JPH05326246A - 回転対称の電気デバイス - Google Patents
回転対称の電気デバイスInfo
- Publication number
- JPH05326246A JPH05326246A JP30639992A JP30639992A JPH05326246A JP H05326246 A JPH05326246 A JP H05326246A JP 30639992 A JP30639992 A JP 30639992A JP 30639992 A JP30639992 A JP 30639992A JP H05326246 A JPH05326246 A JP H05326246A
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- JP
- Japan
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- coating
- varnish
- meth
- bis
- butylperoxy
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F27/00—Details of transformers or inductances, in general
- H01F27/28—Coils; Windings; Conductive connections
- H01F27/29—Terminals; Tapping arrangements for signal inductances
- H01F27/292—Surface mounted devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Organic Insulating Materials (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 回転対称の電気デバイス、特に高周波チョー
クコイルを提供する。 【構成】 ＵＶ照射により及び熱的に硬化可能な次の成
分を含む組成からなる被覆を有する。即ち多官能性アル
コールのメタクリル酸エステル、ビスフェノールＡとエ
チレンオキシド及び／又はプロピレンオキシドの分解生
成物である１個又は複数個の二重結合を有する低分子／
高分子化合物をベースとするラジカルに硬化可能な樹脂
混合物と、ベンゾイン、アセトフェノン、酸化ホスフィ
ンベンゾイル、チオ開始剤、反応促進剤と結合したベン
ゾフェノン、チオキサントン等の光開始剤及びｔ−ブチ
ルペルマレイネート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオ
キシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔ−
ブチルペルオキシ安息香酸、２，２−ビス−（ｔ−ブチ
ルペルオキシ）−ブタンよりなる。
クコイルを提供する。 【構成】 ＵＶ照射により及び熱的に硬化可能な次の成
分を含む組成からなる被覆を有する。即ち多官能性アル
コールのメタクリル酸エステル、ビスフェノールＡとエ
チレンオキシド及び／又はプロピレンオキシドの分解生
成物である１個又は複数個の二重結合を有する低分子／
高分子化合物をベースとするラジカルに硬化可能な樹脂
混合物と、ベンゾイン、アセトフェノン、酸化ホスフィ
ンベンゾイル、チオ開始剤、反応促進剤と結合したベン
ゾフェノン、チオキサントン等の光開始剤及びｔ−ブチ
ルペルマレイネート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオ
キシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔ−
ブチルペルオキシ安息香酸、２，２−ビス−（ｔ−ブチ
ルペルオキシ）−ブタンよりなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は回転対称の電気デバイ
ス、特に高周波チョークコイルに関する。
ス、特に高周波チョークコイルに関する。
【０００２】
【従来の技術】高周波チョークコイル用に卷かれたセラ
ミック又はフェライト体のような電気デバイスの巻体は
被覆されなければならない。被覆することにより巻体の
固定及び電気的絶縁が達成される。更に被覆は巻体を腐
食並びに機械的損傷から保護し、巻体の表面を平滑にす
る。特に極めて平滑な表面は後のデバイスの特性表示の
ためのリング又はラベルの取り付けにとって必要とな
る。
ミック又はフェライト体のような電気デバイスの巻体は
被覆されなければならない。被覆することにより巻体の
