JPH05322795A - 蛍光パターン検知機構 - Google Patents
蛍光パターン検知機構Info
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- JPH05322795A JPH05322795A JP13296292A JP13296292A JPH05322795A JP H05322795 A JPH05322795 A JP H05322795A JP 13296292 A JP13296292 A JP 13296292A JP 13296292 A JP13296292 A JP 13296292A JP H05322795 A JPH05322795 A JP H05322795A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は，蛍光パターン検知機構し，走査
全域で蛍光検出を可能とし，走査域周囲の不要な蛍光の
影響を防止する蛍光検知光学系を得ることを目的とす
る。 【構成】 蛍光励起用のレーザ光４を, 目的の速度で
走査する第１の手段と，レーザ光４の波長において最適
化された第１のスキャンレンズ７により，レーザ光４を
検査対象物体３上に集光する手段と，レーザ光４の検査
対象物体３に対する照射点８の反射光９を，レーザ光４
の照射により発生する蛍光５の波長域において最適化さ
れた第２のスキャンレンズ10により，レーザ光４の照射
方向から集光する手段と，集光された反射光９を, 第１
の走査手段と同期した状態で, 逆の方向に走査する第２
の走査手段と，蛍光５の成分を結像する手段と，結像面
11上において，レーザ光４の照射点８に相当する位置か
ら発生した蛍光５の成分のみを抽出する手段と，抽出し
た蛍光５の成分を電気信号に変換し，検出する手段とを
具備するように構成する。
全域で蛍光検出を可能とし，走査域周囲の不要な蛍光の
影響を防止する蛍光検知光学系を得ることを目的とす
る。 【構成】 蛍光励起用のレーザ光４を, 目的の速度で
走査する第１の手段と，レーザ光４の波長において最適
化された第１のスキャンレンズ７により，レーザ光４を
検査対象物体３上に集光する手段と，レーザ光４の検査
対象物体３に対する照射点８の反射光９を，レーザ光４
の照射により発生する蛍光５の波長域において最適化さ
れた第２のスキャンレンズ10により，レーザ光４の照射
方向から集光する手段と，集光された反射光９を, 第１
の走査手段と同期した状態で, 逆の方向に走査する第２
の走査手段と，蛍光５の成分を結像する手段と，結像面
11上において，レーザ光４の照射点８に相当する位置か
ら発生した蛍光５の成分のみを抽出する手段と，抽出し
た蛍光５の成分を電気信号に変換し，検出する手段とを
具備するように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，蛍光パターン検知機構
に関し，特に，セラミック基板上の樹脂薄膜層に形成さ
れたバイアホールに発生する樹脂残渣などの欠陥を検出
するために用いられるバイアホール検査装置の検知機構
に関するものである。
に関し，特に，セラミック基板上の樹脂薄膜層に形成さ
れたバイアホールに発生する樹脂残渣などの欠陥を検出
するために用いられるバイアホール検査装置の検知機構
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２〜図６は従来例の説明図であり，図
２は検査対象，図３はバイアホールの欠陥例，図４は従
来例の蛍光パターン検知機構，図５は蛍光によるバイア
ホール検知の原理，図６は波長特性を示す。
２は検査対象，図３はバイアホールの欠陥例，図４は従
来例の蛍光パターン検知機構，図５は蛍光によるバイア
ホール検知の原理，図６は波長特性を示す。
【０００３】図において，24はセラミック基板, 25はポ
リイミド薄膜層, 26はバイアホール, 27は金属配線, 28
はレーザ光，29は反射光, 30は蛍光，31は蛍光励起用レ
ーザ光源, 32はビームエキスパンダ, 33はミラー, 34は
回転多面鏡，35はスキャンレンズ, 36は第２のビームス
プリッタ，37は格子板, 38は検査対象物体, 39は載置ス
