JPH053251A - Standard cell type semiconductor integrated circuit - Google Patents

Standard cell type semiconductor integrated circuit

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JPH053251A
JPH053251A JP14907491A JP14907491A JPH053251A JP H053251 A JPH053251 A JP H053251A JP 14907491 A JP14907491 A JP 14907491A JP 14907491 A JP14907491 A JP 14907491A JP H053251 A JPH053251 A JP H053251A
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JP
Japan
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delay
circuit
wiring
semiconductor integrated
integrated circuit
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JP14907491A
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Japanese (ja)
Inventor
Akihito Ono
明史 小野
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NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a highly accurate delay circuit corresponding to the correction characteristics of timing created in circuit design by a method wherein delay blocks composed of capacitance elements and resistance elements are provided on a semiconductor device. CONSTITUTION:Delay blocks 210 composed of resistance elements 201R and capacitance elements 210C which are connected in parallel with each other are provided beneath a logic part 110a and near a first RAM 130-1 on the basic of circuit connection information. The respective blocks are connected to each other with second aluminum wirings 1, 2 and 117-7 and a first aluminum wiring 11 in wiring regions 150-2, 160-2 and 116-1 to realize a semiconductor integrated circuit device (LSI). The respective delay blocks are composed of the capacitance elements and the resistance elements having different capacitance values and resistance values and, by combining the blocks, a delay circuit having higher accuracy can be obtained corresponding to the correction characteristics of timings created by various circuit design and, further, a misoperation caused by the increase of the wiring length, i.e., the increase of the wiring capacitance, can be avoided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路装置に関
し、特に、スタンダード・セル式の半導体集積回路装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to a standard cell type semiconductor integrated circuit device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年スタンダード・セル方式の半導体集
積回路装置はゲート・アレイよりも設計の自由度が大き
く大きなROMやRAMが使え、さらにチップを無駄な
く構成できるため、通信,パーソナルコンピュータ及び
家電等の幅広い分野で使用されるようになってきた。こ
のためスタンダード・セルの回路構成も複雑化し更にレ
イアウトの精密さも要求されるようになってきた。
2. Description of the Related Art In recent years, standard cell type semiconductor integrated circuit devices have a greater degree of freedom in design than a gate array and can use large ROMs and RAMs, and the chips can be configured without waste, so that communication, personal computers, home appliances, etc. Has come to be used in a wide range of fields. For this reason, the circuit configuration of the standard cell has become complicated, and more precise layout has been required.

【0003】通常、スタンダード・セル方式の半導体集
積回路装置においては図3(a),図3(b)に示す様
にロジック部110,マイクロプロセッサ部120,第
1のRAM130−1,第2のRAM130−2,第1
のROM140−1,第2のROMなどの大きさの異な
る各ブロックがLSIチップ100の内部領域に配置さ
れている。また、スタンダード・セルの配線領域150
−1〜150〜4,160−1〜160−3は配線の本
数によって縮拡する。
Usually, in a standard cell type semiconductor integrated circuit device, as shown in FIGS. 3A and 3B, a logic section 110, a microprocessor section 120, a first RAM 130-1, and a second RAM 130-1. RAM 130-2, first
Each block of different sizes, such as the ROM 140-1 and the second ROM, is arranged in the internal area of the LSI chip 100. In addition, the standard cell wiring area 150
-1 to 150 to 4, 160-1 to 160-3 expand or contract depending on the number of wirings.

【0004】更に回路接続情報により配線域において、
第2アルミニウム配線1,2,3,…第1アルミニウム
配線11,12,13,…およびスルーホール21,2
2,23,24…を使用してロジック部110,第1の
RAM130−1とマイクロプロセッサ部120間を接
続することによりLSIを実現している。このようなレ
イアウト設計は通常、計算機によって自動的に行なわれ
る。
Further, according to the circuit connection information, in the wiring area,
Second aluminum wirings 1, 2, 3, ... First aluminum wirings 11, 12, 13 ,.
2, 23, 24 ... Are used to connect the logic unit 110, the first RAM 130-1 and the microprocessor unit 120 to realize an LSI. Such layout design is usually automatically performed by a computer.