固定及び電気的絶縁が達成される。更に被覆は巻体を腐
食並びに機械的損傷から保護し、巻体の表面を平滑にす
る。特に極めて平滑な表面は後のデバイスの特性表示の
ためのリング又はラベルの取り付けにとって必要とな
る。
【０００３】電気デバイスの巻体の被覆は１回又は複数
回の被覆工程で行われる。まずデバイスの巻体上に１回
又は複数回ワニス（以後基礎ワニスという）を塗布し、
巻体の空隙を硬化するまで満たし、巻体表面を平滑にす
る。引続き基礎ワニス上に別のワニス（以後カバーワニ
スという）をデバイスの着色又はその特性表示及びラベ
ルの取り付けに必要とされる程度に塗布し、硬化する。
回の被覆工程で行われる。まずデバイスの巻体上に１回
又は複数回ワニス（以後基礎ワニスという）を塗布し、
巻体の空隙を硬化するまで満たし、巻体表面を平滑にす
る。引続き基礎ワニス上に別のワニス（以後カバーワニ
スという）をデバイスの着色又はその特性表示及びラベ
ルの取り付けに必要とされる程度に塗布し、硬化する。
【０００４】ドイツ連邦共和国特許出願公開第３４１９
３３２号明細書から直接デバイス上に施されるＵＶ光線
で硬化可能の組成からなる被覆を有する電子デバイスは
公知である。被覆はビスフェノールＡエポキシジアクリ
レート及び脂環式メタクリレートの混合物から得られる
硬化生成物である。この被覆には粘着剤、光開始剤及び
過酸化物が入っていてもよい。
３３２号明細書から直接デバイス上に施されるＵＶ光線
で硬化可能の組成からなる被覆を有する電子デバイスは
公知である。被覆はビスフェノールＡエポキシジアクリ
レート及び脂環式メタクリレートの混合物から得られる
硬化生成物である。この被覆には粘着剤、光開始剤及び
過酸化物が入っていてもよい。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、極めて平滑
な表面を有する回転対称の電気デバイス、特に円筒状の
銅ワニス線で卷かれたセラミック又はフェライト体から
なる、ＵＶ照射により及び熱的に硬化可能の組成からな
る被覆を有する高周波チョークコイルを提供することを
課題とする。
な表面を有する回転対称の電気デバイス、特に円筒状の
銅ワニス線で卷かれたセラミック又はフェライト体から
なる、ＵＶ照射により及び熱的に硬化可能の組成からな
る被覆を有する高周波チョークコイルを提供することを
課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この課題は被覆が以下の
成分： −少なくとも以下の群の成分を有する１個又は複数個の
二重結合を有する低分子又は高分子化合物をベースとす
るラジカルに硬化可能の樹脂混合物：（メタ）クリル化
エポキシ樹脂、（メタ）クリル化ポリエーテル、（メ
タ）クリル化ポリウレタン、ビスフェノールＡのような
多官能性アルコールのメタクリル酸エステル、ビスフェ
ノールＡとエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキ
シドの分解生成物； −少なくとも以下の群の光開始剤：ベンゾイン、アセト
フェノン、酸化ホソフィンベンゾイル並びにチオ開始剤
及び反応促進剤と結合したベンゾフェノン及びチオキサ
ントン； −少なくとも以下の群の過酸化物：ｔ−ブチルペルマレ
イネート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルペ
ルオキシ安息香酸、２，２−ビス−（ｔ−ブチルペルオ
キシ）−ブタンを含んでいることにより解決される。
成分： −少なくとも以下の群の成分を有する１個又は複数個の
二重結合を有する低分子又は高分子化合物をベースとす
るラジカルに硬化可能の樹脂混合物：（メタ）クリル化
エポキシ樹脂、（メタ）クリル化ポリエーテル、（メ
タ）クリル化ポリウレタン、ビスフェノールＡのような
多官能性アルコールのメタクリル酸エステル、ビスフェ
ノールＡとエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキ
シドの分解生成物； −少なくとも以下の群の光開始剤：ベンゾイン、アセト
フェノン、酸化ホソフィンベンゾイル並びにチオ開始剤
及び反応促進剤と結合したベンゾフェノン及びチオキサ
ントン； −少なくとも以下の群の過酸化物：ｔ−ブチルペルマレ
イネート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルペ
ルオキシ安息香酸、２，２−ビス−（ｔ−ブチルペルオ
キシ）−ブタンを含んでいることにより解決される。
【０００７】
【実施例】本発明を実施例及び図面に基づき以下に詳述
する。
する。
【０００８】図１にはＵＶ照射によるまた熱的に硬化可
