱位
置にあるとき、鉛直方向のレーザビームを受光して水平
方向に反射する。一方、受光系は上方にあるため、この
反射光は入射せず、光電子増倍管の劣化が防止される。
ウエハの検査においては、反射器は駆動部とともに移動
し、検査位置においてレーザビームがウエハに投射され
るので、反射器は検査に支障しない。
に取り付けられた反射器は、回転機構がウエハの着脱位
置にあるとき、鉛直方向のレーザビームを受光して水平
方向に反射する。一方、受光系は上方にあるため、この
反射光は入射せず、光電子増倍管の劣化が防止される。
ウエハの検査においては、反射器は駆動部とともに移動
し、検査位置においてレーザビームがウエハに投射され
るので、反射器は検査に支障しない。
【０００７】
【実施例】図１はこの発明の一実施例を示す。(a) にお
けるウエハ表面検査装置は前記した図２と同一のものと
し、図３と同様にウエハ１の着脱位置にあるとする。な
お、図２と同一部品には同一番号を付与し、各部の動作
の再説明は省略する。
けるウエハ表面検査装置は前記した図２と同一のものと
し、図３と同様にウエハ１の着脱位置にあるとする。な
お、図２と同一部品には同一番号を付与し、各部の動作
の再説明は省略する。
【０００８】図１(a) において、回転機構２の駆動部21
にブラケット23を設け、その先端付近のレーザビームＬ
T に対応する位置に反射器６を取り付ける。(b) は反射
器６の垂直断面図で、(イ) と(ロ) の二例を示す。二例と
も適当な金属の円筒を用い、その中心にレーザビームＬ
T が入射する入射孔61を穿孔する。(イ) の場合は、入射
孔61の下部に中心軸に対して４５°の傾斜角を有する反
射平面62を形成し、レーザビームＬT を水平方向に反射
する。(ロ) の場合は、球面などの反射曲面63とし、やは
り水平方向に反射する。これらの反射平面62、反射曲面
63には良好な反射率は必要ないが、しかし乱反射しない
ことが必要である。なぜなら、もし乱反射するときは、
その一部が上方に向かって受光系５に入射する危険があ
るからである。以上により回転機構２が着脱位置にある
とき、レーザビームＬT は反射器６によりほとんどが水
平方向に反射され、一部が上方に向かっても入射孔61に
遮ぎられて光電子増倍管52に入射せず、その劣化が防止
される。ウエハ１の検査においては、回転機構２ととも
に反射器６は半径Ｒ方向（右方向）に移動するので検査
に支障しない。
にブラケット23を設け、その先端付近のレーザビームＬ
T に対応する位置に反射器６を取り付ける。(b) は反射
器６の垂直断面図で、(イ) と(ロ) の二例を示す。二例と
も適当な金属の円筒を用い、その中心にレーザビームＬ
T が入射する入射孔61を穿孔する。(イ) の場合は、入射
孔61の下部に中心軸に対して４５°の傾斜角を有する反
射平面62を形成し、レーザビームＬT を水平方向に反射
する。(ロ) の場合は、球面などの反射曲面63とし、やは
り水平方向に反射する。これらの反射平面62、反射曲面
63には良好な反射率は必要ないが、しかし乱反射しない
ことが必要である。なぜなら、もし乱反射するときは、
その一部が上方に向かって受光系５に入射する危険があ
るからである。以上により回転機構２が着脱位置にある
とき、レーザビームＬT は反射器６によりほとんどが水
平方向に反射され、一部が上方に向かっても入射孔61に
遮ぎられて光電子増倍管52に入射せず、その劣化が防止
される。ウエハ１の検査においては、回転機構２ととも
に反射器６は半径Ｒ方向（右方向）に移動するので検査
に支障しない。
【０００９】
【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明による光
電子増倍管の保護機構においては、ウエハ表面検査装置
の回転機構の駆動部に反射器を取り付け、回転機構がウ
エハの着脱位置にあるとき、鉛直方向のレーザビームを
反射器が受光して水平方向に反射するので、無用の光が
受光系に入射せず、光電子増倍管の劣化が防止され、ま
た、ウエハの検査においては、反射器は回転機構ととも
に移動して検査に支障しないもので、検査装置の信頼性
の確保に寄与するところが大きい。
電子増倍管の保護機構においては、ウエハ表面検査装置
の回転機構の駆動部に反射器を取り付け、回転機構がウ
エハの着脱位置にあるとき、鉛直方向のレーザビームを
反射器が受光して水平方向に反射するので、無用の光が
受光系に入射せず、光電子増倍管の劣化が防止され、ま
た、ウエハの検査においては、反射器は回転機構ととも
に移動して検査に支障しないもので、検査装置の信頼性
の確保に寄与するところが大きい。
【図１】 この発明の一実施例を示し、(a) はウエハ表
面検査装置に対する反射器の取り付け図、(b) は反射器
の垂直断面図をそれぞれ示す。
面検査装置に対する反射器の取り付け図、(b) は反射器
の垂直断面図をそれぞれ示す。
【図２】 ウエハ表面検査装置の基本構成を示し、(a)
は垂直断面図、(b)は受光系の平面図をそれぞれ示す。
