JPH05326890A - Output buffer circuit - Google Patents

Output buffer circuit

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JPH05326890A
JPH05326890A JP11439392A JP11439392A JPH05326890A JP H05326890 A JPH05326890 A JP H05326890A JP 11439392 A JP11439392 A JP 11439392A JP 11439392 A JP11439392 A JP 11439392A JP H05326890 A JPH05326890 A JP H05326890A
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JP
Japan
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effect transistor
circuit
field effect
mos field
output
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Application number
JP11439392A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshikatsu Jinbo
敏且 神保
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide the output buffer circuit of a semiconductor integrated circuit provided with a read-only memory, where the output buffer circuit can be set optimal in characteristics even if the operating voltage of a power supply is different. CONSTITUTION:The output S4 of a drive circuit 4 and the output S5 of a drive circuit 5 are inputted into the gates of a P-type MOS transistor P1 and an N-type MOS transistor N1 which drive a data output terminal 2, and a control circuit 14 possessed of a memory element MC of the same structure with a read-only memory is provided. An N-type MOS transistor N4 and a P-type MOS transistor P4 are set into a conductive state or a non-conductive state corresponding to data which are written in the memory MC, whereby the P-type MOS transistor P1 and the N-type MOS transistor N1 are changed in conduction speed, and thus an output buffer circuit optimal in characteristics to the different voltage of a power supply can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は出力バッファ回路に関
し、特に、製造工程中において情報の書込みを行なう読
出し専用記憶素子を含む半導体集積回路に用いられる出
力バッファ回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an output buffer circuit, and more particularly to an output buffer circuit used in a semiconductor integrated circuit including a read-only memory element for writing information during a manufacturing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路の製造工程において情報
の書き込みが行なわれる読み出し専用記憶素子には、例
えば、MOS型電界効果トランジスタ(以下MOSトラ
ンジスタという)のしきい値電圧を製造工程において選
択的に変化させて情報を記憶させる、一般にマスクRO
M(Read Only Memory)と呼ばれる読
み出し専用記憶素子がある。
2. Description of the Related Art For a read-only memory element in which information is written in a manufacturing process of a semiconductor integrated circuit, for example, a threshold voltage of a MOS field effect transistor (hereinafter referred to as a MOS transistor) is selectively used in the manufacturing process. Mask RO that changes and stores information
There is a read-only memory element called M (Read Only Memory).

【0003】この記憶素子は、図4(a)に示す断面図
のように、P型基板41上にN型のソース・ドレイン拡
散層42,43を設け、さらにP型基板41上にゲート
絶縁層44を介してゲート電極45を配置したN型エン
ハンスメントMOSトランジスタと、図4(b)に示す
断面図のように、P型基板41上に、N型のソース・ド
レイン拡散層42,43と、さらにP型基板41上にゲ
ート絶縁層44を介してゲート電極45を配置し、ゲー
ト電極45下のチャンネル部分46に、りんなどのN型
不純物をチャンネルドープしてしきい値電圧を負にした
N型ディプリーションMOSトランジスタを用意し、記
憶させる情報によって、このN型エンハンスメントMO
Sトランジスタか、N型ディプリーションMOSトラン
ジスタかを選択することで、情報を記憶する。
In this memory element, as shown in the sectional view of FIG. 4A, N-type source / drain diffusion layers 42 and 43 are provided on a P-type substrate 41, and gate insulation is performed on the P-type substrate 41. An N-type enhancement MOS transistor having a gate electrode 45 arranged via a layer 44, and N-type source / drain diffusion layers 42 and 43 on a P-type substrate 41 as shown in the sectional view of FIG. 4B. Further, a gate electrode 45 is arranged on the P-type substrate 41 via a gate insulating layer 44, and a channel portion 46 under the gate electrode 45 is channel-doped with an N-type impurity such as phosphorus to make the threshold voltage negative. This N-type enhancement MO transistor is prepared and stored according to the information to be stored.
Information is stored by selecting an S transistor or an N-type depletion MOS transistor.

【0004】すなわち、図4(c)に示すゲート電圧−
ドレイン電流特性図において、N型エンハンスメントM
OSトランジスタの特性は、実線NEで示すように、し
きい値電圧は正であり、この例ではゲート電圧VG が1
V以上で導通状態になる。N型ディプリーションMOS
FETの特性は実線NDで示すように、しきい値電圧は
負であり、この例ではゲート電圧VG が−3V以上で導
通状態になる。この記憶素子から情報を読み出す場合に
は、ゲート電圧VG を0Vにすれば、N型エンハンスメ
ントMOSトランジスタならば記憶素子は非導通状態と
なる、N型ディプレリーションMOSトランジスタなら
ば記憶素子は導通状態となるので、この記憶素子に流れ
る電流を検出して情報を読み出すことが可能である。
尚、記憶させる情報は、顧客から供給されるデータによ
って半導体集積回路の製造工程において書き込みを行な
う。
That is, the gate voltage shown in FIG.
In the drain current characteristic diagram, N-type enhancement M
The characteristic of the OS transistor is that the threshold voltage is positive, as indicated by the solid line NE, and the gate voltage V G is 1 in this example.
When V or more, it becomes conductive. N-type depletion MOS
The characteristic of the FET is that the threshold voltage is negative as shown by the solid line ND, and in this example, it becomes conductive when the gate voltage V G is -3 V or higher. When reading information from this storage element, if the gate voltage V G is set to 0 V, the storage element becomes non-conductive in the case of an N-type enhancement MOS transistor, and the storage element becomes conductive in the case of an N-type depletion MOS transistor. As a result, the current can be detected by reading the current flowing through the memory element.
The information to be stored is written in the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit by the data supplied by the customer.

【0005】このような読み出し専用記憶素子を有する
半導体集積回路には、情報を半導体集積回路外部に出力
するための出力バッファ回路が設けられている。図5
(a)に従来の出力バッファ回路の一例の回路図を示
す。同図を参照すると、この出力バッファ回路は、電源
線(電位VCC)1とデータ出力端子2との間に設けられ
たP型MOSトランジスタP1と、接地線(電位VSS
3とデータ出力端子2との間に設けられたN型MOSト
ランジスタN1とを有している。又、電源線1と接地線
3との間に、P型MOSトランジスタP2と抵抗素子R
1とN型MOSトランジスタN2とが直列に接続され、
P型MOSトランジスタP2と抵抗素子R1との接続点
を出力端とする駆動回路4が設けられ、その出力端がP
型MOSFETトランジスタP1のゲートに接続されて
いる。
A semiconductor integrated circuit having such a read-only memory element is provided with an output buffer circuit for outputting information to the outside of the semiconductor integrated circuit. Figure 5
A circuit diagram of an example of a conventional output buffer circuit is shown in (a). Referring to the figure, this output buffer circuit includes a P-type MOS transistor P1 provided between a power supply line (potential V CC ) 1 and a data output terminal 2 and a ground line (potential V SS ).
3 and the data output terminal 2 and an N-type MOS transistor N1. Further, between the power line 1 and the ground line 3, a P-type MOS transistor P2 and a resistance element R are provided.
1 and the N-type MOS transistor N2 are connected in series,
A drive circuit 4 whose output end is a connection point between the P-type MOS transistor P2 and the resistance element R1 is provided, and the output end is P
Type MOSFET transistor P1.

