JPH05332726A - 測長装置の測定誤差補正方法 - Google Patents

測長装置の測定誤差補正方法

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JPH05332726A
JPH05332726A JP13885992A JP13885992A JPH05332726A JP H05332726 A JPH05332726 A JP H05332726A JP 13885992 A JP13885992 A JP 13885992A JP 13885992 A JP13885992 A JP 13885992A JP H05332726 A JPH05332726 A JP H05332726A
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JP
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sample
measurement
measuring device
length
length measuring
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JP13885992A
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English (en)
Inventor
Yoshihiro Hoshino
吉弘 星野
Kiyoshi Nagasawa
潔 長澤
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Hitachi Construction Machinery Co Ltd
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Hitachi Construction Machinery Co Ltd
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  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ミラーの高精度の組立、調整の必要なく、ミ
ラーのうねりを補正して高精度の測定を行うことができ
る測長装置の測定測定誤差補正方法を提供すること。 【構成】 テーブル8にパターン30p1 〜30pn
有する試料30を載置し、パターン30pの多数位置の
座標を測定する。次に、試料30をパターン30p1
30pn の配列方向と平行な直線の回りに180度回転
し(裏返しにし)、同様に座標を測定する。各測定値に
は、ミラー24X、24Yのうねりによる誤差および試
料30の製作誤差が含まれるが、後者は両測定において
「+」と「−」の関係にあるので、両測定値を加算して
1/2を乗算すればミラー24X、24Yのうねりの誤
差分を取り出すことができ、これを補正値として用い
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、数十〜数百mm範囲の長
さ及び座標を測長装置で高精度測定する場合に生じる測
定誤差を補正する測長装置の測定誤差補正方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、各種技術分野においては、使用す
る装置が微小化、かつ、高精度化され、これに伴い製造
時における装置の各部寸法も厳格な管理が必要となり、
このため、サブμmオーダの精度で測定ができる測長装
置が要望されるようになった。ここで、上記のように高
精度の測長が必要な対象物として、テレビジョン、コン
ピュータ等の表示に使用される液晶表示装置を例示して
説明する。
【0003】図5は液晶表示装置の電極の配置図であ
る。図で、1は基板、2は基板1上に縦横に多数配置さ
れた電極である。これら電極2は、例えば、横方向の長
さが400mmの基板1上に横方向一列に6700個配
列されている。これら各電極2は同一寸法に形成されな
ければならず、かつ、互いに予め定められた正確な間隔
で配置される必要がある。即ち、図5に示すように隣接
する電極2間の寸法x1、y1 は正確でなければならな
い。したがって、このような電極パターンを製造するた
めの原板(マスク)における上記寸法x1 、y1 は厳格
に管理されなければならない。そして、このためには、
高精度の測長装置が必要である。例えば、上記の例で
は、寸法x1 は60μmであるので、測長装置としては