【0005】またマイクロプロセッサ部120,第1の
RAM130−1,第2のRAM130−2,第1のR
OM140−2はそれぞれ単一のブロックとして存在し
ているが、ロジック部110は図4(a),図4(b)
に示す様にインバータ111−1〜111−4,F/F
112−1,NANDゲート113−1,NORゲート
114−1,複合ゲート115−1等の機能ブロックと
配線域116−1,116−2,…,の集合体であり、
第2アルミニウム配線117−1,117−2,…第1
アルミニウム配線118−1,…スルーホール119−
1,119−2,…を使用して各機能ブロック間を接続
することにより実現している。このようなレイアウト設
計もまた通常計算機によって自動的に行なわれる。
Further, the microprocessor unit 120, the first RAM 130-1, the second RAM 130-2, the first R
Each of the OMs 140-2 exists as a single block, but the logic unit 110 has the same structure as that shown in FIGS.
Inverters 111-1 to 111-4, F / F
112-1, NAND gate 113-1, NOR gate 114-1, composite gate 115-1 and other functional blocks and wiring areas 116-1, 116-2, ...
Second aluminum wirings 117-1, 117-2, ... First
Aluminum wiring 118-1, through hole 119-
It is realized by connecting the respective functional blocks using 1, 119-2, .... Such layout design is also usually automatically performed by a computer.

【0006】この場合に図5に示すように第1のRAM
130−1が回路設計上のタイミングの問題から出力
(OUT)を数ns遅らさざるを得ない場合は、第1の
RAM130−1の出力(OUT)をインバータ111
−1〜111−4からなる遅延回路200に接続し、ゲ
ート遅延を利用して回路のタイミングを補正することに
より、遅延回路200の出力(OUT1)を第1のRA
Mブロック130−1のみかけ上の出力とする。
In this case, as shown in FIG. 5, the first RAM
When the output (OUT) of the first RAM 130-1 is delayed by several ns due to a timing problem in circuit design, the output (OUT) of the first RAM 130-1 is set to the inverter 111.
The output (OUT1) of the delay circuit 200 is connected to the delay circuit 200 composed of -1 to 111-4, and the gate delay is used to correct the timing of the circuit.
It is assumed that the M block 130-1 is an apparent output.

【0007】すなわち、回路接続情報から図6に示すよ
うに、第1のRAM130−1,ロジック部110のイ
ンバータ111−1〜111−4を配置した配線域15
0−1,160−2,116−1,116−2と第2ア
ルミニウム配線1,2,117−1〜117−6,第1
アルミニウム配線11,118−1〜118−4および
スルーホール21,22,119−1〜119−7を使
用して各ブロック間を接続することにより、LSIを実
現する。
That is, from the circuit connection information, as shown in FIG. 6, the wiring area 15 in which the first RAM 130-1 and the inverters 111-1 to 111-4 of the logic section 110 are arranged.
0-1, 160-2, 116-1, 116-2 and second aluminum wirings 1, 2, 117-1 to 117-6, first
An LSI is realized by connecting the respective blocks using aluminum wirings 11, 118-1 to 118-4 and through holes 21, 22, 119-1 to 119-7.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来のスタンダード・セル方式の半導体集積回路装置
は、回路のタイミング調整にインバータからなる遅延回
路を使用しているのでインバータの複数段倍の遅延時間
しか得られない。このため、高精度の回路設計ができな
いという欠点がある。更に、遅延回路に使用されるイン
バータ分だけブロック数が増加してしまうという難点が
ある。
As described above,
Since the conventional standard cell type semiconductor integrated circuit device uses a delay circuit including an inverter for timing adjustment of the circuit, a delay time of a plurality of stages of the inverter can be obtained. For this reason, there is a disadvantage that a highly accurate circuit design cannot be performed. Further, there is a problem that the number of blocks increases by the number of inverters used in the delay circuit.

【0009】また、配置及び配線は計算機上で自動的に
行われるため、遅延回路用のインバータは不規則に配置
される。このため、配線長が長くなり、配線容量が大き
くなって誤動作の原因にもなるという欠点がある。
Further, since the arrangement and wiring are automatically performed on the computer, the inverters for the delay circuit are arranged irregularly. For this reason, there is a drawback that the wiring length becomes long, the wiring capacitance becomes large, and it causes a malfunction.

【0010】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって遅延の精度をあげ、誤動作を防止すると共に
回路設計の質の向上を図ることができるスタンダード・
セル方式の半導体集積回路装置を提供することを目的と
する。
The present invention has been made in view of the above problems, and improves the accuracy of delay, prevents malfunctions, and improves the quality of circuit design.
An object is to provide a cell type semiconductor integrated circuit device.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、半導体基板上
にあらかじめ用意されているインバータ,NORゲー
ト,NANDゲート,F/F等の機能ブロック,RA
M,ROM等のメモリブロックおよびマイクロプロセッ
サ等の大汎用機能ブロックなどを組み合わせて所要の回
路機能を実現するスタンダード・セル方式の半導体集積
回路装置において、前記半導体基板にコンデンサ素子お
よびまたは抵抗素子からなる遅延ブロックを含むという
ものである。
According to the present invention, an inverter, a NOR gate, a NAND gate, a functional block such as an F / F, and RA, which are prepared in advance on a semiconductor substrate, are provided.
In a standard cell type semiconductor integrated circuit device that realizes a required circuit function by combining a memory block such as M and ROM and a large general-purpose functional block such as a microprocessor, the semiconductor substrate includes a capacitor element and / or a resistance element. It includes a delay block.