【0006】又、電源線1と接地線3との間に、P型M
OSトランジスタP3と抵抗素子R2とN型MOSトラ
ンジスタN3とが直列接続され、抵抗素子R2とN型M
OSトランジスタN3の接続点を出力端とする駆動回路
5が設けられ、その出力端がN型MOSトランジスタN
1のゲートに接続されている。出力データ信号Dは入力
端子6を介して、P型MOSトランジスタP2,P3と
N型MOSトランジスタN2,N3のそれぞれのゲート
に入力されている。
Further, between the power line 1 and the ground line 3, a P-type M
The OS transistor P3, the resistance element R2, and the N-type MOS transistor N3 are connected in series, and the resistance element R2 and the N-type M transistor are connected.
A drive circuit 5 whose output end is the connection point of the OS transistor N3 is provided, and the output end is an N-type MOS transistor N.
1 is connected to the gate. The output data signal D is input to the gates of the P-type MOS transistors P2 and P3 and the N-type MOS transistors N2 and N3 via the input terminal 6.

【0007】以下に、この回路の動作について、図6に
示す電圧波形図を用いて説明する。図6に示すように、
時刻T1で出力データ信号Dが高レベルから低レベルに
変化すると、駆動回路4のP型MOSトランジスタP2
は導通状態になり、N型MOSトランジスタN2が非導
通状態となるので、出力S4はP型MOSトランジスタ
P2によって高レベルとなる。同時に、駆動回路5のP
型MOSトランジスタP3が導通状態になりN型MOS
トランジスタN3が非導通状態となるので、出力S5は
P型MOSトランジスタP3によって抵抗素子R2を介
して高レベルとなる。すなわち、P型MOSトランジス
タP1のゲート信号である出力S4が高レベルになるこ
とでP型MOSトランジスタP1は非導通状態になり、
N型MOSトランジスタN1のゲート信号である出力S
5が高レベルになることでN型MOSトランジスタN1
は導通状態になる。その結果、データ出力端子2はN型
MOSトランジスタN1を介して放電され、低レベルに
なる。次に、時刻T2で出力データ信号Dが低レベルか
ら高レベルに変化すると、駆動回路4のP型MOSトラ
ンジスタP2が非導通状態になり、N型MOSトランジ
スタN2が導通状態となるので、出力S4は抵抗素子R
1とN型MOSトランジスタN2とを介して低レベルと
なる。同時に、駆動回路5のP型MOSトランジスタP
3が非導通状態になりN型MOSトランジスタN3が導
通状態となるので、出力S5はこのN型MOSトランジ
スタN3によって低レベルとなる。すなわち、P型MO
SトランジスタP1のゲート信号である出力S4が低レ
ベルになることでP型MOSトランジスタP1が導通状
態になり、N型MOSトランジスタN1のゲート信号で
ある出力S5が低レベルになることでN型MOSトラン
ジスタN1は非導通状態になる。その結果、データ出力
端子2はP型MOSトランジスタP1によって充電さ
れ、高レベルになる。
The operation of this circuit will be described below with reference to the voltage waveform diagram shown in FIG. As shown in FIG.
When the output data signal D changes from the high level to the low level at time T1, the P-type MOS transistor P2 of the drive circuit 4
Becomes conductive and the N-type MOS transistor N2 becomes non-conductive, so that the output S4 becomes high level by the P-type MOS transistor P2. At the same time, P of the drive circuit 5
Type MOS transistor P3 becomes conductive and N type MOS
Since the transistor N3 becomes non-conductive, the output S5 becomes high level by the P-type MOS transistor P3 via the resistance element R2. That is, the output S4 which is the gate signal of the P-type MOS transistor P1 becomes high level, so that the P-type MOS transistor P1 becomes non-conductive,
The output S which is the gate signal of the N-type MOS transistor N1
When 5 becomes high level, N-type MOS transistor N1
Becomes conductive. As a result, the data output terminal 2 is discharged through the N-type MOS transistor N1 and becomes low level. Next, when the output data signal D changes from the low level to the high level at time T2, the P-type MOS transistor P2 of the drive circuit 4 becomes non-conductive and the N-type MOS transistor N2 becomes conductive, so that the output S4 Is a resistance element R
1 and low level via the N-type MOS transistor N2. At the same time, the P-type MOS transistor P of the drive circuit 5
Since 3 becomes non-conductive and the N-type MOS transistor N3 becomes conductive, the output S5 becomes low level by this N-type MOS transistor N3. That is, P-type MO
When the output S4 which is the gate signal of the S transistor P1 becomes low level, the P-type MOS transistor P1 becomes conductive, and when the output S5 which is the gate signal of the N-type MOS transistor N1 becomes low level, the N-type MOS transistor becomes The transistor N1 becomes non-conductive. As a result, the data output terminal 2 is charged by the P-type MOS transistor P1 and becomes high level.

【0008】ここで、実際の集積回路のチップ上におけ
る出力バッファ回路を考えると、図5(b)に示すよう
に、この半導体集積回路8では、半導体チップ7上に、
上述の出力バッファ回路を含む回路ブロック(図示省略
する)が形成されている。これらの回路の動作に必要な
電源電圧および接地電位は、外部から集積回路パッケー
ジのリード端子9CC,9SSに入力され、ボンディン
グワイヤなどの金属の細線10CC,10SSを介し
て、チップ7上のボンディングパッド11CC,11S
Sに伝達され、更に、チップ7上の電源線1および接地
線3によってそれぞれの回路に供給される。従って、リ
ード端子9CC,9SSとチップ上の出力バッファ回路
などの回路の電源線1,接地線3との間には、配線に寄
生するインダクタンスLCC,LSSが存在する。
Here, considering the output buffer circuit on the chip of the actual integrated circuit, as shown in FIG. 5B, in this semiconductor integrated circuit 8, on the semiconductor chip 7,
A circuit block (not shown) including the above-mentioned output buffer circuit is formed. The power supply voltage and the ground potential necessary for the operation of these circuits are externally input to the lead terminals 9CC and 9SS of the integrated circuit package, and the bonding pads on the chip 7 are connected through the thin metal wires 10CC and 10SS such as bonding wires. 11CC, 11S
It is transmitted to S and further supplied to each circuit by the power supply line 1 and the ground line 3 on the chip 7. Therefore, inductances L CC and L SS parasitic on the wiring exist between the lead terminals 9CC and 9SS and the power supply line 1 and the ground line 3 of the circuit such as the output buffer circuit on the chip.

