JPH05318795A - サーマルヘッドの製造方法 - Google Patents
サーマルヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH05318795A JPH05318795A JP12918792A JP12918792A JPH05318795A JP H05318795 A JPH05318795 A JP H05318795A JP 12918792 A JP12918792 A JP 12918792A JP 12918792 A JP12918792 A JP 12918792A JP H05318795 A JPH05318795 A JP H05318795A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze layer
- layer
- glaze
- insulating substrate
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 グレーズ層のエッチングによってグレーズ層
と絶縁性基板との境界にて生ずるグレーズ層の不具合に
起因する問題点を解決するサーマルヘッドの製造方法を
提供する。 【構成】 絶縁性基板１上に隆起状のグレーズ層２を形
成した後、グレーズ層２及び基板１上にＴａ又はＴａＳ
ｉＯ2 等の薄膜３とレジスト４を施し、この薄膜３とレ
ジスト４に対して所定パターンのマスクを用いて露光・
現像を行い、グレーズ層２の頂部及びグレーズ層２と基
板１との境界に残存させたレジスト４と薄膜３を保護マ
スクとして、グレーズ層２をエッチングし、グレーズ層
２に凸部２ａを形成する。
と絶縁性基板との境界にて生ずるグレーズ層の不具合に
起因する問題点を解決するサーマルヘッドの製造方法を
提供する。 【構成】 絶縁性基板１上に隆起状のグレーズ層２を形
成した後、グレーズ層２及び基板１上にＴａ又はＴａＳ
ｉＯ2 等の薄膜３とレジスト４を施し、この薄膜３とレ
ジスト４に対して所定パターンのマスクを用いて露光・
現像を行い、グレーズ層２の頂部及びグレーズ層２と基
板１との境界に残存させたレジスト４と薄膜３を保護マ
スクとして、グレーズ層２をエッチングし、グレーズ層
２に凸部２ａを形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ファクシミリ、プリン
タ、ワープロ等の印字装置に用いるサーマルヘッドの製
造方法に関する。
タ、ワープロ等の印字装置に用いるサーマルヘッドの製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ファクシミリ等の印字装置に用いられる
サーマルヘッドとして、図４に示す構造のものがある。
このサーマルヘッドは、セラミックやアルミナ等からな
る絶縁性基板１１と、基板１１上に印字走査方向に設け
た隆起状のグレーズ層１２と、このグレーズ層１２及び
基板１１上に順次積層した所定パターンの発熱抵抗体層
１３及び所定パターンの導体層１４と、導体層１４を覆
う絶縁性耐酸化層１５と、耐酸化層１５を被覆する保護
層１６とを備える。又、図４から分かるように、グレー
ズ層１２の頂部は印字走査方向に沿った直線状の凸部１
２ａになっている。
サーマルヘッドとして、図４に示す構造のものがある。
このサーマルヘッドは、セラミックやアルミナ等からな
る絶縁性基板１１と、基板１１上に印字走査方向に設け
た隆起状のグレーズ層１２と、このグレーズ層１２及び
基板１１上に順次積層した所定パターンの発熱抵抗体層
１３及び所定パターンの導体層１４と、導体層１４を覆
う絶縁性耐酸化層１５と、耐酸化層１５を被覆する保護
層１６とを備える。又、図４から分かるように、グレー
ズ層１２の頂部は印字走査方向に沿った直線状の凸部１
２ａになっている。
【０００３】このようなサーマルヘッドでは、グレーズ
層１２上に位置する発熱抵抗体層１３、耐酸化層１５及
び保護層１６が基板１１から盛り上がる様相を呈し、特
にグレーズ層の凸部１２ａによって、この凸部１２ａ上
に在る各層１３、１５、１６の部分が更に若干突出して
いる。これは、感熱紙等の印字用紙に対する発熱抵抗体
層１３の当接具合を良くし、抵抗体層１３から印字用紙
への熱伝導性を高め、印字品位を良好にするためであ
る。
層１２上に位置する発熱抵抗体層１３、耐酸化層１５及
び保護層１６が基板１１から盛り上がる様相を呈し、特
にグレーズ層の凸部１２ａによって、この凸部１２ａ上
に在る各層１３、１５、１６の部分が更に若干突出して
いる。これは、感熱紙等の印字用紙に対する発熱抵抗体