【0012】[0012]

【作用】本発明においてはコンデンサ素子および抵抗素
子からなる遅延ブロックを設けることによって、コンデ
ンサ素子及び抵抗素子の容量値及び抵抗値を種々設定し
ておけば、回路設計のタイミングに応じてこれらのコン
デンサ素子及び抵抗素子を種々組み合わせて配置するこ
とによって、任意の容量値及び抵抗値を得ることができ
る。
According to the present invention, by providing a delay block composed of a capacitor element and a resistance element, the capacitance value and the resistance value of the capacitor element and the resistance element can be set in various ways. Arbitrary capacitance values and resistance values can be obtained by arranging various combinations of elements and resistance elements.

【0013】これにより、遅延時間を容易に選択するこ
とができ、回路設計において生じるタイミングの補正特
性に応じて高精度の遅延回路を与えることができる。ま
た、遅延回路の配線長の配線容量の増大による誤動作を
防止できる。
Thus, the delay time can be easily selected, and a highly accurate delay circuit can be provided according to the timing correction characteristic generated in the circuit design. In addition, it is possible to prevent malfunction due to an increase in the wiring length and wiring capacitance of the delay circuit.

【0014】[0014]

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.

【0015】図1(a)は本発明の一実施例を示すブロ
ック図、図1(b)は図1(a)のA部拡大部,図2は
遅延ブロックの構成図である。
FIG. 1 (a) is a block diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 1 (b) is an enlarged view of part A of FIG. 1 (a), and FIG. 2 is a block diagram of a delay block.

【0016】遅延ブロック201は抵抗素子201Rと
容量素子201Cを並列に接続したものである。
The delay block 201 comprises a resistance element 201R and a capacitance element 201C connected in parallel.

【0017】回路接続情報より図1(b)に示す様に、
ロジック部110aの下方、第1のRAM130−1に
近いところに遅延ブロック201を配置し、配線域15
0−2,160−2,116−1において第2アルミニ
ウム配線1,2,117−7,第1アルミニウム配線1
1,118−5とスルーホール21,22,119−8
を使用して各ブロックを接続して半導体集積回路装置
(LSI)を実現する。
From the circuit connection information, as shown in FIG.
The delay block 201 is arranged below the logic unit 110a and near the first RAM 130-1, and the wiring area 15
2nd aluminum wiring 1, 2, 117-7, 1st aluminum wiring 1 in 0-2, 160-2, 116-1
1,118-5 and through holes 21, 22, 119-8
Is used to connect each block to realize a semiconductor integrated circuit device (LSI).

【0018】なお、遅延ブロックとしては、RC並列回
路に限らず、例えば0.5pF,1pF,2pFの容量
値のコンデンサ素子を用意しておいてもよく、必要に応
じて容量値を変えることによって遅延時間の選択が容易
に可能である。抵抗素子においても同様に数Ω〜数kΩ
のものを用意し、コンデンサ素子,抵抗素子又はコンデ
ンサ素子と抵抗素子の組み合せ等のようにバリエーショ
ンに富む遅延ブロックを数種類用意する。
The delay block is not limited to the RC parallel circuit, but a capacitor element having a capacitance value of 0.5 pF, 1 pF, 2 pF may be prepared, and the capacitance value may be changed as necessary. The delay time can be easily selected. Similarly in the resistance element, several Ω to several kΩ
The delay block with various variations such as a capacitor element, a resistance element, or a combination of a capacitor element and a resistance element is prepared.

【0019】このように数種類の遅延ブロックを用いる
ことによって、種々の回路設計に生じるタイミングの補
正特性に応じて、より精度が高い遅延回路を得ることが
できる。
By using several kinds of delay blocks in this way, it is possible to obtain a delay circuit with higher accuracy according to the timing correction characteristics that occur in various circuit designs.