【0009】そのため、図5(a)に示した出力バッフ
ァ回路において、データ出力端子2を高速に充放電する
と、電源電圧VCCおよび接地電位VSSが変動し、出力バ
ッファ回路と同一半導体チップ上に形成された他の回路
が誤動作してしまう。従来、この電源電圧VCCや接地電
位VSSの変動を小さく抑えるため、P型MOSトランジ
スタP1やN型MOSトランジスタN1の相互伝達コン
ダクタンスを動作スピードを満足する範囲で小さくした
り、または、図4(a)に示すように、駆動回路4,5
に抵抗素子R1,R2を設け、P型MOSトランジスタ
P1とN型トランジスタN1のゲート電圧の変化をなだ
らかにして、急激な電流の変化を防止している。
Therefore, in the output buffer circuit shown in FIG. 5A, when the data output terminal 2 is charged and discharged at high speed, the power supply voltage V CC and the ground potential V SS fluctuate, and the same semiconductor chip as the output buffer circuit is provided. The other circuit formed in the above will malfunction. Conventionally, in order to suppress the fluctuations of the power supply voltage V CC and the ground potential V SS to be small, the mutual transfer conductance of the P-type MOS transistor P1 and the N-type MOS transistor N1 is reduced within a range satisfying the operation speed, or FIG. As shown in (a), the drive circuits 4, 5
Resistor elements R1 and R2 are provided in the circuit to smooth the changes in the gate voltage of the P-type MOS transistor P1 and the N-type transistor N1 to prevent a sudden change in current.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の出力バ
ッファ回路は、一般には、動作時の外部電源電圧は、5
Vであるので、この外部電源電圧が5Vの時の出力バッ
ファ回路の動作による半導体集積回路内部の電源電圧V
CC,接地電位VSSの変動の大きさと、出力バッファ回路
の動作速度とを考慮して最適設計されるのが普通であ
る。しかし近年では、動作時の外部電源電圧を5V以外
とする半導体集積回路も要求されている。例えば、日経
マイクロデバイス,1991年,2月号,第83〜87
頁,「専用品から汎用品へ広がるMOS LSIの低電
圧化」のP83左1行〜4行に、「外部電源を5Vから
3Vや3.3Vに下げた低電圧MOS LSIの製品が
汎用メモリ,汎用プロセッサ,ゲートアレイなどに広が
ってきた」と示されているように、外部電源電圧を3V
付近に設定した半導体集積回路が求められている。とこ
ろがこのような低電源電圧の半導体集積回路において、
図4(a)で示した従来の出力バッファ回路を外部電源
電圧を3Vで動作させると、出力バッファ回路の動作に
よる半導体集積回路内部の電源電圧VCC,接地電位VSS
の変動は小さくなるが、動作速度が遅くなる。そのた
め、外部電源電圧を3V付近で使用する場合には、出力
バッファ回路を構成するMOSトランジスタの大きさを
変更したり、図4(a)中の抵抗素子R1,R2の抵抗
値を変更したり、或いは削除する必要がある。このよう
な変更には、半導体集積回路の製造工程であるフォトリ
ソグラフィ工程で用いるマスクパターンの変更が必要で
あり、外部電源電圧が5Vの製品と3Vの製品とを、マ
スクパターンを区別して開発および生産しなくてはなら
なくなる。この結果、開発工数および生産上の管理工数
が多くなってしまう。またマスクROMでは一般に、そ
の製造工程中で情報を書き込む工程の直前の工程まで工
程を進めた半導体基板(以下、中間製品という)を事前
に製造しておく。そして、顧客からのデータを受注した
後に残りの製造工程を作業して出荷する。ところが、上
述したマスクパターンの変更が、情報を書き込む工程よ
りも前工程であれば多くの種類の中間製品を作っておく
必要があり、生産管理が繁雑になる欠点がある。
In the above conventional output buffer circuit, the external power supply voltage during operation is generally 5
Since the external power supply voltage is 5V, the power supply voltage V inside the semiconductor integrated circuit is determined by the operation of the output buffer circuit when the external power supply voltage is 5V.
It is usually optimally designed in consideration of the magnitude of fluctuations in CC and ground potential V SS and the operating speed of the output buffer circuit. However, in recent years, a semiconductor integrated circuit in which the external power supply voltage during operation is other than 5 V is also required. For example, Nikkei Microdevice, 1991, February issue, 83-87.
Page, "Lower voltage of MOS LSI spreading from dedicated products to general-purpose products", P83 left 1st to 4th lines, "Low voltage MOS LSI products with external power supply reduced from 5V to 3V or 3.3V are general-purpose memory , General-purpose processors, gate arrays, etc. ”, the external power supply voltage is 3V.
There is a demand for semiconductor integrated circuits set in the vicinity. However, in such a low power supply voltage semiconductor integrated circuit,
When the conventional output buffer circuit shown in FIG. 4A is operated with an external power supply voltage of 3V, the power supply voltage V CC and the ground potential V SS inside the semiconductor integrated circuit due to the operation of the output buffer circuit are increased.
Fluctuation is small, but the operation speed is slow. Therefore, when the external power supply voltage is used in the vicinity of 3 V, the size of the MOS transistor forming the output buffer circuit is changed, or the resistance values of the resistance elements R1 and R2 in FIG. 4A are changed. Or, it needs to be deleted. Such a change requires a change in a mask pattern used in a photolithography process, which is a manufacturing process of a semiconductor integrated circuit, and a product having an external power supply voltage of 5V and a product having an external power supply voltage of 3V are developed by distinguishing the mask pattern. You have to produce it. As a result, man-hours for development and management for production increase. Further, in the mask ROM, in general, a semiconductor substrate (hereinafter, referred to as an intermediate product), which has been processed up to the step immediately before the step of writing information in the manufacturing process, is manufactured in advance. Then, after receiving the data from the customer, the remaining manufacturing processes are performed and shipped. However, if the change of the mask pattern described above is a step prior to the step of writing information, it is necessary to make many kinds of intermediate products, and there is a drawback that production management becomes complicated.

【0011】本発明は上記のような問題に鑑みてなされ
たものであって、電源電圧の異なる半導体集積回路に対
して、それぞれの電源電圧に最適な出力特性を持つ出力
バッファ回路を、回路変更やフォトリソグラフィ工程で
のマスクパターンの変更なしに容易に形成できるように
することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and for semiconductor integrated circuits having different power supply voltages, an output buffer circuit having optimum output characteristics for each power supply voltage is modified. Another object of the present invention is to enable easy formation without changing the mask pattern in the photolithography process.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の出力バッファ回
路は、製造工程中において情報の書込みを行なう読出し
専用記憶素子を含む半導体集積回路の出力バッファ回路
であって、第1の電源線と第2の電源線との間に第1M
OS電界効果トランジスタと第2MOS電界効果トラン
ジスタとをデータ出力端子を介して直列形式に接続して
なる回路と、少なくとも外部からのデータ信号を入力と
して前記第1MOS電界効果トランジスタのゲートを駆
動する第1駆動回路と、少なくとも前記データ信号を入
力として前記第2MOS電界効果トランジスタのゲート
を駆動する第2駆動回路とを有する出力バッファ回路に
おいて、前記読出し専用記憶素子の情報書込み工程で情
報が書込まれる制御用記憶素子を含み、前記制御用記憶
素子に記憶された情報により、前記第1MOS電界効果
トランジスタおよび前記第2MOS電界効果トランジス
タのデータ出力端子駆動特性を、前記第1駆動回路およ
び前記第2駆動回路を介して変化させる制御回路を有す
ることを特徴としている。
An output buffer circuit of the present invention is an output buffer circuit of a semiconductor integrated circuit including a read-only memory element for writing information during a manufacturing process, which comprises a first power line and a first power line. 1M between the second power line
A circuit in which an OS field effect transistor and a second MOS field effect transistor are connected in series via a data output terminal, and a first drive circuit for driving the gate of the first MOS field effect transistor by receiving at least a data signal from the outside as an input. In an output buffer circuit having a driving circuit and at least a second driving circuit for driving the gate of the second MOS field effect transistor by receiving the data signal as input, control for writing information in the information writing step of the read-only storage element And a data output terminal drive characteristic of the first MOS field-effect transistor and the second MOS field-effect transistor based on information stored in the control storage element, the data output terminal drive characteristics of the first MOS field-effect transistor and the second MOS field-effect transistor being determined by the first drive circuit and the second drive circuit. Characterized by having a control circuit that changes through There.