サブμmオーダの精度のものが要求される。このような
測長装置を図6により説明する。
【0004】図6は測長装置の系統図である。図で、
X、Yは座標軸を示す。この測長装置はX軸およびY軸
方向の測定が可能な2軸の測長装置である。5X、5Y
はそれぞれX軸、Y軸方向の移動機構が備えられている
ステージであり、ステージ5Yは図示されない空気定盤
上に支持され、ステージ5Xはステージ5Y上において
Y軸方向に移動可能に設置されている。6はステージ5
X上でX軸方向に移動可能な移動台である。7Yはステ
ージ5XをY軸方向に変位させるモータ、7Xは移動台
6をX軸方向に変位させるモータである。8は移動台6
に固定されたテーブル、9はテーブル8上に載置された
上記原板、9pは原板9に形成された電極パターンを示
す。この電極パターン9pの各電極は、図5に示す各電
極2と同一寸法、同一間隔で配列されている。
【0005】10は電極パターン9pを拡大して観察す
るオートフォーカス付の顕微鏡、11は顕微鏡10を支
持するスタンド、12は原板9を照明する光源、13は
光源12を支持するとともにその光を導く導光管、14
は顕微鏡10の視野内の像を撮影するCCDカメラであ
り、像に応じた信号を出力する。16は画像処理装置で
あり、画像処理部16aおよび表示部16bで構成さ
れ、CCDカメラ14で撮影された顕微鏡像の信号に基
づいて所要の処理を行いこれを表示するとともに、後述
するように当該顕微鏡像についての種々の処理を実行す
る。表示部16bは等間隔に縦横に配置された微粒子
(画素)で構成されている。これらの画素は表示部16
bにおける発光単位であり、各画素を選択的に発光させ
ることにより映像が表示される。各画素は画像処理部1
6aに内蔵されたメモリのアドレスに対応せしめられて
いるのが通常である。どの画素を発光させるかの選択
は、カメラ14の信号に基づいて画像処理部16aで行
われる。17は測長装置の制御装置である。
【0006】20a、20b、20cは台、21は台2
0a上に固定されたレーザヘッド、22はこのレーザヘ
ッド21からのレーザ光線をX軸方向およびY軸方向に
分離するビームスプリッタである。23X、23Yはそ
れぞれ台20c、20b上に固定されたインタフェロメ
ータ、25X、25Yはそれぞれ台20c、20b上に
固定されたレシーバである。24は試料テーブル8に固
定されたL型ミラーであり、X軸方向に延びるミラー2
4XおよびY軸方向に延びるミラー24Yで構成されて
いる。26はパルスコンパレータである。これらにより
レーザ変位計が構成される。なお、レーザ光線による測
長原理は知られているので説明は省略する。
【0007】このような測長装置の動作を画像処理装置
16の表示像を示す図7および図8を参照しながら説明
する。まず、原板9をテーブル8上にセットし、表示部
16bに表示された顕微鏡10の視野を観察しながら、
制御装置17によりテーブル8を移動させ、原板9の最
端部の電極パターン9p1 を顕微鏡10の視野に捉え
る。このときの顕微鏡像が図7に示されている。図7
で、Aは顕微鏡10の視野、Cは顕微鏡10の中心線に
対応する中心線、9p01は電極パターン9p1 の像であ
る。
【0008】画像処理装置16により電極パターン9p
1 の像9p01のエッジを投影分布法等の方法により確定
し、次いで、視野中央を原点とする座標系における垂直
方向のエッジのX座標fおよび水平方向のエッジのY座
標gを、その間の画素数をカウントすることにより求め
る。さらに、このときのX軸およびY軸のレーザ変位計
による測定値LXA、LYAを読み取る。かくして、レーザ
変位計の座標系における電極パターン9p1 の左下隅の
座標AL は、AL {(LXA+f、LYA+g)}となり、
この座標AL は制御装置17に記憶される。
【0009】次に、制御装置17はモータ7X、7Yに
指令信号を出力し、テーブル8を移動して原板9におけ
る次の電極パターン9p2 を顕微鏡10の視野に捉え
る。このときの顕微鏡像が図8に示されている。図8で
図7と同一部分には同一符号が付してある。9p02は電
極パターン9p2 の像である。この像9p02に対しても
像9p01と同じ処理がなされ、電極パターン9p2 の左
下隅の座標BL {(LXB+h、LYB+i)}が求めら
れ、制御装置17に記憶される。
【0010】制御装置17は、得られた座標値AL 、B
L に基づいて最端部の電極パターン9p1 の左下隅を原
点とした座標系における次の電極パターン9p2 の左下