能の組成からなる高周波チョークコイル（電気デバイ
ス）１が示されている。デバイス１には接続線２が付設
されており、その両端３は平坦化されている。
能の組成からなる高周波チョークコイル（電気デバイ
ス）１が示されている。デバイス１には接続線２が付設
されており、その両端３は平坦化されている。
【０００９】溶剤を含まないＵＶワニスで被覆４を施す
には例えば（メタ）クリレート官能性樹脂の場合に存在
するような１個又は複数個の二重結合を有する低分子又
は高分子化合物をベースとするラジカルに硬化可能の樹
脂混合物が適している。この場合適切な樹脂としては
（メタ）クリル化エポキシ樹脂、（メタ）クリル化ポリ
エーテル、（メタ）クリル化ポリウレタン並びにビスフ
ェノールＡ並びにビスフェノールＡとエチレンオキシド
及び／又はプロピレンオキシドの分解生成物のような多
官能性アルコールの（メタ）クリル酸エステルがある。
硬化速度を高めかつこの部分的に高粘性の樹脂を固体樹
脂まで粘性を低下させるため単官能及び多官能性反応希
釈剤を使用することができる。これに関しては例えばパ
ッパス（Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ）著“ＵＶ−Ｃｕｒｉｎ
ｇ；Ｓｃｉｅｎｃｅ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”、第
ＩＩ巻、Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｍａｒｋｅｔｉｎｇ
Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ、Ｎｏｒｗａｌｋ、１９８５、
第１６２〜１８５頁に記載されている。
には例えば（メタ）クリレート官能性樹脂の場合に存在
するような１個又は複数個の二重結合を有する低分子又
は高分子化合物をベースとするラジカルに硬化可能の樹
脂混合物が適している。この場合適切な樹脂としては
（メタ）クリル化エポキシ樹脂、（メタ）クリル化ポリ
エーテル、（メタ）クリル化ポリウレタン並びにビスフ
ェノールＡ並びにビスフェノールＡとエチレンオキシド
及び／又はプロピレンオキシドの分解生成物のような多
官能性アルコールの（メタ）クリル酸エステルがある。
硬化速度を高めかつこの部分的に高粘性の樹脂を固体樹
脂まで粘性を低下させるため単官能及び多官能性反応希
釈剤を使用することができる。これに関しては例えばパ
ッパス（Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ）著“ＵＶ−Ｃｕｒｉｎ
ｇ；Ｓｃｉｅｎｃｅ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”、第
ＩＩ巻、Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｍａｒｋｅｔｉｎｇ
Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ、Ｎｏｒｗａｌｋ、１９８５、
第１６２〜１８５頁に記載されている。
【００１０】被覆を、加工装置内でまず溶剤を含まない
ＵＶワニスをデバイスの巻体上に再生可能に施す。有利
な１方法としては例えばワニスホイールによる塗布があ
る。この場合電気デバイスの巻体をベルトコンベヤを介
してワニスホイールに導き、このホイールによりデバイ
スは回転しながら必要なワニス分量を掻き落とす。ワニ
スホイール自体はワニスを満たされたシャーレ中で回転
することによりワニスをすくい上げる。その場合２５℃
で０．１〜１０Ｐａ・ｓの粘性を有する樹脂混合物が特
に適しているが、その際レオロジー（流動学）上のチキ
ソトロピーが一般に有利である。
ＵＶワニスをデバイスの巻体上に再生可能に施す。有利
な１方法としては例えばワニスホイールによる塗布があ
る。この場合電気デバイスの巻体をベルトコンベヤを介
してワニスホイールに導き、このホイールによりデバイ
スは回転しながら必要なワニス分量を掻き落とす。ワニ
スホイール自体はワニスを満たされたシャーレ中で回転
することによりワニスをすくい上げる。その場合２５℃
で０．１〜１０Ｐａ・ｓの粘性を有する樹脂混合物が特
に適しているが、その際レオロジー（流動学）上のチキ
ソトロピーが一般に有利である。
【００１１】他の同様に適した方法としてはワニスを溢
流、噴射又は鋳入する方法がある。
流、噴射又は鋳入する方法がある。
【００１２】液状ワニスの温度はそれぞれその粘度及び
組成に基づき室温〜５０℃の間である。ＵＶワニスを、
銅ワニス線で卷かれた予め温められた電気デバイス上に
施すと有利である。
組成に基づき室温〜５０℃の間である。ＵＶワニスを、