【0013】[0013]

【実施例】次に本発明の好適な実施例について、図面を
参照して説明する。図1は、本発明の第1の実施例の回
路図である。同図を参照すると、本実施例では、電源線
1とデータ出力端子2との間にP型MOSトランジスタ
P1が設けられ、接地線3とデータ出力端子2との間に
N型MOSトランジスタN1が設けられている。又、電
源線1と接地線3との間に、P型MOSトランジスタP
2とN型MOSトランジスタN4,N2を直列接続し、
P型MOSトランジスタP2とN型MOSトランジスタ
N4の接続点とN型MOSトランジスタN4とN2の接
続点との間に抵抗素子R1を設け、P型MOSトランジ
スタP2とN型MOSトランジスタN4と抵抗素子R1
との接続点電位を出力S4とする駆動回路4が設けら
れ、その出力S4がP型MOSトランジスタP1のゲー
トに接続されている。更に、電源線1と接地線3との間
に、P型MOSトランジスタP3,P4とN型MOSト
ランジスタN3とを直列接続し、P型MOSトランジス
タP3とP4の接続点とP型MOSトランジスタP4と
N型MOSトランジスタN3の接続点との間に、抵抗素
子R2を設け、P型MOSトランジスタP4とN型MO
SトランジスタN3と抵抗素子R2との接続点電位を出
力S5とする駆動回路5が設けられ、その出力S5がN
型MOSFETのゲートに接続されている。P型MOS
トランジスタP2,P3とN型MOSトランジスタN
2,N3のゲートには、データ信号Dがそれぞれ入力さ
れている。さらに、図4(a),(b)に示した読み出
し専用記憶素子と同様の構造を有する記憶素子MCのソ
ースとゲートとを接地線3に接続し、ドレインを、負荷
MOSトランジスタとして動作するP型MOSトランジ
スタP5を介して電源線1に接続し、インバータ回路1
2の入力端を記憶素子MCとP型MOSトランジスタP
5の接続点に接続し、インバータ回路13の入力端をイ
ンバータ回路12の出力端に接続して構成される制御回
路14を設け、インバータ回路12の出力を制御信号C
1としてP型MOSトランジスタP4のゲートに入力
し、インバータ回路13の出力を制御信号C2としてN
型MOSトランジスタN4のゲートに入力している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram of the first embodiment of the present invention. Referring to the figure, in this embodiment, a P-type MOS transistor P1 is provided between the power supply line 1 and the data output terminal 2, and an N-type MOS transistor N1 is provided between the ground line 3 and the data output terminal 2. It is provided. Further, a P-type MOS transistor P is provided between the power supply line 1 and the ground line 3.
2 and N-type MOS transistors N4 and N2 are connected in series,
A resistance element R1 is provided between a connection point between the P-type MOS transistor P2 and the N-type MOS transistor N4 and a connection point between the N-type MOS transistors N4 and N2, and the P-type MOS transistor P2, the N-type MOS transistor N4 and the resistance element R1.
A drive circuit 4 having an output S4 at the connection point potential thereof is provided, and the output S4 is connected to the gate of the P-type MOS transistor P1. Further, P-type MOS transistors P3, P4 and N-type MOS transistor N3 are connected in series between the power supply line 1 and the ground line 3, and the connection point of the P-type MOS transistors P3 and P4 and the P-type MOS transistor P4 are connected. A resistance element R2 is provided between the connection point of the N-type MOS transistor N3 and the P-type MOS transistor P4 and the N-type MO transistor.
A drive circuit 5 having an output S5 that is the potential at the connection point between the S transistor N3 and the resistance element R2 is provided, and the output S5 is N
-Type MOSFET is connected to the gate. P-type MOS
Transistors P2 and P3 and N-type MOS transistor N
The data signal D is input to the gates of 2 and N3, respectively. Further, the source and gate of the memory element MC having the same structure as the read-only memory element shown in FIGS. 4A and 4B are connected to the ground line 3, and the drain operates as a load MOS transistor. Connected to the power supply line 1 through the MOS transistor P5, and the inverter circuit 1
The input terminal of 2 is connected to the memory element MC and the P-type MOS transistor P.
A control circuit 14 is provided, which is connected to the connection point of No. 5, and the input end of the inverter circuit 13 is connected to the output end of the inverter circuit 12, and the output of the inverter circuit 12 is controlled by the control signal C.
1 is input to the gate of the P-type MOS transistor P4, and the output of the inverter circuit 13 is set to N as the control signal C2.
It is input to the gate of the MOS transistor N4.

【0014】以下に、本実施例の動作を説明する。ま
ず、記憶素子MCがN型ディプリーションMOSトラン
ジスタである場合は、記憶素子MCは、ゲートが接地電
位VSSであるが、導通状態である。従って、この時の記
憶素子MCの相互伝達コンダクタンスをP型MOSトラ
ンジスタP5のそれに比較して十分に大きく設定すれ
ば、インバータ回路12の入力端は記憶素子MCにより
放電されて低レベルになるので、インバータ回路12の
出力である制御信号C1は高レベルになる。又、インバ
ータ回路13の出力である制御信号C2は低レベルにな
る。この場合は、制御信号C1が高レベルであるので、
P型MOSトランジスタP4が非導通状態であり、又、
制御信号C2が低レベルであるので、N型MOSトラン
ジスタN4が非導通状態になる。そのため、この場合に
データ信号Dが変化した時の回路動作は図4(a)に示
した従来の出力バッファ回路と同一であり、特性的にも
同様の特性が得られる。
The operation of this embodiment will be described below. First, when the memory element MC is an N-type depletion MOS transistor, the memory element MC is in the conductive state although the gate is at the ground potential V SS . Therefore, if the mutual transfer conductance of the storage element MC at this time is set to be sufficiently larger than that of the P-type MOS transistor P5, the input end of the inverter circuit 12 is discharged by the storage element MC to a low level. The control signal C1 which is the output of the inverter circuit 12 becomes high level. Further, the control signal C2, which is the output of the inverter circuit 13, becomes low level. In this case, since the control signal C1 is at high level,
The P-type MOS transistor P4 is non-conductive, and
Since the control signal C2 is at low level, the N-type MOS transistor N4 becomes non-conductive. Therefore, in this case, the circuit operation when the data signal D changes is the same as that of the conventional output buffer circuit shown in FIG. 4A, and similar characteristics can be obtained.