テージ, 40は照射面, 41は格子検知用光センサ, 42は第
１のビームスプリッタ, 43は波長フィルタ, 44は再結像
用レンズ, 45はピンホール, 46は蛍光検知用光センサで
ある。
リイミド薄膜層, 26はバイアホール, 27は金属配線, 28
はレーザ光，29は反射光, 30は蛍光，31は蛍光励起用レ
ーザ光源, 32はビームエキスパンダ, 33はミラー, 34は
回転多面鏡，35はスキャンレンズ, 36は第２のビームス
プリッタ，37は格子板, 38は検査対象物体, 39は載置ス
テージ, 40は照射面, 41は格子検知用光センサ, 42は第
１のビームスプリッタ, 43は波長フィルタ, 44は再結像
用レンズ, 45はピンホール, 46は蛍光検知用光センサで
ある。
【０００４】先ず，図２により検査対象の概要を説明す
る。対象は不透明な物体，例えば多層セラミック基板24
上に形成された樹脂，例えばポリイミド薄膜層25のバイ
アホール（直径 100μｍ以下) 26である。
る。対象は不透明な物体，例えば多層セラミック基板24
上に形成された樹脂，例えばポリイミド薄膜層25のバイ
アホール（直径 100μｍ以下) 26である。
【０００５】このポリイミド薄膜層25に設けられたバイ
アホール26に発生する欠陥例を図３に示す。図３の
（ａ）は正常なバイアホール26である。これに対して，
（ｂ）〜（ｇ）は欠陥バイアホール26である。
アホール26に発生する欠陥例を図３に示す。図３の
（ａ）は正常なバイアホール26である。これに対して，
（ｂ）〜（ｇ）は欠陥バイアホール26である。
【０００６】即ち, （ｂ）はバイアホール26の一部にポ
リイミド薄膜層25が残存しているもの,(ｃ）はバイアホ
ール26の全体にポリイミド薄膜層25が残存しているも
の,（ｄ）はバイアホール26の直径が許容値よりも小さ
なもの，（ｅ）はバイアホール26の直径が許容値よりも
大きなもの，（ｆ）は本来あるべき位置にバイアホール
26がないもの， (ｇ）は本来ない位置にバイアホール26
があるものの例である。
リイミド薄膜層25が残存しているもの,(ｃ）はバイアホ
ール26の全体にポリイミド薄膜層25が残存しているも
の,（ｄ）はバイアホール26の直径が許容値よりも小さ
なもの，（ｅ）はバイアホール26の直径が許容値よりも
大きなもの，（ｆ）は本来あるべき位置にバイアホール
26がないもの， (ｇ）は本来ない位置にバイアホール26
があるものの例である。
【０００７】このようなポリイミド薄膜層25のバイアホ
ール25に発生する欠陥を検出するための検査装置に用い
られている従来例の蛍光パターン検知機構の概要を図４
に示す。
ール25に発生する欠陥を検出するための検査装置に用い
られている従来例の蛍光パターン検知機構の概要を図４
に示す。
【０００８】レーザ波長が紫外〜青のレーザ光28を蛍光
励起用レーザ光源31から発生し，ビームエキスパンダ32
を用いて拡大する。拡大したレーザ光28は回転多面鏡34
を用いて走査し，スキャンレンズ35により検査対象物体
38上に集光する。
励起用レーザ光源31から発生し，ビームエキスパンダ32
を用いて拡大する。拡大したレーザ光28は回転多面鏡34
を用いて走査し，スキャンレンズ35により検査対象物体
38上に集光する。
【０００９】ここで，図５の蛍光によるバイアホール検
知の原理に示すように，ポリイミド薄膜層25とバイアホ
ール26の識別には，レーザ光28を検査対象物体38である
ポリイミド薄膜層25に照射し，このポリイミド薄膜層25
から発生する蛍光波長が黄〜赤の蛍光30を利用する。こ
の場合，バイアホール26の底部に露出したセラミック基
板24上の金属配線27からは蛍光30は発生しないため，バ
イアホール26底部の形状が蛍光パターンにより検査装置
で識別される。
知の原理に示すように，ポリイミド薄膜層25とバイアホ
ール26の識別には，レーザ光28を検査対象物体38である
ポリイミド薄膜層25に照射し，このポリイミド薄膜層25
から発生する蛍光波長が黄〜赤の蛍光30を利用する。こ
の場合，バイアホール26の底部に露出したセラミック基
板24上の金属配線27からは蛍光30は発生しないため，バ