銅ワニス線で卷かれた予め温められた電気デバイス上に
施すと有利である。
【００１３】ベルトコンベヤによりデバイスを引続き照
射部に案内し、そこでＵＶ照射によりワニスを光を通す
箇所で硬化する。同様にしてこの表面を修正するために
更に基礎ワニスを（カバーワニスも併せて）場合によっ
ては着色のために施すことができる。
射部に案内し、そこでＵＶ照射によりワニスを光を通す
箇所で硬化する。同様にしてこの表面を修正するために
更に基礎ワニスを（カバーワニスも併せて）場合によっ
ては着色のために施すことができる。
【００１４】照射には主としてキセノン、タングステン
及び金属ハロゲン化物放射器並びにＵＶ放出レーザのよ
うなあらゆる一般的なＵＶ照射源を使用できる。
及び金属ハロゲン化物放射器並びにＵＶ放出レーザのよ
うなあらゆる一般的なＵＶ照射源を使用できる。
【００１５】溶剤不含のＵＶワニスは硬化を生じるＵＶ
照射がもはや行えないような巻体の空隙をも満たすの
で、ＵＶワニスは光を遮られた箇所で熱的に硬化しなけ
ければならない。この熱的硬化はＵＶ照射と同時にか、
引続き直接にか又は後の別途の熱処理時に初めて行って
もよい。熱的硬化に必要な熱は赤外線放射器又は加熱さ
れた大気により補給される。しかし例えば水銀又はキセ
ノン放射器のようなＵＶ放射器により放射される赤外線
照射分を利用するか又は放射器の熱い壁から対流的に伝
送される熱を利用することも可能である。
照射がもはや行えないような巻体の空隙をも満たすの
で、ＵＶワニスは光を遮られた箇所で熱的に硬化しなけ
ければならない。この熱的硬化はＵＶ照射と同時にか、
引続き直接にか又は後の別途の熱処理時に初めて行って
もよい。熱的硬化に必要な熱は赤外線放射器又は加熱さ
れた大気により補給される。しかし例えば水銀又はキセ
ノン放射器のようなＵＶ放射器により放射される赤外線
照射分を利用するか又は放射器の熱い壁から対流的に伝
送される熱を利用することも可能である。
【００１６】これらの樹脂の光化学反応の調整は光開始
剤の添加により行われる。適当な光開始剤には、ベンゾ
イン誘導体、アセトフェノン誘導体、ベンゾイルホスフ
ィンオキシドのような分子内ラジカルを形成する開始
剤、及び共開始剤及び光増感剤と結合したベンゾフェノ
ン及びチオキサントンのような分子間水素引き抜きによ
りラジカルを形成する開始剤がある。この種の光開始剤
は専門家にとって公知である。
剤の添加により行われる。適当な光開始剤には、ベンゾ
イン誘導体、アセトフェノン誘導体、ベンゾイルホスフ
ィンオキシドのような分子内ラジカルを形成する開始
剤、及び共開始剤及び光増感剤と結合したベンゾフェノ
ン及びチオキサントンのような分子間水素引き抜きによ
りラジカルを形成する開始剤がある。この種の光開始剤
は専門家にとって公知である。
【００１７】樹脂の熱化学反応の調整は過酸化物の添加
により行われるが、その際過酸化物の選択は、樹脂混合
物の貯蔵安定性が制限されず、過酸化物の分解時にガス
状分解生成物を生じることがなくまた１５０℃以下の温
度で迅速に硬化するものを選ぶようにする。
により行われるが、その際過酸化物の選択は、樹脂混合
物の貯蔵安定性が制限されず、過酸化物の分解時にガス
状分解生成物を生じることがなくまた１５０℃以下の温
度で迅速に硬化するものを選ぶようにする。
【００１８】特に有利な過酸化物としては、例えばｔ−
ブチルペルマレイネート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペ
ルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、
ｔ−ブチルペルオキシ安息香酸及び２，２−ビス−（ｔ
−ブチルペルオキシ）−ブタンがある。
ブチルペルマレイネート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペ
ルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、
ｔ−ブチルペルオキシ安息香酸及び２，２−ビス−（ｔ
−ブチルペルオキシ）−ブタンがある。
【００１９】添加剤としては樹脂混合物に鉱物性及び有
機性充填剤を添加してもよい。有利には混合物に雲母、
滑石、珪酸アルミニウム、石英又はガラス薄片のような
薄板状充填剤を添加する。こうすることによって巻体の
トポグラフィーの良好な平坦化及び水蒸気及び他のガス
に対して遮断作用が高められる。
機性充填剤を添加してもよい。有利には混合物に雲母、
滑石、珪酸アルミニウム、石英又はガラス薄片のような
薄板状充填剤を添加する。こうすることによって巻体の
トポグラフィーの良好な平坦化及び水蒸気及び他のガス