【0015】次に、記憶素子MCがN型エンハンスメン
トMOSトランジスタである場合には、記憶素子MC
は、ゲートが接地電位であるので非導通状態となる。従
って、インバータ回路12の入力端がP型MOSトラン
ジスタP5により充電され高レベルになり、インバータ
回路12の出力である制御信号C1は低レベルになる。
又、インバータ回路13の出力である制御信号C2は高
レベルになる。この場合の回路動作を、図2に示す電圧
波形図を参照して説明する。
Next, when the memory element MC is an N-type enhancement MOS transistor, the memory element MC
Has a non-conductive state because the gate is at the ground potential. Therefore, the input end of the inverter circuit 12 is charged by the P-type MOS transistor P5 and becomes high level, and the control signal C1 which is the output of the inverter circuit 12 becomes low level.
Further, the control signal C2, which is the output of the inverter circuit 13, becomes high level. The circuit operation in this case will be described with reference to the voltage waveform diagram shown in FIG.

【0016】図2に示すように、時刻T1に出力データ
Dが高レベルから低レベルに変化すると、駆動回路4の
P型MOSトランジスタP2が導通状態になりN型MO
SトランジスタN2が非導通状態となるので、出力S4
はP型MOSトランジスタP2によって高レベルとな
る。一方、駆動回路5のP型MOSトランジスタP3が
導通状態になりN型MOSトランジスタN3が非導通状
態となるので、出力S5は、P型MOSトランジスタP
3によってP型MOSトランジスタP4と抵抗素子R2
の並列回路を介して高レベルとなる。この結果、P型M
OSトランジスタP1は、ゲート信号である出力S4が
高レベルになることで非導通状態になり、一方、N型M
OSトランジスタN1は、ゲート信号である出力S5が
高レベルになることで導通状態になる。従って、データ
出力端子2はN型MOSトランジスタN1を介して放電
され低レベルになる。この場合、N型MOSトランジス
タN1のゲート信号である出力S5は、P型MOSトラ
ンジスタP4が導通状態であるので、従来の出力バッフ
ァ回路と比較すると高速に高レベルとなり、この高速な
レベル変化により、N型MOSトランジスタN1も高速
で導通状態となるので、データ出力端子2が放電されて
低レベルになる速度も従来に較べて高速になる。この場
合の接地電位VSSの変動は、従来の出力バッファ回路と
比較すれば大きくなるが、例えば、電源線1の電位VCC
が3V程度とすれば、接地電位VSSの変動そのものが小
さいので問題にはならない。
As shown in FIG. 2, when the output data D changes from the high level to the low level at time T1, the P-type MOS transistor P2 of the drive circuit 4 becomes conductive and the N-type MO transistor.
Since the S transistor N2 is turned off, the output S4
Becomes high level by the P-type MOS transistor P2. On the other hand, since the P-type MOS transistor P3 of the drive circuit 5 becomes conductive and the N-type MOS transistor N3 becomes non-conductive, the output S5 is the P-type MOS transistor P3.
P type MOS transistor P4 and resistance element R2
High level via parallel circuit. As a result, P type M
The OS transistor P1 becomes non-conductive when the output S4 which is the gate signal becomes high level, while the N-type M
The OS transistor N1 becomes conductive when the output S5 which is a gate signal becomes high level. Therefore, the data output terminal 2 is discharged through the N-type MOS transistor N1 and becomes low level. In this case, the output S5, which is the gate signal of the N-type MOS transistor N1, becomes a high level at a high speed as compared with the conventional output buffer circuit because the P-type MOS transistor P4 is in a conductive state. Since the N-type MOS transistor N1 also becomes conductive at a high speed, the speed at which the data output terminal 2 is discharged and becomes low level is also higher than in the conventional case. Variation of the ground potential V SS in this case is increased in comparison with the conventional output buffer circuit, for example, power line 1 potential V CC
Is about 3 V, the fluctuation itself of the ground potential V SS is small, so that no problem occurs.

【0017】次に、時刻T2に出力データ信号Dが低レ
ベルから高レベルに変化すると、駆動回路4のP型MO
SトランジスタP2が非導通状態になりN型MOSトラ
ンジスタN2が導通状態となるので、出力S4は、並列
接続されたN型MOSトランジスタN4と抵抗素子R1
を介してN型MOSトランジスタN13によって低レベ
ルとなる。一方、駆動回路5のP型MOSトランジスタ
P5が非導通状態になりN型MOSトランジスタN3が
導通状態となるので、出力S5がN型MOSトランジス
タN3によって低レベルとなる。従って、P型MOSト
ランジスタP1は、ゲート信号である出力S4が低レベ
ルとなることで導通状態になり、N型MOSトランジス
タN1は、ゲート信号である出力S5が低レベルとなる
ことで非導通状態になる。その結果、データ出力端子2
は、P型MOSトランジスタP1によって充電され、高
電圧になる。この場合も、N型MOSトランジスタN4
が導通状態であるので、従来の出力バッファ回路と比較
すると、P型MOSトランジスタP1のゲート信号であ
る出力S4は高速に低レベルとなる。この高速なレベル
遷移により、P型MOSトランジスタP1も高速で導通
状態となるので、データ出力端子2が充電されて高レベ
ルにする速度も高速になる。この場合、電源電圧VCC
変動が従来の出力バッファ回路のそれに比較すれば大き
くなるが、例えば、電源電圧VCCが3V程度とすれば、
電源電圧VCCの変動そのものが小さいので問題にならな
い。
Next, when the output data signal D changes from the low level to the high level at time T2, the P-type MO of the drive circuit 4 is generated.
Since the S transistor P2 is turned off and the N-type MOS transistor N2 is turned on, the output S4 is output from the N-type MOS transistor N4 and the resistance element R1 which are connected in parallel.
To the low level by the N-type MOS transistor N13. On the other hand, since the P-type MOS transistor P5 of the drive circuit 5 becomes non-conductive and the N-type MOS transistor N3 becomes conductive, the output S5 becomes low level by the N-type MOS transistor N3. Therefore, the P-type MOS transistor P1 becomes conductive when the output S4 which is a gate signal becomes low level, and the N-type MOS transistor N1 becomes non-conductive when the output S5 which is a gate signal becomes low level. become. As a result, the data output terminal 2
Is charged by the P-type MOS transistor P1 and becomes a high voltage. Also in this case, the N-type MOS transistor N4
Is conductive, the output S4 which is the gate signal of the P-type MOS transistor P1 becomes low level at high speed, as compared with the conventional output buffer circuit. Due to this high-speed level transition, the P-type MOS transistor P1 also becomes conductive at a high speed, so that the data output terminal 2 is charged and brought to a high level at a high speed. In this case, the fluctuation of the power supply voltage V CC becomes larger than that of the conventional output buffer circuit. For example, if the power supply voltage V CC is about 3 V,
Since the fluctuation of the power supply voltage V CC itself is small, it does not matter.