【0020】また、遅延回路として、インバータを何段
も用いずに済むため、遅延回路の配線長の配線容量増大
による誤動作を防止することができる。
Further, since it is not necessary to use many stages of inverters as the delay circuit, it is possible to prevent malfunction due to an increase in wiring capacitance of the wiring length of the delay circuit.

【0021】更に遅延ブロックを用いても計算機を使用
して従来同様にLSIを実現できる。
Further, even if the delay block is used, the LSI can be realized by using a computer as in the conventional case.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、コ
ンデンサ素子およびまたは抵抗素子からなる遅延ブロッ
クを設けることによって種々の回路設計において生じる
タイミングの補正特性に応じた遅延時間を与えることが
できる。従って従来よりも精度が高い回路設計を行うこ
とができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, by providing the delay block including the capacitor element and / or the resistance element, it is possible to provide the delay time according to the correction characteristic of the timing generated in various circuit designs. . Therefore, there is an effect that it is possible to design a circuit with higher accuracy than in the past.

【0023】また、本発明によればインバータなどの機
能ブロックを何段も使用して遅延回路を形成するという
必要がなく遅延回路の配線長の配線容量の増大による誤
動作を防止することができるという効果がある。
Further, according to the present invention, it is not necessary to form a delay circuit by using a number of stages of functional blocks such as an inverter, and it is possible to prevent malfunction due to an increase in the wiring capacitance of the wiring length of the delay circuit. effective.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の構成を示すブロック図(図
1(a))および部分拡大図(図1(b))である。
FIG. 1 is a block diagram (FIG. 1A) and a partially enlarged view (FIG. 1B) showing a configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】一実施例における遅延ブロックの構成図であ
る。
FIG. 2 is a configuration diagram of a delay block according to an embodiment.

【図3】従来例の構成を示すブロック図(図3(a))
および部分拡大図(図3(b))である。
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a conventional example (FIG. 3 (a)).
3 is a partially enlarged view (FIG. 3B).

【図4】従来例におけるロジック部の構成を示すブロッ
ク図(図4(a))および部分拡大図である。
FIG. 4 is a block diagram (FIG. 4A) and a partially enlarged view showing a configuration of a logic unit in a conventional example.

【図5】従来例における遅延回路の回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram of a delay circuit in a conventional example.

【図6】従来例における遅延回路の構成を示すレイアウ
ト図である。
FIG. 6 is a layout diagram showing a configuration of a delay circuit in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 LSIチップ 110,110a ロジック部 111−1〜111−4 インバータ 112−1 F/F 113−1 NANDゲート 114−1 NORゲート 115−1 複合ゲート 116−1,116−2 配線域 117−1〜117−7 第2アルミニウム配線 118−1〜118−5 第1アルミニウム配線 119−1〜119−8 スルーホール 120 マイクロプロセッサ部 130−1 第1のRAM 130−2 第2のRAM 140−1 第1のROM 140−2 第2のROM 150−1〜150−4 配線域 160−1〜160−3 配線域 200 遅延回路 201 遅延ブロック 201R 抵抗素子 201C コンデンサ素子 100 LSI chips 110, 110a Logic part 111-1 to 111-4 inverter 112-1 F / F 113-1 NAND gate 114-1 NOR gate 115-1 compound gate 116-1, 116-2 wiring area 117-1 to 117-7 Second Aluminum Wiring 118-1 to 118-5 First Aluminum Wiring 119-1 to 119-8 Through hole 120 microprocessor 130-1 First RAM 130-2 Second RAM 140-1 First ROM 140-2 Second ROM 150-1 to 150-4 Wiring area 160-1 to 160-3 wiring area 200 delay circuit 201 delay block 201R resistance element 201C capacitor element

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体基板にあらかじめ用意されている
機能ブロック,メモリブロックおよび大汎用機能ブロッ
クを組み合わせて所要の回路機能を実現するスタンダー
ド・セル方式の半導体集積回路装置において、前記半導
体基板にコンデンサ素子およびまたは抵抗素子からなる
遅延ブロックを含むことを特徴とするスタンダード・セ
ル方式の半導体集積回路装置。
1. A standard cell type semiconductor integrated circuit device that realizes a required circuit function by combining a functional block, a memory block, and a general-purpose functional block prepared in advance on a semiconductor substrate, wherein a capacitor element is provided on the semiconductor substrate. And / or a standard cell type semiconductor integrated circuit device including a delay block including a resistance element.
【請求項2】 複数の機能ブロックからなるロジック部
に遅延ブロックを配置する請求項1記載のスタンダード
・セル方式の半導体集積回路装置。
2. The standard cell type semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the delay block is arranged in a logic section including a plurality of functional blocks.
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