層１３の当接具合を良くし、抵抗体層１３から印字用紙
への熱伝導性を高め、印字品位を良好にするためであ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な構造のサーマルヘッドでは、絶縁性基板上に隆起状の
グレーズ層を設けた後、このグレーズ層の頂部をマスク
で覆い、それからエッチングを行って、頂部が凸部にな
ったグレーズ層を形成している。しかし、この製造方法
によると、グレーズ層の頂部以外は全てエッチングされ
るため、グレーズ層と絶縁性基板との境界において、グ
レーズ層に不具合が生ずる。
な構造のサーマルヘッドでは、絶縁性基板上に隆起状の
グレーズ層を設けた後、このグレーズ層の頂部をマスク
で覆い、それからエッチングを行って、頂部が凸部にな
ったグレーズ層を形成している。しかし、この製造方法
によると、グレーズ層の頂部以外は全てエッチングされ
るため、グレーズ層と絶縁性基板との境界において、グ
レーズ層に不具合が生ずる。
【０００５】即ち、一般にグレーズ層と絶縁性基板との
境界では、他のグレーズ層表面よりもエッチングが進行
し易い。このため、グレーズ層の凸部を高くするために
エッチング時間を長くすると、図５に示すようにグレー
ズ層１２と絶縁性基板１１との境界で、グレーズ層１２
に段差部２０が発生したり、図６のようにグレーズ層１
２のエッチングが境界の内側まで進行し、凹部２１が出
来たりする。
境界では、他のグレーズ層表面よりもエッチングが進行
し易い。このため、グレーズ層の凸部を高くするために
エッチング時間を長くすると、図５に示すようにグレー
ズ層１２と絶縁性基板１１との境界で、グレーズ層１２
に段差部２０が発生したり、図６のようにグレーズ層１
２のエッチングが境界の内側まで進行し、凹部２１が出
来たりする。
【０００６】このような段差部２０や凹部２１が在る
と、グレーズ層形成後に行う発熱抵抗体層及び導体層形
成工程において、抵抗体膜及び導体膜が段差部や凹部に
回り込み、フォトリソグラフィを行う際に段差部や凹部
の膜に露光のための光が照射されず、膜のパターンニン
グを行うことができなくなり、パターン不良が生ずる。
又、グレーズ層のフォトリソグラフィ時にレジストが段
差部や凹部に溜まって厚くなり、完全に露光し切れなく
なり、これもパターンニング不可能になる。更には、保
護層の形成が不完全になり、信頼性に劣ることにもな
る。
と、グレーズ層形成後に行う発熱抵抗体層及び導体層形
成工程において、抵抗体膜及び導体膜が段差部や凹部に
回り込み、フォトリソグラフィを行う際に段差部や凹部
の膜に露光のための光が照射されず、膜のパターンニン
グを行うことができなくなり、パターン不良が生ずる。
又、グレーズ層のフォトリソグラフィ時にレジストが段
差部や凹部に溜まって厚くなり、完全に露光し切れなく
なり、これもパターンニング不可能になる。更には、保
護層の形成が不完全になり、信頼性に劣ることにもな
る。
【０００７】従って、本発明の目的は、グレーズ層と絶
縁性基板との境界におけるグレーズ層の不具合によって
生ずる上記問題点を解決するサーマルヘッドの製造方法
を提供することにある。
縁性基板との境界におけるグレーズ層の不具合によって
生ずる上記問題点を解決するサーマルヘッドの製造方法
を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明のサーマルヘッドの製造方法は、隆起状のグ
レーズ層を絶縁性基板上に印字走査方向に形成した後、
グレーズ層の一部及びグレーズ層と絶縁性基板との境界
にマスクを施し、次いでグレーズ層をエッチングし、グ
レーズ層に直線状の凸部を形成するグレーズ層形成工程
を有することを特徴とする。
に、本発明のサーマルヘッドの製造方法は、隆起状のグ
レーズ層を絶縁性基板上に印字走査方向に形成した後、
グレーズ層の一部及びグレーズ層と絶縁性基板との境界
にマスクを施し、次いでグレーズ層をエッチングし、グ
レーズ層に直線状の凸部を形成するグレーズ層形成工程
を有することを特徴とする。
【０００９】本発明の製造方法によれば、グレーズ層と
絶縁性基板との境界がマスクによってエッチングされな
くなり、境界でグレーズ層に段差部や凹部は生じない。
この結果、発熱抵抗体膜及び導体膜のパターン不良、並
びにレジストのパターン不良が起こらなくなり、保護層
も完全に形成されるようになる。
絶縁性基板との境界がマスクによってエッチングされな
くなり、境界でグレーズ層に段差部や凹部は生じない。
この結果、発熱抵抗体膜及び導体膜のパターン不良、並
びにレジストのパターン不良が起こらなくなり、保護層