【0018】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。図3は本発明の第2の実施例の回路図である。同
図を参照すると本実施例は、電源線1とデータ出力端子
2との間に並列に設けられたP型MOSトランジスタP
1,P12と、接地線3とデータ出力端子2との間に並
列に設けられたN型MOSトランジスタN1,N12と
を有している。そして、インバータ回路15の入力端に
データ信号Dを入力し、その出力S6をP型MOSトラ
ンジスタP1のゲートに入力している。又、インバータ
回路16の入力端にデータ信号Dを入力し、その出力S
7をN型MOSトランジスタN1のゲートに入力してい
る。更に、図1に示した制御回路14と同一の回路構成
の制御回路と2入力NAND回路17と2入力NOR回
路18とが設けられている。2入力NAND回路17
は、データ信号Dと制御信号C2とを入力とし、出力S
8がP型MOSトランジスタP12のゲートに入力され
ている。2入力NOR回路18は、データ信号Dと制御
信号C1を入力とし、出力S9がN型MOSトランジス
タN12のゲートに入力されている。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a circuit diagram of the second embodiment of the present invention. Referring to the drawing, in this embodiment, a P-type MOS transistor P provided in parallel between the power supply line 1 and the data output terminal 2 is provided.
1 and P12, and N-type MOS transistors N1 and N12 provided in parallel between the ground line 3 and the data output terminal 2. Then, the data signal D is input to the input terminal of the inverter circuit 15, and its output S6 is input to the gate of the P-type MOS transistor P1. Further, the data signal D is input to the input terminal of the inverter circuit 16 and its output S
7 is input to the gate of the N-type MOS transistor N1. Further, a control circuit having the same circuit configuration as the control circuit 14 shown in FIG. 1, a 2-input NAND circuit 17 and a 2-input NOR circuit 18 are provided. 2-input NAND circuit 17
Receives the data signal D and the control signal C2, and outputs S
8 is input to the gate of the P-type MOS transistor P12. The 2-input NOR circuit 18 receives the data signal D and the control signal C1 as input, and the output S9 is input to the gate of the N-type MOS transistor N12.

【0019】以下に、本実施例の回路動作について説明
する。まず、記憶素子MCがN型ディプリーションMO
Sトランジスタである場合は、図1に示した第1の実施
例と同様に、制御信号C1が高レベルになり制御信号C
2は低レベルになる。すると、NAND回路17は、一
方の入力信号である制御信号C2が低レベルであるの
で、他方の入力信号であるデータ信号Dには依存せず、
その出力信号S8は高レベルのままである。また、NO
R回路18は、一方の入力信号である制御信号C1が高
レベルであるので、他方の入力信号であるデータ信号D
には依存せず、その出力信号S9は低レベルのままであ
る。その結果、P型MOSトランジスタP12とN型M
OSトランジスタN12は常に非導通状態となる。ここ
で、図4(a)に示した従来の出力バッファ回路と、本
実施例において、駆動回路4とインバータ回路15とを
同様に設計し、更に、駆動回路5とインバータ回路16
とを同様に設計し、又、出力段のP型MOSトランジス
タどうし及びN型MOSトランジスタどうしを同一に設
計すれば、本実施例と図4(a)に示した従来の出力バ
ッファ回路とは同様の特性を示す。
The circuit operation of this embodiment will be described below. First, the memory element MC is an N-type depletion MO.
If it is an S-transistor, the control signal C1 becomes high level and the control signal C becomes the same as in the first embodiment shown in FIG.
2 goes low. Then, the NAND circuit 17 does not depend on the data signal D which is the other input signal because the control signal C2 which is one input signal is at the low level,
Its output signal S8 remains high. Also, NO
Since the control signal C1 which is one input signal is at a high level, the R circuit 18 receives the data signal D which is the other input signal.
Output signal S9 remains low. As a result, P-type MOS transistor P12 and N-type M
The OS transistor N12 is always off. Here, the conventional output buffer circuit shown in FIG. 4A and the drive circuit 4 and the inverter circuit 15 in this embodiment are designed in the same manner, and further, the drive circuit 5 and the inverter circuit 16 are provided.
And P-type MOS transistors and N-type MOS transistors in the output stage are designed to be the same, the present embodiment and the conventional output buffer circuit shown in FIG. Shows the characteristics of.

【0020】次に、記憶素子MCがN型エンハンスメン
トMOSトランジスタの場合は、図1に示した第1の実
施例と同様に、制御信号C1が低レベルになり制御信号
C2が高レベルになる。すると、NAND回路17とN
OR回路18とは、インバータ回路15,16と同様に
動作する。従って、データ信号Dが変化することでデー
タ出力端子2を高レベルにする場合には、P型MOSト
ランジスタP1,P12が負荷を充電し、データ出力端
子2を低レベルにする場合には、N型MOSトランジス
タN1,N12が負荷を放電する。この結果、出力信号
は従来の出力バッファ回路と比較して高速でレベル遷移
する。この場合も、電源電圧VCCや接地電位VSSの変動
が、従来の出力バッファ回路と比較すれば大きくなる
が、例えば電源電圧VCCが3V程度とすれば、その変動
そのものが小さいので問題にならない。
Next, when the memory element MC is an N-type enhancement MOS transistor, the control signal C1 becomes low level and the control signal C2 becomes high level as in the first embodiment shown in FIG. Then, the NAND circuit 17 and N
The OR circuit 18 operates similarly to the inverter circuits 15 and 16. Therefore, when the data output terminal 2 is set to the high level due to the change of the data signal D, the P-type MOS transistors P1 and P12 charge the load, and when the data output terminal 2 is set to the low level, N is set. The type MOS transistors N1 and N12 discharge the load. As a result, the output signal makes a level transition at a higher speed than the conventional output buffer circuit. Also in this case, the fluctuations of the power supply voltage V CC and the ground potential V SS are larger than those of the conventional output buffer circuit, but if the power supply voltage V CC is about 3 V, the fluctuations themselves are small, which causes a problem. I won't.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように本発明の出力バッフ
ァ回路は、第1の電源線とデータ出力端子との間に設け
られた第1のMOSトランジスタと、第2の電源線とデ
ータ出力端子との間に設けられた第2のMOSトランジ
スタと、第1のMOSトランジスタのゲートを駆動する
第1の駆動回路と、第2のMOSトランジスタのゲート
を駆動する第2の駆動回路と、読み出し専用記憶素子と
同様の構造を有する記憶素子が設けられこの記憶素子に
記憶された情報により、第1のMOSトランジスタと第
2のMOSトランジスタがデータ出力端子を駆動する特
性を変化させる制御回路を有している。
As described above, the output buffer circuit of the present invention has the first MOS transistor provided between the first power supply line and the data output terminal, the second power supply line and the data output terminal. A second MOS transistor provided between the first and second MOS transistors, a first drive circuit for driving the gate of the first MOS transistor, a second drive circuit for driving the gate of the second MOS transistor, and a read-only circuit A memory element having a structure similar to that of the memory element is provided, and a control circuit which changes characteristics for driving the data output terminal of the first MOS transistor and the second MOS transistor according to information stored in the memory element is provided. ing.