イアホール26底部の形状が蛍光パターンにより検査装置
で識別される。
【００１０】レーザ光28の照射により発生した蛍光30は
入射したレーザ光28と同じ経路を，スキャンレンズ35か
ら回転多面鏡34，第１のビームスプリッタ42と逆に通っ
て，再帰的に帰還され，光路中に配置された第１のビー
ムスプリッタ42により再帰反射光検知系に導かれる。
入射したレーザ光28と同じ経路を，スキャンレンズ35か
ら回転多面鏡34，第１のビームスプリッタ42と逆に通っ
て，再帰的に帰還され，光路中に配置された第１のビー
ムスプリッタ42により再帰反射光検知系に導かれる。
【００１１】すなわち，図６の波長特性に示すように，
この帰還された再帰反射光29は照射したレーザ光28の成
分と，発生した蛍光30の成分を含んでいるため，波長フ
ィルタ43を用いて蛍光30の成分のみを分離する。分離さ
れた蛍光30は再結像用レンズ44により再結像される。即
ち，結像面上には，レーザ光28の照射点40近傍の画像が
結像されることになる。
この帰還された再帰反射光29は照射したレーザ光28の成
分と，発生した蛍光30の成分を含んでいるため，波長フ
ィルタ43を用いて蛍光30の成分のみを分離する。分離さ
れた蛍光30は再結像用レンズ44により再結像される。即
ち，結像面上には，レーザ光28の照射点40近傍の画像が
結像されることになる。
【００１２】そこで，この結像面上に，空間フィルタと
してピンホール45を配置し，中央部分，即ち，レーザ光
28の照射点40の蛍光30のみを選択する。ピンホール45を
通過した蛍光30は例えば，光電子増倍管のような蛍光検
知用光センサ46を用いて検出し，蛍光検知信号としての
電気信号に変換する。
してピンホール45を配置し，中央部分，即ち，レーザ光
28の照射点40の蛍光30のみを選択する。ピンホール45を
通過した蛍光30は例えば，光電子増倍管のような蛍光検
知用光センサ46を用いて検出し，蛍光検知信号としての
電気信号に変換する。
【００１３】このように，レーザ光28の照射点40の画像
を再帰的に結像し，その結像面上において適切な空間フ
ィルタリングを行なうことにより，照射点40で発生した
蛍光30のみを分離して検出することにより，周囲の不要
な蛍光の影響を少なくしている。
を再帰的に結像し，その結像面上において適切な空間フ
ィルタリングを行なうことにより，照射点40で発生した
蛍光30のみを分離して検出することにより，周囲の不要
な蛍光の影響を少なくしている。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】このようなバイアホー
ル検査装置の蛍光パターン検知機構において，以下に示
すような問題があった。
ル検査装置の蛍光パターン検知機構において，以下に示
すような問題があった。
【００１５】一般に，スキャンレンズ35は，使用するレ
ーザ光28の波長に最適化されている。つまり，レーザ光
28と同じ波長の光が入射された場合に，収差などの諸性
能が最も良くなるように設計されている。
ーザ光28の波長に最適化されている。つまり，レーザ光
28と同じ波長の光が入射された場合に，収差などの諸性
能が最も良くなるように設計されている。
【００１６】このようなスキャンレンズ35を用いて前述
のような再帰的な結像を行なった場合，発生する蛍光30
の波長がレーザ光28の波長と大幅に異なるために，再結
像面上においてレーザ光28の照射点40の画像が一点に集
光せず，走査とともに再結像面上を移動する。すると，
走査の中央で発生した蛍光30はピンホール45を通過する
が，両端で発生した蛍光30は通過ぜす，検出が困難にな
るという問題があった。
のような再帰的な結像を行なった場合，発生する蛍光30
の波長がレーザ光28の波長と大幅に異なるために，再結
像面上においてレーザ光28の照射点40の画像が一点に集
光せず，走査とともに再結像面上を移動する。すると，
走査の中央で発生した蛍光30はピンホール45を通過する
が，両端で発生した蛍光30は通過ぜす，検出が困難にな
るという問題があった。
【００１７】本発明は，以上の点を鑑み，走査の全域で
蛍光30の検出を可能とし，かつ，周囲の不要な蛍光の影