隅の座標BL を次のように算出する。 BL {(LXB+h)−(LXA+f)、(LYB+i)−
(LYA+g)} さらに、制御装置17は座標BL に基づいて、最端部の
電極パターン9p1 の左下隅から次の電極パターン9p
2 の左下隅までの距離を演算する。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】このような測長装置の
測定精度は、上記値LXA、LXB、LYA、LYBを測定する
レーザ変位計の測定精度に左右されるのは明らかであ
る。ところで、レーザ変位計による測定に用いられるミ
ラー24X、24Yには微小なうねりが存在するのを避
けることはできず、このうねりが測定精度に大きく影響
する。例えば、上記測長装置の測定精度を±0.5μm
とするためには、当然、ミラー24X、24Yのうねり
も±0.5μm以下としなければならない。しかしなが
ら、数百mmの長さをもつミラー24X、24Yを±
0.5μm以下の平坦度で測長装置に組込むことはほと
んど不可能であり、仮にこれが可能であっても、その組
立、調整に極めて多くの手間と時間を要することとな
る。
【0012】本発明の目的は、上記従来技術における課
題を解決し、組立、調整が容易であり、かつ、高精度の
測定を行うことができる測長装置の測定誤差補正方法を
提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、入力信号に応じて移動する移動ステー
ジ、測長対象物を載置し前記移動ステージにより移動せ
しめられる試料テーブル、前記測長対象物の像を拡大す
る顕微鏡、この顕微鏡の拡大像を撮影するカメラ、前記
試料テーブルに固定されたミラー、このミラーにレーザ
光を反射させることにより前記試料テーブルの移動量を
測定するレーザ変位計、前記カメラが撮影した顕微鏡像
を処理する画像処理部、およびこの画像処理部で処理さ
れた顕微鏡像を表示する表示部で構成された測長装置に
おいて、この測長装置により、表面に直線状に配列され
たパターンを有する試料における当該パターンの多数位
置の座標と、当該試料の裏面における前記パターンの多
数位置の座標とを測定し、両者の測定により得られた値
に基づいて前記ミラーのうねりを演算し、これを補正値
として記憶し、この補正値により前記測長装置の測定値
を補正することを特徴とする。
【0014】又、上記試料の辺の長さが当該測定装置の
測定領域の所定方向の長さより短いとき、前記試料を前
記測定領域の前記所定方向に沿って移動させることによ
り、当該試料が前記所定方向における測定領域全てに位
置するようにし、かつ、当該各位置は隣接位置相互に重
なりを存在させ、各移動位置毎に前記試料の表面および
裏面についての前記測定を行うようにしたことも特徴と
する。
【0015】
【作用】試料表面のパターンに対して多数位置の座標を
測定し、次に、試料を裏返しにし、その裏面についても
同様にパターンの多数位置の座標を測定する。これら表
裏両者の測定結果には、それぞれミラーのうねりによる
誤差とパターンの製作誤差とが含まれているが、パター
ンの製作誤差は表面と裏面では「+」「−」が反転して
現れるので、これを打ち消すことが可能になり、これに
より、両者の測定結果からミラーのうねりの誤差を取り
出すことができる。これを補正値として記憶し、測長対
象物の測定時、当該補正値により測定結果を補正する。
【0016】試料が短く、所定方向の測定領域全体をカ
バーできない場合、当該方向に沿って試料を移動させて
試料が測定領域全体に位置するようにし、その際、隣接
する位置相互に重なりが存在するようにする。そして、
各移動位置毎に測長装置により上記と同一方法での測定
を行い、上記と同様に補正値を得る。
【0017】
【実施例】以下、本発明を図示の実施例に基づいて説明
する。図1は本発明の実施例に係る測長装置の測定誤差
補正方法を説明する説明図である。図で、8はテーブ
ル、24X、24Yはミラーであり、これらは図6に示
すものと同じである。Eは測長装置の測定領域を示し、
x=0〜Lx 、y=0〜Ly の範囲に設定されている。
30は一辺が測定領域Eのx方向の長さより長い寸法を
有する透明又は半透明の材料より成る試料であり、多数
のパターン30pが一列に配置されている。30p1
最左端のパターン、30pn は最右端のパターンを示
す。又、30p1LU はパターン30p1 の左下隅を、3
0pnLU はパターン30pn の左下隅を示す。試料30
上の文字「ABC」は実際に描かれてはおらず、単に理
解を容易にするために描かれたものである。