【0022】これにより本発明によれば、記憶素子に記
情する情報を変更するだけで、容易に出力バッファ回路
の特性を変更できる。例えば、記憶素子がN型ディプリ
ーションMOSトランジスタの場合に、出力バッファ回
路が示す特性を電源電圧5V付近で動作する時に最適と
なるよう設計し、記憶素子がN型エンハンスメントMO
Sトランジスタの場合に、出力バッファ回路が示す特性
を電源電圧3V付近で動作する時に最適となるよう設計
すれば、記憶素子に書き込む情報を変化させるだけで、
電源電圧が異なる場合でも回路変更の必要も無く、最適
の特性が得られる。
Thus, according to the present invention, the characteristics of the output buffer circuit can be easily changed only by changing the information stored in the storage element. For example, when the memory element is an N-type depletion MOS transistor, the characteristics indicated by the output buffer circuit are designed to be optimum when operating near a power supply voltage of 5 V, and the memory element is an N-type enhancement MO transistor.
In the case of an S transistor, if the characteristics indicated by the output buffer circuit are designed to be optimum when operating near a power supply voltage of 3V, it is only necessary to change the information to be written in the memory element.
Even if the power supply voltage is different, there is no need to change the circuit and optimum characteristics can be obtained.

【0023】また、記憶素子への情報の書き込みは、半
導体集積回路の製造工程において、読み出し専用記憶素
子に情報の書き込みを行なう工程と同一工程で行なわれ
る。そして、この製造工程のフォトリソグラフィ工程で
用いるマスクパターンは、顧客から供給されるデータに
よってその都度作成するので、そのマスクパターンの製
造時に、顧客が要求する電源電圧を考慮して記憶素子に
書き込む情報を決定すればよい。従って、マスクパター
ンの種類が多くなったり、中間製品の種類が多くなった
りすることもなく、生産管理が容易になる効果がある。
Further, the writing of information to the memory element is performed in the same step as the step of writing information to the read-only memory element in the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit. Since the mask pattern used in the photolithography process of this manufacturing process is created each time by the data supplied by the customer, the information to be written in the memory element in consideration of the power supply voltage required by the customer at the time of manufacturing the mask pattern. Should be decided. Therefore, the number of types of mask patterns does not increase and the number of types of intermediate products does not increase, and there is an effect that production management becomes easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す回路の動作を説明するための電圧波
形図である。
FIG. 2 is a voltage waveform diagram for explaining the operation of the circuit shown in FIG.

【図3】本発明の第2の実施例の回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram of a second embodiment of the present invention.

【図4】分図(a)は、N型エンハンスメントMOSト
ランジスタを用いた記憶素子の断面図である。分図
(b)は、N型ディプリーションMOSトランジスタを
用いた記憶素子の断面図である。分図(c)は、分図
(a),(b)に示した記憶素子の電圧・電流特性を表
す図である。
FIG. 4A is a sectional view of a memory element using an N-type enhancement MOS transistor. The diagram (b) is a cross-sectional view of a memory element using an N-type depletion MOS transistor. Diagram (c) is a diagram showing the voltage-current characteristics of the memory element shown in diagrams (a) and (b).

【図5】分図(a)は、従来の出力バッファ回路の一例
の回路図である。分図(b)は、半導体集積回路の電源
供給経路に寄生するインダクタンスの等価回路図であ
る。
FIG. 5A is a circuit diagram of an example of a conventional output buffer circuit. The partial diagram (b) is an equivalent circuit diagram of the parasitic inductance in the power supply path of the semiconductor integrated circuit.

【図6】図5(a)に示す従来の出力バッファ回路の動
作を説明するための電圧波形図である。
FIG. 6 is a voltage waveform diagram for explaining the operation of the conventional output buffer circuit shown in FIG. 5 (a).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 高位電源線 2 データ出力端子 3 接地線 4,5 駆動回路 6 入力端子 7 半導体チップ 8 半導体集積回路 9CC,9SS リード端子 10CC,10SS 金属細線 11CC,11SS ボンディングパッド 12,13,15,16 インバータ回路 14 制御回路 17 NAND回路 18 OR回路 41 P型基板 42,43 ソース・ドレイン拡散層 44 ゲート絶縁層 45 ゲート電極 46 チャンネル部分 1 High-level power supply line 2 Data output terminal 3 Ground line 4, 5 Drive circuit 6 Input terminal 7 Semiconductor chip 8 Semiconductor integrated circuit 9CC, 9SS Lead terminal 10CC, 10SS Metal wire 11CC, 11SS Bonding pad 12, 13, 15, 16 Inverter circuit 14 Control Circuit 17 NAND Circuit 18 OR Circuit 41 P-type Substrate 42, 43 Source / Drain Diffusion Layer 44 Gate Insulation Layer 45 Gate Electrode 46 Channel Portion

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/092 27/10 481 8728−4M H03K 17/687 19/0175 6741−5L G11C 17/00 306 Z 9054−4M H01L 27/08 321 L 8221−5J H03K 17/687 F 8941−5J 19/00 101 F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Internal reference number FI Technical display location H01L 27/092 27/10 481 8728-4M H03K 17/687 19/0175 6741-5L G11C 17/00 306 Z 9054-4M H01L 27/08 321 L 8221-5J H03K 17/687 F 8941-5J 19/00 101 F