響を出来る限り防止した蛍光パターン検知機構を提供す
ることを目的とする。
蛍光30の検出を可能とし，かつ，周囲の不要な蛍光の影
響を出来る限り防止した蛍光パターン検知機構を提供す
ることを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】図１は本発明の蛍光パタ
ーン検知機構である。図において，１は蛍光を発生しな
い物体，２は蛍光を発生する物体，３は検査対象物体，
４はレーザ光，５は蛍光，６は蛍光検知用光センサ，７
は第１のスキャンレンズ，８は照射点，９は反射光，10
は第２のスキャンレンズ，11は結像面, 12はピンホー
ル, 13は蛍光励起用レーザ光源, 14はビームエキスパン
ダ, 15はミラー, 16は第１の回転多面鏡，17はビームス
プリッタ, 18は格子板, 19は格子検知用光センサ, 20は
第２の回転多面鏡，21は波長フィルタ, 22は結像用レン
ズ, 23は再結像面である。
ーン検知機構である。図において，１は蛍光を発生しな
い物体，２は蛍光を発生する物体，３は検査対象物体，
４はレーザ光，５は蛍光，６は蛍光検知用光センサ，７
は第１のスキャンレンズ，８は照射点，９は反射光，10
は第２のスキャンレンズ，11は結像面, 12はピンホー
ル, 13は蛍光励起用レーザ光源, 14はビームエキスパン
ダ, 15はミラー, 16は第１の回転多面鏡，17はビームス
プリッタ, 18は格子板, 19は格子検知用光センサ, 20は
第２の回転多面鏡，21は波長フィルタ, 22は結像用レン
ズ, 23は再結像面である。
【００１９】本質的には，従来例の問題点は，検査対象
物体３に対する蛍光励起用のレーザ光４の集光と，検査
対象物体３から発生した蛍光５の集光とを，従来におい
ては，一つのスキャンレンズを用いて行なっていること
に起因している。そこで，検査対象物体３に対する蛍光
励起用のレーザ光４の集光のための第１のスキャンレン
ズ７と，検査対象物体３から発生した蛍光５の集光のた
めの第２のスキャンレンズ10のように，それぞれの波長
帯域において最適化した，別々のスキャンレンズを用い
れば，問題点は解決される。
物体３に対する蛍光励起用のレーザ光４の集光と，検査
対象物体３から発生した蛍光５の集光とを，従来におい
ては，一つのスキャンレンズを用いて行なっていること
に起因している。そこで，検査対象物体３に対する蛍光
励起用のレーザ光４の集光のための第１のスキャンレン
ズ７と，検査対象物体３から発生した蛍光５の集光のた
めの第２のスキャンレンズ10のように，それぞれの波長
帯域において最適化した，別々のスキャンレンズを用い
れば，問題点は解決される。
【００２０】即ち，本発明の目的は，図１（ｂ）に示す
ように，蛍光を発生しない物体１上に形成された蛍光を
発生する物体２，或いは，図１（ｃ）に示すように，蛍
光を発生する物体２上に形成された蛍光を発生しない物
体１からなる検査対象物体３にレーザ光４を照射して，
走査し, 図１（ａ）に示すように，該検査対象物体３か
ら発生する蛍光５を蛍光検知用光センサ６で検出し, 該
検査対象物体３の形状の検査を行なう検査装置におい
て,少なくとも,蛍光励起用の該レーザ光４を, 目的の速
度で走査する第１の走査手段と，該レーザ光４の波長に
おいて最適化された第１のスキャンレンズ７により, 該
レーザ光４を該検査対象物体３上に集光する手段と，該
レーザ光４の該検査対象物体３に対する照射点８の反射
光９を，該レーザ光４の照射により発生する該蛍光５の
波長域において最適化された第２のスキャンレンズ10に
より，該レーザ光４の照射方向から集光する手段と，集
光された該反射光９を, 目的の速度で走査する該第１の
手段と同期した状態で, 逆の方向に走査する第２の手段
と，該反射光９内の該蛍光５の成分のみを結像する手段
と，結像面11上において，該レーザ光４の該照射点８に
相当する位置から発生した該蛍光５の成分のみを抽出す
る手段と，抽出した該蛍光５の成分を電気信号に変換
し，検出する手段とを具備することにより，更に，前記
結像面11上において，前記レーザ光４の前記照射点８に
相当する位置から発生した前記蛍光５の成分のみを抽出
する手段が，再結像面23上の前記レーザ光４の前記照射