【0018】ここで、ミラー24Yのうねりの補正値を
得る方法について説明する。まず、試料30を図1に示
すように、ミラー24Yの長さ方向とパターン30pの
配列方向とが平行になるようにテーブル8上に載置す
る。この状態で、例えば、パターン30p1 の左下隅3
0p1LU を原点とし、これとパターン30pn の左下隅
30pnLU とを結ぶ直線をX軸とする座標系を設定し、
測長装置により、パターン30pの所定パターンの所定
位置の座標を前述と同じ方法で測定する(表面側測
定)。
【0019】次に、試料30をX軸と平行な直線を軸と
して180度回転して(裏返して)テーブル8上に載置
する。この状態が図2に示されている。図2の試料30
上の文字「ABC」が反転していることから試料30の
裏返しの状態が明瞭に判る。この裏返しの状態で、図1
に示す場合と同様の測定を行う(裏面側測定)。
【0020】上記表面側測定および裏面側測定の測定結
果には、パターン30pの製作誤差とミラー24Yのう
ねりによる誤差とが含まれている。これを図3により説
明する。図3はミラー24Yの仮想のうねり、試料30
の仮想の製作誤差、および測定結果を示すグラフであ
る。図で、M(x)はミラー24YのY軸方向のうね
り、G(x)は試料30の表面側測定における製作誤
差、G2 (x)は試料30の裏面側測定における製作誤
差、S(x)は表面側測定における測定結果、S
2 (x)は裏面側測定における測定結果を示す。うねり
M(x)、製作誤差G(x)、およびG2 (x)はいず
れも未知であり、図3に示すこれらのグラフは想像上の
グラフである。測定結果S(x)、S2 (x)は既知で
あり、これらのグラフは、パターンに対する多数位置の
測定値に基づいて最小2乗法等の手法により近似した結
果のグラフである。
【0021】ところで、測定値S(x)はミラー24Y
のうねりと表面側測定時の試料30の製作誤差とを含ん
だ値であるので、次式で表される。 S(x)=G(x)−M(x)…………(1) 又、測定値S2 (x)はミラー24Yのうねりと裏面側
測定時の試料30の製作誤差とを含んだ値であるので、
次式で表される。 S2 (x)=G2 (x)−M(x)…………(2) ここで、誤差G2 (x)は裏面側測定時のものであるか
ら、表面側測定時の誤差G(x)に対して「+」、
「−」が反転した関係にあり、G2 (x)=−G(x)
となる。したがって、上記(2)式は、 S2 (x)=−G(x)−M(x)…………(3) となる。そこで、(1)式と(3)式を加算すると、 −M(x)=(S(x)+S2 (x))/2…………(4) となり、ミラー24Yのうねりを補正する値(−M
(x))を得ることができ、この値は制御装置17に記
憶される。なお、補正値(−M(x))も多数の測定値
に基づく最小2乗法等により得られた値である。
【0022】以後、測長装置により測定される被測長物
の測定結果は上記補正値で補正されるので、ミラーのう
ねりが存在していても高精度の測定を行うことができ、
又、測定誤差を避けるための測長装置の高精度の組立、
調整を不要とすることができる。
【0023】なお、ミラー24Xの補正値も上記ミラー
24Yと同様の手法で求めることができるのは明らかで
ある。
【0024】図4は本発明の他の実施例に係る測長装置
の測定誤差補正方法を説明する説明図である。図で、図
1に示す部分と同一部分には同一符号が付してある。4
0はさきの実施例の試料30に相当する試料であり、多
数のパターンが配置されている。さきの実施例の試料3
0が測定領域Eのx方向の全領域をカバーする長さを有
するのに対して、本実施例の試料40のx方向の寸法は
測定領域Eのx方向の寸法より短い。
【0025】このような試料40を用いてミラーのうね
りの補正値を求めるには、まず、図4に示すように、試
料40を、x=Lx1〜Lx2の範囲に相当するテーブル8
上の位置に設置し、当該範囲についてさきの実施例と同
じ方法により補正値(−M(x))を求めるとともに、
試料40上のパターン40pを表す曲線を求める。
【0026】次に、試料40を一点鎖線Fで示す位置に
移動し、同様の測定を行い、補正値と試料40上のパタ
ーン40pを表す曲線とを求める。この測定位置Fは、
x=0〜Lx1をカバーするとともに、x=Lx1〜Lx2
重なる領域Wを有する。全く同様に、試料40を一点鎖
線Hで示す位置に移動し、同様の測定を行い、補正値と
試料40上のパターン40pを表す曲線とを求める。こ
の測定位置Hは、x=Lx2〜Lx (Lx は図1に示すよ