は垂直断面図、(b)は受光系の平面図をそれぞれ示す。
【図３】 レーザビームによる光電子増倍管の無用な劣
化の説明図である。
化の説明図である。
１…ウエハ、２…回転機構、21…駆動部、22…スピンド
ル、23…ブラケット、３…移動テーブル、４…投光系、
41…レーザ光源、42…投光レンズ、５…受光系、51,51
a,51b,51c,51d…集光レンズ、52,52a,52b,52c,52d…光
電子増倍管、６…反射器、61…入射孔、62…反射平面、
63…反射曲面。
ル、23…ブラケット、３…移動テーブル、４…投光系、
41…レーザ光源、42…投光レンズ、５…受光系、51,51
a,51b,51c,51d…集光レンズ、52,52a,52b,52c,52d…光
電子増倍管、６…反射器、61…入射孔、62…反射平面、
63…反射曲面。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三友 健司 東京都千代田区大手町二丁目６番２号 日 立電子エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 細野 秀利 東京都千代田区大手町二丁目６番２号 日 立電子エンジニアリング株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 被検査のウエハを水平に装着して回転す
るスピンドルと、該スピンドルを回転する駆動部よりな
る回転機構、および該回転機構を該ウエハの着脱位置と
検査位置の間に移動する移動テーブルとを具備し、該着
脱位置で該スピンドルに装着され、該検査位置に移動し
た前記ウエハの表面に対して、レーザビームを鉛直に投
光する投光系と、該表面に存在する異物などの散乱光
を、複数の方向でそれぞれ受光する複数の光電子増倍管
を有する受光系とにより構成されたウエハ表面検査装置
において、前記回転機構の駆動部に取り付けられ、前記
回転機構が前記着脱位置にあるとき、前記投光系よりの
レーザビームを受光して、前記受光系に入射しない水平
方向に反射する反射器を設けたことを特徴とする、光電
子増倍管の保護機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17381592A JP2696640B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 光電子増倍管の保護機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17381592A JP2696640B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 光電子増倍管の保護機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05340886A true JPH05340886A (ja) | 1993-12-24 |
| JP2696640B2 JP2696640B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=15967672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17381592A Expired - Lifetime JP2696640B2 (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 光電子増倍管の保護機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2696640B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008268140A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 |
| JP2012027038A (ja) * | 2011-10-26 | 2012-02-09 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 |
-
1992
- 1992-06-08 JP JP17381592A patent/JP2696640B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008268140A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 |
| JP2012027038A (ja) * | 2011-10-26 | 2012-02-09 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2696640B2 (ja) | 1998-01-14 |
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