点８の直径とほぼ等しい径を有するピンホール12である
ことにより達成される。
ように，蛍光を発生しない物体１上に形成された蛍光を
発生する物体２，或いは，図１（ｃ）に示すように，蛍
光を発生する物体２上に形成された蛍光を発生しない物
体１からなる検査対象物体３にレーザ光４を照射して，
走査し, 図１（ａ）に示すように，該検査対象物体３か
ら発生する蛍光５を蛍光検知用光センサ６で検出し, 該
検査対象物体３の形状の検査を行なう検査装置におい
て,少なくとも,蛍光励起用の該レーザ光４を, 目的の速
度で走査する第１の走査手段と，該レーザ光４の波長に
おいて最適化された第１のスキャンレンズ７により, 該
レーザ光４を該検査対象物体３上に集光する手段と，該
レーザ光４の該検査対象物体３に対する照射点８の反射
光９を，該レーザ光４の照射により発生する該蛍光５の
波長域において最適化された第２のスキャンレンズ10に
より，該レーザ光４の照射方向から集光する手段と，集
光された該反射光９を, 目的の速度で走査する該第１の
手段と同期した状態で, 逆の方向に走査する第２の手段
と，該反射光９内の該蛍光５の成分のみを結像する手段
と，結像面11上において，該レーザ光４の該照射点８に
相当する位置から発生した該蛍光５の成分のみを抽出す
る手段と，抽出した該蛍光５の成分を電気信号に変換
し，検出する手段とを具備することにより，更に，前記
結像面11上において，前記レーザ光４の前記照射点８に
相当する位置から発生した前記蛍光５の成分のみを抽出
する手段が，再結像面23上の前記レーザ光４の前記照射
点８の直径とほぼ等しい径を有するピンホール12である
ことにより達成される。
【００２１】
【作用】本発明では，上述のように，検査対象物体３に
対する蛍光励起用のレーザ光４の集光のための第１のス
キャンレンズ７と，検査対象物体３から発生した蛍光５
の集光のための第２のスキャンレンズ10のように，それ
ぞれの波長帯域において最適化した，別々のスキャンレ
ンズを用いているので，再結像面23上において,レーザ
光４の照射点８の画像が一点に集光しないという問題が
クリアされ，走査の全域で蛍光５の検出を可能とし，か
つ，周囲の不要な蛍光の影響を出来る限り防止した蛍光
パターン検知が行なえる。
対する蛍光励起用のレーザ光４の集光のための第１のス
キャンレンズ７と，検査対象物体３から発生した蛍光５
の集光のための第２のスキャンレンズ10のように，それ
ぞれの波長帯域において最適化した，別々のスキャンレ
ンズを用いているので，再結像面23上において,レーザ
光４の照射点８の画像が一点に集光しないという問題が
クリアされ，走査の全域で蛍光５の検出を可能とし，か
つ，周囲の不要な蛍光の影響を出来る限り防止した蛍光
パターン検知が行なえる。
【００２２】
【実施例】図１は本発明の原理説明図兼一実施例の蛍光
パターン検知機構である。実施例において，レーザ光４
の走査から集光までは，従来例でも説明したように，レ
ーザ波長が紫外〜青のレーザ光４を蛍光励起用のレーザ
光源13から発生し，ビームエキスパンダ14を用いて拡大
する。拡大したレーザ光４は第１の回転多面鏡16を用い
て走査し，第１のスキャンレンズ７により検査対象物体
３上に集光する。すなわち，従来例と全く同じな方法で
ある。
パターン検知機構である。実施例において，レーザ光４
の走査から集光までは，従来例でも説明したように，レ
ーザ波長が紫外〜青のレーザ光４を蛍光励起用のレーザ
光源13から発生し，ビームエキスパンダ14を用いて拡大
する。拡大したレーザ光４は第１の回転多面鏡16を用い
て走査し，第１のスキャンレンズ７により検査対象物体
３上に集光する。すなわち，従来例と全く同じな方法で
ある。
【００２３】次に，それ以降の本発明についての動作に
ついて説明すると，ビームスプリッタ17を挟んで第１の
スキャンレンズ７及び第１の回転多面鏡16と同じ位置関
係になるように，第２のスキャンレンズ10及び第２の回
転多面鏡20を配設する。ここで，第２のスキャンレンズ
10，及び第２の回転多面鏡20は，設計波長を除いて，そ
の他のパラメータは全て，第１のスキャンレンズ７，及
び第１の回転多面鏡16と同一とする。