も完全に形成されるようになる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明のサーマルヘッドの製造方法を
実施例に基づいて説明する。但し、サーマルヘッドの構
造は、図４に示すものとほぼ同じである。まず、図１の
（ａ）において、セラミックやアルミナ等からなる絶縁
性基板１上に、グレーズ材をスクリーン印刷によって印
刷し、このグレーズを焼成して隆起状のグレーズ層２を
形成する。グレーズ層２は絶縁性基板１との境界から頂
部に向かってなだらかな曲面を呈する。次いで、グレー
ズ層２に対するフォトリソグラフィを行うための準備と
して、グレーズ層２及び基板１上に、タンタル（Ｔａ）
又はＴａＳｉＯ2 等の薄膜３を形成すると共に、この薄
膜３上にレジスト４を施す〔図１の（ｂ）参照〕。
実施例に基づいて説明する。但し、サーマルヘッドの構
造は、図４に示すものとほぼ同じである。まず、図１の
（ａ）において、セラミックやアルミナ等からなる絶縁
性基板１上に、グレーズ材をスクリーン印刷によって印
刷し、このグレーズを焼成して隆起状のグレーズ層２を
形成する。グレーズ層２は絶縁性基板１との境界から頂
部に向かってなだらかな曲面を呈する。次いで、グレー
ズ層２に対するフォトリソグラフィを行うための準備と
して、グレーズ層２及び基板１上に、タンタル（Ｔａ）
又はＴａＳｉＯ2 等の薄膜３を形成すると共に、この薄
膜３上にレジスト４を施す〔図１の（ｂ）参照〕。
【００１１】次に、所定パターンを焼付けたマスク（図
示せず）をレジスト４の表面に密着させるか、或いは少
し離して位置合わせを行う。この後、ＵＶ光で露光し、
現像液で現像して、マスクのパターンをレジスト４に転
写する。更に、エッチングによって、図２の（ｃ）に示
すように、薄膜３とレジスト４は、不要部分が取り除か
れ、パターンどおりにグレーズ層２の頂部及びグレーズ
層２と絶縁性基板１との境界にのみ残る。
示せず）をレジスト４の表面に密着させるか、或いは少
し離して位置合わせを行う。この後、ＵＶ光で露光し、
現像液で現像して、マスクのパターンをレジスト４に転
写する。更に、エッチングによって、図２の（ｃ）に示
すように、薄膜３とレジスト４は、不要部分が取り除か
れ、パターンどおりにグレーズ層２の頂部及びグレーズ
層２と絶縁性基板１との境界にのみ残る。
【００１２】そして、残存するレジスト４と薄膜３を保
護マスクとして、１００〜２００℃の熱リン酸溶液に適
当な時間浸漬し、保護マスクで覆われていないグレーズ
層２の部分をエッチングする。エッチング後は、薄膜３
とレジスト４を除去する。エッチングによって、保護マ
スクで覆われていない部分だけが食刻されるため、グレ
ーズ層２の頂部が直線状の凸部２ａになる。又、グレー
ズ層２と絶縁性基板１との境界はレジスト４で覆われて
いるため、エッチング時に境界が熱リン酸溶液で侵食さ
れず、当初に印刷・焼成により形成したなだらかな曲面
は損なわれない〔図２の（ｄ）参照〕。その後、グレー
ズの軟化点よりも高い温度でグレーズ層２を焼成し、エ
ッチングによって出来た角に丸み（Ｒ）を付ける〔図３
の（ｅ）参照〕。このＲ化により、エッチング時間の長
短に関係なく、基板１からグレーズ層２の凸部２ａまで
の表面が連続的になだらかになる。
護マスクとして、１００〜２００℃の熱リン酸溶液に適
当な時間浸漬し、保護マスクで覆われていないグレーズ
層２の部分をエッチングする。エッチング後は、薄膜３
とレジスト４を除去する。エッチングによって、保護マ
スクで覆われていない部分だけが食刻されるため、グレ
ーズ層２の頂部が直線状の凸部２ａになる。又、グレー
ズ層２と絶縁性基板１との境界はレジスト４で覆われて
いるため、エッチング時に境界が熱リン酸溶液で侵食さ
れず、当初に印刷・焼成により形成したなだらかな曲面
は損なわれない〔図２の（ｄ）参照〕。その後、グレー
ズの軟化点よりも高い温度でグレーズ層２を焼成し、エ
ッチングによって出来た角に丸み（Ｒ）を付ける〔図３
の（ｅ）参照〕。このＲ化により、エッチング時間の長
短に関係なく、基板１からグレーズ層２の凸部２ａまで
の表面が連続的になだらかになる。
【００１３】グレーズ層形成工程終了後は、図３の
（ｆ）において、従来どおりにグレーズ層付き絶縁性基
板１上に、Ｔａ2 Ｎ等からなる発熱抵抗体層５、Ａｌ等
からなる導体層６、ＳｉＯ2 等からなる絶縁性耐酸化層
７、及びＳｉＯＮ、Ｔａ2 Ｏ5 等からなる耐摩耗性保護
層８を順次積層し、図４のようなサーマルヘッドを作製
する。
（ｆ）において、従来どおりにグレーズ層付き絶縁性基
板１上に、Ｔａ2 Ｎ等からなる発熱抵抗体層５、Ａｌ等
からなる導体層６、ＳｉＯ2 等からなる絶縁性耐酸化層