に対して遮断作用が高められる。
【００２０】未硬化樹脂混合物又は成形材に対する目標
とされる属性変質にはチキソトロピー剤、脱ガス剤、湿
潤剤、粘着剤、有機性色素及び着色剤のような他の付加
物を添加してもよい。
とされる属性変質にはチキソトロピー剤、脱ガス剤、湿
潤剤、粘着剤、有機性色素及び着色剤のような他の付加
物を添加してもよい。
【００２１】フェライト芯が１２５μｍの太さの銅ワニ
ス線で１００巻されている高周波チョークコイルを以下
に記載する溶剤不含の基礎ワニスで被覆した。
ス線で１００巻されている高周波チョークコイルを以下
に記載する溶剤不含の基礎ワニスで被覆した。
【００２２】
【表１】 メタクリレート（エトキシ化ビスフェノールＡのジメチルアクリレート） １００重量部 光開始剤（２−メチル−１−４−（メチルチオ）フェニル−２−モルフォリノプ ロパノン−１） ２重量部 過酸化物（１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシ クロヘキサン） １重量部 滑石 ３０重量部 硫化亜鉛 ２重量部 発熱源の珪酸 １．５重量部
【００２３】上述の基礎ワニスは擬液体性であり、２５
℃及び２０００／ｓ-1の速度勾配で粘度は１．８Ｐａ・
ｓである。貯蔵安定性は３カ月以上である。
℃及び２０００／ｓ-1の速度勾配で粘度は１．８Ｐａ・
ｓである。貯蔵安定性は３カ月以上である。
【００２４】この高周波チョークコイルを赤外線の照射
により約１２０℃に前もって加熱し、回転するワニスホ
イールにより基礎ワニスを施した。ワニス層を次の１０
秒間４００Ｗの水銀放射器でＵＶ光線を照射した。ＵＶ
Ａ範囲の出力密度は照射物のある箇所で約８０ｍＷ／ｃ
ｍ2 であった。引続きこうして基礎ワニスを施された高
周波チョークコイルを更に２分間ＩＲ照射により１５０
℃に加熱した。
により約１２０℃に前もって加熱し、回転するワニスホ
イールにより基礎ワニスを施した。ワニス層を次の１０
秒間４００Ｗの水銀放射器でＵＶ光線を照射した。ＵＶ
Ａ範囲の出力密度は照射物のある箇所で約８０ｍＷ／ｃ
ｍ2 であった。引続きこうして基礎ワニスを施された高
周波チョークコイルを更に２分間ＩＲ照射により１５０
℃に加熱した。
【００２５】巻体表面は十分に平坦化されており、ワニ
ス層にはいかなる気泡又はクレータも生じない。巻体中
の基礎ワニスをＩＲ照射後に硬化した。硬化時間として
は１０秒間で十分であることが判明したが、その際巻体
表面を平坦化するための下塗工程は一回で十分であっ
た。
ス層にはいかなる気泡又はクレータも生じない。巻体中
の基礎ワニスをＩＲ照射後に硬化した。硬化時間として
は１０秒間で十分であることが判明したが、その際巻体
表面を平坦化するための下塗工程は一回で十分であっ
た。
【図１】本発明による回転対称の高周波チョークコイル
の側面図。
の側面図。
１ 高周波チョークコイル（電気デバイス） ２ 接続線 ３ 接続線の端部 ４ 被覆
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｂ 3/30 Ｐ 9059−5Ｇ (71)出願人 390041508 シーメンス、マツシタ、コンポーネンツ、 ゲゼルシヤフト、ミツト、ベシユレンクテ ル、ハフツング、ウント、コンパニ、コマ ンデイート、ゲゼルシヤフト ＳＩＥＭＥＮＳ ＭＡＴＳＵＳＨＩＴＡ ＣＯＭＰＯＮＥＮＴＳ ＧＥＳＥＬＬＳＣ ＨＡＦＴ ＭＩＴ ＢＥＳＣＨＲＡＮＫＴ ＥＲ ＨＡＦＴＵＮＧ ＆ ＣＯＭＰＡＮ Ｙ ＫＯＭＭＡＮＤＩＴＧＥＳＥＬＬＳＣ ＨＡＦＴ ドイツ連邦共和国ミユンヘン （番地な し) (72)発明者 ヘルベルト ボルツ ドイツ連邦共和国 8881 シユウエニンゲ ン リンデンジートルング ９ (72)発明者 クルト マルト ドイツ連邦共和国 7920 ハイデンハイム ランゴバルデンヴエーク ６ (72)発明者 ロタール シエーン ドイツ連邦共和国 8524 ノインキルヒエ ン クロスターエツカーヴエーク 33 (72)発明者 ベルンハルト シユタツプ ドイツ連邦共和国 8501 カルヒロイト アムグループフエルト １ (72)発明者 ゲルト アンフト ドイツ連邦共和国 8550 フオルヒハイム ウイルヘルムスヘー 25
Claims (5)
- 【請求項１】 ＵＶ照射により及び熱的に硬化可能の以
下の成分： −少なくとも以下の群の成分を有する１個又は複数個の
二重結合を有する低分子又は高分子化合物をベースとす
るラジカルに硬化可能の樹脂混合物：（メタ）クリル化
エポキシ樹脂、（メタ）クリル化ポリエーテル、（メ
タ）クリル化ポリウレタン、ビスフェノールＡのような
多官能性アルコールのメタクリル酸エステル、ビスフェ
ノールＡとエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキ
シドの分解生成物； −少なくとも以下の群の光開始剤：ベンゾイン、アセト
フェノン、酸化ホスフィンベンゾイル並びにチオ開始剤
及び反応促進剤と結合したベンゾフェノン及びチオキサ
ントン； −少なくとも以下の群の過酸化物：ｔ−ブチルペルマレ
イネート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルペ
ルオキシ安息香酸、２，２−ビス−（ｔ−ブチルペルオ
キシ）−ブタンを含んでいる組成からなる被覆を有する
ことを特徴とする回転対称の電気デバイス。 - 【請求項２】 硬化可能の樹脂混合物に対してそれぞれ
０．１〜５．０重量％の光開始剤及び過酸化物を含有す
る被覆を有することを特徴とする請求項１記載の電気デ
バイス。 - 【請求項３】 被覆が付加的に１種又は数種の添加剤を
含んでいることを特徴とする請求項１又は２記載の電気
デバイス。 - 【請求項４】 添加剤が少なくとも以下の群の１成分：
鉱物性及び有機性充填剤、有利には雲母、滑石、珪酸ア
ルミニウム、石英、ガラス薄片のような薄板状充填剤か
らなることを特徴とする請求項３記載の電気デバイス。 - 【請求項５】 被覆がチキソトロピー剤、脱ガス補助
剤、湿潤剤、粘着剤、有機色素及び顔料を含んでいるこ
とを特徴とする請求項１ないし４の１つに記載の電気デ
バイス。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE9113083.2 | 1991-10-21 | ||
| DE9113083U DE9113083U1 (de) | 1991-10-21 | 1991-10-21 | Rotationssymmetrisches elektrisches Bauelement |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05326246A true JPH05326246A (ja) | 1993-12-10 |
Family
ID=6872462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30639992A Pending JPH05326246A (ja) | 1991-10-21 | 1992-10-19 | 回転対称の電気デバイス |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0538769A3 (ja) |
| JP (1) | JPH05326246A (ja) |
| DE (1) | DE9113083U1 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5854622A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-03-31 | Mitsubishi Electric Corp | コイル製造法 |
| JPS58139417A (ja) * | 1982-02-13 | 1983-08-18 | Mitsubishi Electric Corp | 電気機器コイル用導体の製造方法 |
| JPS62165904A (ja) * | 1986-01-17 | 1987-07-22 | 日本化成株式会社 | フイルムコンデンサ被覆用樹脂組成物 |
| US4879804A (en) * | 1988-09-30 | 1989-11-14 | Chiang C Y | Method of fabricating a coil |
-
1991
- 1991-10-21 DE DE9113083U patent/DE9113083U1/de not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-10-19 EP EP19920117862 patent/EP0538769A3/de not_active Withdrawn
- 1992-10-19 JP JP30639992A patent/JPH05326246A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0538769A3 (en) | 1993-11-18 |
| EP0538769A2 (de) | 1993-04-28 |
| DE9113083U1 (de) | 1991-12-05 |
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