ついて説明すると，ビームスプリッタ17を挟んで第１の
スキャンレンズ７及び第１の回転多面鏡16と同じ位置関
係になるように，第２のスキャンレンズ10及び第２の回
転多面鏡20を配設する。ここで，第２のスキャンレンズ
10，及び第２の回転多面鏡20は，設計波長を除いて，そ
の他のパラメータは全て，第１のスキャンレンズ７，及
び第１の回転多面鏡16と同一とする。
【００２４】レーザ光４の照射による検査対象物体３か
らの反射光９は第２のスキャンレンズ10で集光され，第
２の回転多面鏡20により，第１の回転多面鏡16の走査方
向と逆の方向に走査される。
らの反射光９は第２のスキャンレンズ10で集光され，第
２の回転多面鏡20により，第１の回転多面鏡16の走査方
向と逆の方向に走査される。
【００２５】この反射光９は照射したレーザ光４の成分
と発生した蛍光５の成分を含んでいるため，波長フィル
タ21を用いて，蛍光５の成分のみを分離する。分離され
た蛍光５の成分は結像用レンズ22により結像される。こ
の時，第１の回転多面鏡16と第２の回転多面鏡20とを完
全に同期した状態で回転させると，結像面11上にはレー
ザ光４の照射点８近傍の画像が常に静止した状態で結像
されることになる。
と発生した蛍光５の成分を含んでいるため，波長フィル
タ21を用いて，蛍光５の成分のみを分離する。分離され
た蛍光５の成分は結像用レンズ22により結像される。こ
の時，第１の回転多面鏡16と第２の回転多面鏡20とを完
全に同期した状態で回転させると，結像面11上にはレー
ザ光４の照射点８近傍の画像が常に静止した状態で結像
されることになる。
【００２６】そこで，この結像面11上に，空間フィルタ
としてのピンホール12を配置し，レーザ光４の照射点８
である中央部分の蛍光５のみを選択する。ピンホール12
を通過した蛍光５は，例えば光電子増倍管のような蛍光
検知用光センサ６を用いて検出し，蛍光検知信号として
の電気信号に変換される。
としてのピンホール12を配置し，レーザ光４の照射点８
である中央部分の蛍光５のみを選択する。ピンホール12
を通過した蛍光５は，例えば光電子増倍管のような蛍光
検知用光センサ６を用いて検出し，蛍光検知信号として
の電気信号に変換される。
【００２７】本実施例による蛍光パターン検知機構は，
構成が従来例に比べて複雑となるが，空間フィルタとし
て，スリットを用いる場合と比較すると，周囲の不要な
蛍光の影響を防止する効果を，より一層，強めることが
できる。
構成が従来例に比べて複雑となるが，空間フィルタとし
て，スリットを用いる場合と比較すると，周囲の不要な
蛍光の影響を防止する効果を，より一層，強めることが
できる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように, 本発明によれば,
検査対象物体の走査の全域で，蛍光の検出を可能とする
ほか，検査対象物体の周囲の不要な蛍光の影響を出来る
限り防止した蛍光パターン検知機構を得ることができ，
ポリイミド薄膜層のバイアホール等の形状検査の精度向
上に寄与するところが大きい。
検査対象物体の走査の全域で，蛍光の検出を可能とする
ほか，検査対象物体の周囲の不要な蛍光の影響を出来る
限り防止した蛍光パターン検知機構を得ることができ，
ポリイミド薄膜層のバイアホール等の形状検査の精度向
上に寄与するところが大きい。
【図１】 本発明の蛍光パターン検知機構
【図２】 検査対象
【図３】 バイアホールの欠陥例
【図４】 従来例の蛍光パターン検知機構
【図５】 蛍光によるバイアホール検知の原理
【図６】 波長特性
１ 蛍光を発生しない物体 ２ 蛍光を発生する物体 ３ 検査対象物体 ４ レーザ光 ５ 蛍光 ６ 蛍光検知用光センサ ７ 第１のスキャンレンズ ８ 照射点 ９ 反射光 10 第２のスキャンレンズ 11 結像面 12 ピンホール 13 蛍光励起用レーザ光源 14 ビームエキスパンダ 15 ミラー 16 第１の回転多面鏡 17 ビームスプリッタ 18 格子板 19 格子検知用光センサ 20 第２の回転多面鏡 21 波長フィルタ 22 結像用レンズ 23 再結像面
Claims (2)
- 【請求項１】 蛍光を発生しない物体(1) 上に形成され