うに測定領域Eの右端を示す)をカバーするとともに、
x=Lx1〜Lx2と重なる領域Wを有する。
【0027】第1の位置と第2の位置との重なり領域W
のパターン40pの曲線、又、第1の位置と第3の位置
との重なり領域Wのパターン40pの曲線をそれぞれ一
致させることにより、x=0〜Lx1、x=Lx1〜Lx2
x=Lx2〜Lx の各範囲で得られた各補正値を正確に合
成して、x=0〜Lx の範囲の補正値を得ることができ
る。本実施例もさきの実施例と同じ効果を奏する。
【0028】
【発明の効果】以上述べたように、本発明では、パター
ンを備えた試料を用いて、試料表面および裏面でパター
ンの多数位置の座標を測定し、両者の測定値に基づいて
ミラーのうねりを補正する補正値を得るようにしたの
で、高精度の測定を行うことができ、又、測定誤差を避
けるための測長装置の高精度の組立、調整を不要とする
ことができる。
【0029】さらに、試料の所定方向の長さが測定領域
に対して短くても、隣接位置相互に重なりが存在するよ
うに試料を移動させ、各位置毎に同一手段による測定を
行うようにしたので、長さの長い試料を用いた場合と同
様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係る測長装置の測定誤差補正
方法を説明する説明図である。
【図2】本発明の実施例に係る測長装置の測定誤差補正
方法を説明する説明図である。
【図3】図1、2に示す方法を用いて補正値を得る演算
を説明するグラフである。
【図4】本発明の他の実施例に係る測長装置の測定誤差
補正方法を説明する説明図である。
【図5】測長対象原板の平面図である。
【図6】測長装置の系統図である。
【図7】顕微鏡の視野を示す図である。
【図8】顕微鏡の視野を示す図である。
【符号の説明】
8 テーブル 10 顕微鏡 16画像処理装置 24X、24Y ミラー 30、40 試料 30p1 、30pn パターン

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入力信号に応じて移動する移動ステー
    ジ、測長対象物を載置し前記移動ステージにより移動せ
    しめられる試料テーブル、前記測長対象物の像を拡大す
    る顕微鏡、この顕微鏡の拡大像を撮影するカメラ、前記
    試料テーブルに固定されたミラー、このミラーにレーザ
    光を反射させることにより前記試料テーブルの移動量を
    測定するレーザ変位計、前記カメラが撮影した顕微鏡像
    を処理する画像処理部、およびこの画像処理部で処理さ
    れた顕微鏡像を表示する表示部で構成された測長装置に
    おいて、この測長装置により、表面に直線状に配列され
    たパターンを有する試料における当該パターンの多数位
    置の座標と、当該試料の裏面における前記パターンの多
    数位置の座標とを測定し、両者の測定により得られた値
    に基づいて前記ミラーのうねりを演算し、これを補正値
    として記憶し、この補正値により前記測長装置の測定値
    を補正することを特徴とする測長装置の測定誤差補正方
    法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記試料は、透明体
    又は半透明体であることを特徴とする測長装置の測定誤
    差補正方法。
  3. 【請求項3】 請求項1において、前記試料は、少なく
    ともその一辺が前記測長装置の測定領域の所定方向の長
    さを超える長さであることを特徴とする測長装置の測定
    誤差補正方法。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の測長装置の測定誤差補正
    方法において、前記試料の辺の長さが当該測定装置の測
    定領域の所定方向の長さより短いとき、前記試料を前記
    測定領域の前記所定方向に沿って移動させることによ
    り、当該試料が前記所定方向における測定領域全てに位
    置するようにし、かつ、当該各位置は隣接位置相互に重
    なりを存在させ、各移動位置毎に前記試料の表面および
    裏面についての前記測定を行うようにしたことを特徴と
    する測長装置の測定誤差補正方法。
JP13885992A 1992-05-29 1992-05-29 測長装置の測定誤差補正方法 Pending JPH05332726A (ja)

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