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 製造工程中において情報の書込みを行な
う読出し専用記憶素子を含む半導体集積回路の出力バッ
ファ回路であって、第1の電源線と第2の電源線との間
に第1MOS電界効果トランジスタと第2MOS電界効
果トランジスタとをデータ出力端子を介して直列形式に
接続してなる回路と、少なくとも外部からのデータ信号
を入力として前記第1MOS電界効果トランジスタのゲ
ートを駆動する第1駆動回路と、少なくとも前記データ
信号を入力として前記第2MOS電界効果トランジスタ
のゲートを駆動する第2駆動回路とを有する出力バッフ
ァ回路において、 前記読出し専用記憶素子の情報書込み工程で情報が書込
まれる制御用記憶素子を含み、前記制御用記憶素子に記
憶された情報により、前記第1MOS電界効果トランジ
スタおよび前記第2MOS電界効果トランジスタのデー
タ出力端子駆動特性を、前記第1駆動回路および前記第
2駆動回路を介して変化させる制御回路を有することを
特徴とする出力バッファ回路。
1. An output buffer circuit of a semiconductor integrated circuit including a read-only memory element for writing information during a manufacturing process, wherein a first MOS field effect is provided between a first power supply line and a second power supply line. A circuit in which a transistor and a second MOS field effect transistor are connected in series via a data output terminal; and a first drive circuit which drives a gate of the first MOS field effect transistor by receiving at least a data signal from the outside as an input. An output buffer circuit having at least the data signal as an input and a second drive circuit for driving the gate of the second MOS field effect transistor, wherein a control storage element in which information is written in an information writing step of the read-only storage element And the information stored in the control storage element, the first MOS field effect transistor Output buffer circuit and having data and a data output terminal driving characteristics of the first 2MOS field effect transistor, a control circuit for changing over the first driving circuit and the second driving circuit.
【請求項2】 前記制御回路が、前記第1駆動回路の出
力駆動特性および前記第2駆動回路の出力駆動特性を変
化させ、前記変化により前記第1MOS電界効果トラン
ジスタおよび前記第2MOS電界効果トランジスタのゲ
ート電圧の遷移速度を変化させて、前記データ出力端子
駆動特性を変化させることを特徴とする請求項1記載の
出力バッファ回路。
2. The control circuit changes an output drive characteristic of the first drive circuit and an output drive characteristic of the second drive circuit, and the change causes an output drive characteristic of the first MOS field effect transistor and the second MOS field effect transistor to change. 2. The output buffer circuit according to claim 1, wherein the transition speed of the gate voltage is changed to change the drive characteristic of the data output terminal.
【請求項3】 前記制御回路が、前記第1MOS電界効
果トランジスタおよび前記第2MOS電界効果トランジ
スタの実効的チャンネル幅を変化させることにより、前
記データ出力端子駆動特性を変化させることを特徴とす
る請求項1記載の出力バッファ回路。
3. The control circuit changes the drive characteristic of the data output terminal by changing the effective channel width of the first MOS field effect transistor and the second MOS field effect transistor. 1. The output buffer circuit described in 1.
【請求項4】 請求項2記載の出力バッファ回路におい
て、 前記制御回路は、ソースとゲートとが接地線に接続され
ドレインが負荷として動作するPチャンネル型MOS電
界効果トランジスタを介して高位電源線に接続された制
御用記憶素子と、入力端が前記制御用記憶素子のドレイ
ンに接続され出力端に第1の制御信号を出力する第1の
インバータ回路と、入力端が前記第1のインバータ回路
の出力端に接続され出力端に第2の制御信号を出力する
第2のインバータ回路とを有し、 前記第1駆動回路は、前記高位電源線と前記接地線との
間に直列に接続されたPチャンネル型の第3MOS電界
効果トランジスタ,Nチャンネル型の第4MOS電界効
果トランジスタおよびNチャンネル型の第5MOS電界
効果トランジスタ並びに前記第4MOS電界効果トラン
ジスタに並列に接続された第1抵抗素子とを含み、前記
第3MOS電界効果トランジスタのドレインを出力端と
し、 前記第2駆動回路は、前記高位電源線と前記接地線との
間に直列に接続されたPチャンネル型の第6MOS電界
効果トランジスタ,Pチャンネル型の第7MOS電界効
果トランジスタおよびNチャンネル型の第8MOS電界
効果トランジスタ並びに前記第7MOS電界効果トラン
ジスタに並列に接続された第2抵抗素子とを含み、前記
第8MOS電界効果トランジスタのドレインを出力端と
し、 前記第3,第5,第6,第8MOS電界効果トランジス
タのゲートに前記データ信号が入力され、前記第4MO
S電界効果トランジスタのゲートに前記第2制御信号が
入力され、前記第7MOS電界効果トランジスタのゲー
トに前記第1制御信号が入力され、前記第1駆動回路の
出力信号がPチャンネル型の前記第1MOS電界効果ト
ランジスタのゲートに入力され、前記第2駆動回路の出
力信号がNチャンネル型の前記第2MOS電界効果トラ
ンジスタのゲートに入力されていることを特徴とする出
力バッファ回路。
4. The output buffer circuit according to claim 2, wherein the control circuit is connected to a high-potential power line through a P-channel MOS field effect transistor in which a source and a gate are connected to a ground line and a drain operates as a load. A connected control memory element, a first inverter circuit having an input terminal connected to the drain of the control memory element and outputting a first control signal to an output terminal, and an input terminal of the first inverter circuit. A second inverter circuit connected to the output end and outputting a second control signal to the output end, wherein the first drive circuit is connected in series between the high-potential power line and the ground line. P-channel type third MOS field effect transistor, N-channel type fourth MOS field-effect transistor, N-channel type fifth MOS field-effect transistor, and the fourth M A first resistance element connected in parallel to the S field effect transistor, wherein the drain of the third MOS field effect transistor serves as an output terminal, and the second drive circuit is provided between the high-potential power line and the ground line. P-channel type sixth MOS field-effect transistor, P-channel type seventh MOS field-effect transistor and N-channel type eighth MOS field-effect transistor connected in series, and a second resistor connected in parallel to the seventh MOS field-effect transistor A drain of the eighth MOS field effect transistor as an output terminal, the data signal is input to the gates of the third, fifth, sixth and eighth MOS field effect transistors, and the fourth MO field effect transistor is provided.
The second control signal is input to the gate of the S field effect transistor, the first control signal is input to the gate of the seventh MOS field effect transistor, and the output signal of the first drive circuit is the P-channel type first MOS. An output buffer circuit, wherein an output signal of the second drive circuit is input to a gate of a field effect transistor, and an output signal of the second drive circuit is input to a gate of the N-channel type second MOS field effect transistor.
【請求項5】 請求項3記載の出力バッファ回路におい
て、 前記第1MOS電界効果トランジスタは、Pチャンネル
型の第3MOS電界効果トランジスタとPチャンネル型
の第4MOS電界効果トランジスタとを並列接続してな
り、前記第2MOS電界効果トランジスタは、Nチャン
ネル型の第5MOS電界効果トランジスタとNチャンネ
ル型の第6MOS電界効果トランジスタとを並列接続し
てなり、 前記制御回路は、ソースとゲートとが接地線に接続され
ドレインが負荷として動作するPチャンネル型MOS電
界効果トランジスタとを介して高位電源線に接続された
制御用記憶素子と、入力端が前記制御用記憶素子のドレ
インに接続され出力端に第1の制御信号を出力する第1
のインバータ回路と、入力端が前記第1のインバータ回
路の出力端に接続され出力端に第2の制御信号を出力す
る第2のインバータ回路とを有し、 前記第1駆動回路は、入力端に前記データ信号が入力さ
れ出力端が前記第3MOS電界効果トランジスタのゲー
トに接続された第3のインバータ回路と、前記データ信
号と前記第2制御信号とを入力とし、出力端が前記第4
MOS電界効果トランジスタのゲートに接続された2入
力NAND回路とを含み、 前記第2駆動回路は、入力端に前記データ信号が入力さ
れ出力端が前記第5MOS電界効果トランジスタのゲー
トに接続された第4のインバータ回路と、前記データ信
号と前記第1制御信号とを入力とし、出力端が前記第6
MOS電界効果トランジスタのゲートに接続された2入
力NOR回路とを含むことを特徴とする出力バッファ回
路。
5. The output buffer circuit according to claim 3, wherein the first MOS field effect transistor is formed by connecting a P-channel type third MOS field effect transistor and a P-channel type fourth MOS field effect transistor in parallel. The second MOS field effect transistor comprises an N-channel type fifth MOS field effect transistor and an N-channel type sixth MOS field effect transistor connected in parallel, and the control circuit has a source and a gate connected to a ground line. A control memory element whose drain is connected to a high-potential power line through a P-channel MOS field effect transistor operating as a load, and an input terminal connected to the drain of the control memory element and a first control terminal at an output terminal. First to output a signal
And an input terminal connected to an output terminal of the first inverter circuit, and a second inverter circuit outputting a second control signal to an output terminal. A third inverter circuit to which the data signal is input and whose output end is connected to the gate of the third MOS field effect transistor; and the data signal and the second control signal which are input, and the output end of which is the fourth
A two-input NAND circuit connected to the gate of the MOS field effect transistor, wherein the second drive circuit is configured such that the input terminal receives the data signal and the output terminal is connected to the gate of the fifth MOS field effect transistor. 4 inverter circuit, the data signal and the first control signal as an input, the output end is the sixth
An output buffer circuit including a 2-input NOR circuit connected to the gate of a MOS field effect transistor.
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