た蛍光を発生する物体(2) ，或いは，蛍光を発生する物
体(2) 上に形成された蛍光を発生しない物体(1) からな
る検査対象物体(3) にレーザ光(4) を照射して，走査
し, 該検査対象物体(3) から発生する蛍光(5) を光セン
サ(6) で検出し, 該検査対象物体(3) の形状の検査を行
なう検査装置において, 少なくとも, 蛍光励起用の該レーザ光(4) を, 目的の速度で走査する
第１の走査手段と， 該レーザ光(4) の波長において最適化された第１のスキ
ャンレンズ(7) により, 該レーザ光(4) を該検査対象物
体(3) 上に集光する手段と， 該レーザ光(4) の該検査対象物体(3) に対する照射点
(8) の反射光(9) を，該レーザ光(4) の照射により発生
する該蛍光(5) の波長域において最適化された第２のス
キャンレンズ(10)により，該レーザ光(4) の照射方向か
ら集光する手段と， 集光された該反射光(9) を, 目的の速度で走査する該第
１の手段と同期した状態で, 逆の方向に走査する第２の
手段と， 該反射光(9) 内の該蛍光(5) の成分のみを結像する手段
と， 結像面(11)上において，該レーザ光(4) の該照射点(8)
に相当する位置から発生した該蛍光(5) の成分のみを抽
出する手段と， 抽出した該蛍光(5) の成分を電気信号に変換し，検出す
る手段とを具備することを特徴とする蛍光パターン検知
機構。 - 【請求項２】 前記結像面(11)上において，前記レーザ
光(4) の前記照射点(8) に相当する位置から発生した前
記蛍光(5) の成分のみを抽出する手段が，再結像面(12)
上の前記レーザ光(4) の前記照射点(8) の直径とほぼ等
しい径を有するピンホール(12)であることを特徴とする
請求項１記載の蛍光パターン検知機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13296292A JPH05322795A (ja) | 1992-05-26 | 1992-05-26 | 蛍光パターン検知機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13296292A JPH05322795A (ja) | 1992-05-26 | 1992-05-26 | 蛍光パターン検知機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05322795A true JPH05322795A (ja) | 1993-12-07 |
Family
ID=15093576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13296292A Withdrawn JPH05322795A (ja) | 1992-05-26 | 1992-05-26 | 蛍光パターン検知機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05322795A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6633376B1 (en) | 1998-08-10 | 2003-10-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Apparatus for inspecting a printed circuit board |
-
1992
- 1992-05-26 JP JP13296292A patent/JPH05322795A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6633376B1 (en) | 1998-08-10 | 2003-10-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Apparatus for inspecting a printed circuit board |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990803 |