７、及びＳｉＯＮ、Ｔａ2 Ｏ5 等からなる耐摩耗性保護
層８を順次積層し、図４のようなサーマルヘッドを作製
する。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のサーマル
ヘッドの製造方法は、グレーズ層と絶縁性基板との境界
にマスクを施してから、グレーズ層に凸部を形成するた
めのエッチングを行うグレーズ層形成工程を有するた
め、下記の効果を奏する。 （１）発熱抵抗体層及び導体層のパターン不良が起こら
ない。 （２）保護層の形成が完全になり、信頼性が高まる。 （３）エッチング時間を長くすることができるため、グ
レーズ層の凸部の高さをより高くすることが可能とな
る。この結果、ヘッドと印字用紙との当接具合が一層良
くなり、印字品位が向上し、印字効率が良くなるだけで
なく、印字エネルギーを少なくすることもできる。
ヘッドの製造方法は、グレーズ層と絶縁性基板との境界
にマスクを施してから、グレーズ層に凸部を形成するた
めのエッチングを行うグレーズ層形成工程を有するた
め、下記の効果を奏する。 （１）発熱抵抗体層及び導体層のパターン不良が起こら
ない。 （２）保護層の形成が完全になり、信頼性が高まる。 （３）エッチング時間を長くすることができるため、グ
レーズ層の凸部の高さをより高くすることが可能とな
る。この結果、ヘッドと印字用紙との当接具合が一層良
くなり、印字品位が向上し、印字効率が良くなるだけで
なく、印字エネルギーを少なくすることもできる。
【図１】本発明の製造方法を説明するための工程図であ
る。
る。
【図２】本発明の製造方法を説明するための、図１に続
く工程図である。
く工程図である。
【図３】本発明の製造方法を説明するための、図２に続
く工程図である。
く工程図である。
【図４】従来例に係るサーマルヘッドの要部断面図であ
る。
る。
【図５】図４に示すようなサーマルヘッドの製造におい
て、グレーズ層のエッチングによって生ずる不具合を説
明するための図である。
て、グレーズ層のエッチングによって生ずる不具合を説
明するための図である。
【図６】図４に示すようなサーマルヘッドの製造におい
て、グレーズ層のエッチングによって生ずる別の不具合
を説明するための図である。
て、グレーズ層のエッチングによって生ずる別の不具合
を説明するための図である。
１ 絶縁性基板 ２ グレーズ層 ２ａ グレーズ層の凸部 ４ レジスト ５ 発熱抵抗体層 ６ 導体層 ７ 絶縁性耐酸化層 ８ 保護層
Claims (1)
- 【請求項１】絶縁性基板と、絶縁性基板上に印字走査方
向に隆起状に形成されると共に、直線状の凸部を有する
グレーズ層と、グレーズ層及び基板上に順に設けられた
所定パターンの発熱抵抗体層及び所定パターンの導体層
と、絶縁性基板上のこれらの層を覆う保護層とを備える
サーマルヘッドの製造方法において、 前記隆起状のグレーズ層を絶縁性基板上に印字走査方向
に形成した後、グレーズ層の一部及びグレーズ層と絶縁
性基板との境界にマスクを施し、次いでグレーズ層をエ
ッチングし、グレーズ層に直線状の凸部を形成するグレ
ーズ層形成工程を有することを特徴とするサーマルヘッ
ドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12918792A JPH05318795A (ja) | 1992-05-22 | 1992-05-22 | サーマルヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12918792A JPH05318795A (ja) | 1992-05-22 | 1992-05-22 | サーマルヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05318795A true JPH05318795A (ja) | 1993-12-03 |
Family
ID=15003298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12918792A Pending JPH05318795A (ja) | 1992-05-22 | 1992-05-22 | サーマルヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05318795A (ja) |
-
1992
- 1992-05-22 JP JP12918792A patent/JPH05318795A/ja active Pending
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