JPH0531296B2 - - Google Patents
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- JPH0531296B2 JPH0531296B2 JP60024662A JP2466285A JPH0531296B2 JP H0531296 B2 JPH0531296 B2 JP H0531296B2 JP 60024662 A JP60024662 A JP 60024662A JP 2466285 A JP2466285 A JP 2466285A JP H0531296 B2 JPH0531296 B2 JP H0531296B2
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- bonding
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体装置に関し、特にその薄形
化及びボンデイングワイヤの変形に伴う回路シヨ
ートの防止を図り、さらには新しいパツケージ方
法を提供するために絶縁被覆したボンデイングワ
イヤを用いたものに関するものである。
化及びボンデイングワイヤの変形に伴う回路シヨ
ートの防止を図り、さらには新しいパツケージ方
法を提供するために絶縁被覆したボンデイングワ
イヤを用いたものに関するものである。
一般に大部分の半導体装置においては、直径が
20〜30μの金あるいはアルミニウム線がチツプと
リード間の接続に用いられている。このボンデイ
ングワイヤは細線のため少しの振動や衝撃で簡単
に変形あるいは切断する。変形が起こるとこのボ
ンデイングワイヤは他のボンデイングワイヤや他
の導体部分と接触し、回路のシヨート不良が発生
する。また切断した場合は、半導体の機能が停止
するという重大な欠陥になる。
20〜30μの金あるいはアルミニウム線がチツプと
リード間の接続に用いられている。このボンデイ
ングワイヤは細線のため少しの振動や衝撃で簡単
に変形あるいは切断する。変形が起こるとこのボ
ンデイングワイヤは他のボンデイングワイヤや他
の導体部分と接触し、回路のシヨート不良が発生
する。また切断した場合は、半導体の機能が停止
するという重大な欠陥になる。
このように現在のボンデイングワイヤは、簡単
に変形、切断が起こるため、後工程のパツケージ
ング方法が限定され、そのためパツケージの寸法
が大きくなつたり、コスト高になる欠点がある。
に変形、切断が起こるため、後工程のパツケージ
ング方法が限定され、そのためパツケージの寸法
が大きくなつたり、コスト高になる欠点がある。
以下、現在の問題点を代表例として混成ICを
用いて説明する。
用いて説明する。
混成ICはセラミツク基板上にIC、コンデンサ、
抵抗等が配置されている。そしてこれらの中IC
を実装するには、セラミツク基板上に直接ICチ
ツプをハンダ等で接着し、該チツプとリード線間
でワイヤボンデイングを行なつている。この時の
組立寸法関係を簡単に説明すると、セラミツク基
板を基準にして、チツプ表面まで約0.4mm、チツ
プ表面からボンデイングワイヤまでが約0.3mmで
セラミツク基板からは、合せて0.7mmの高さにな
る。部品を組立てた後、湿気や振動からこれらを
保護するために、全体を樹脂で封止する。封止す
る方法は種々あるが、ボンデイングワイヤが変形
したり切断しないよう、液状樹脂を用いた注形法
か、粉体を用いたコーテイング法が採用されてい
る。
抵抗等が配置されている。そしてこれらの中IC
を実装するには、セラミツク基板上に直接ICチ
ツプをハンダ等で接着し、該チツプとリード線間
でワイヤボンデイングを行なつている。この時の
組立寸法関係を簡単に説明すると、セラミツク基
板を基準にして、チツプ表面まで約0.4mm、チツ
プ表面からボンデイングワイヤまでが約0.3mmで
セラミツク基板からは、合せて0.7mmの高さにな
る。部品を組立てた後、湿気や振動からこれらを
保護するために、全体を樹脂で封止する。封止す
る方法は種々あるが、ボンデイングワイヤが変形
したり切断しないよう、液状樹脂を用いた注形法
か、粉体を用いたコーテイング法が採用されてい
る。
これらの封止方法は、ボンデイングワイヤの変
形防止ができることを主に考えたものであり、逆
にボンデイングワイヤを圧縮平坦化することがで
きれば、ボンデイングワイヤからチツプ表面まで
の高さ0.3mmを30ミクロン、即ち約1/10まで低く
することができるうえ、パツケージ方法もこれま
でのような概念に固定されることなく新しいパツ
ケージ法を採用することができる。例えばプリプ
レグシートを圧着硬化することも可能になる。
形防止ができることを主に考えたものであり、逆
にボンデイングワイヤを圧縮平坦化することがで
きれば、ボンデイングワイヤからチツプ表面まで
の高さ0.3mmを30ミクロン、即ち約1/10まで低く
することができるうえ、パツケージ方法もこれま
でのような概念に固定されることなく新しいパツ
ケージ法を採用することができる。例えばプリプ
レグシートを圧着硬化することも可能になる。
第3図はセラミツク基板上にチツプを配置した
従来の混成ICの一部分を断面図で示したもので、
図において、1はチツプ2とリード4を接続する
直径が25ミクロンのボンデイングワイヤ、2はセ
ラミツク基板3の上に直接ハンダ付けした厚さが
0.4mmのチツプ、4はボンデイングワイヤ1によ
りチツプ2と接続するリードである。第4図は第
1図のように組立てたものを粉体でコーテイング
した状態を示す断面図であり、5は樹脂である。
従来の混成ICの一部分を断面図で示したもので、
図において、1はチツプ2とリード4を接続する
直径が25ミクロンのボンデイングワイヤ、2はセ
ラミツク基板3の上に直接ハンダ付けした厚さが
0.4mmのチツプ、4はボンデイングワイヤ1によ
りチツプ2と接続するリードである。第4図は第
1図のように組立てたものを粉体でコーテイング
した状態を示す断面図であり、5は樹脂である。
まず、第3図のようにチツプ2の上にボンデイ
ングワイヤ1を0.2mm間隔で30本、周囲にボンデ
イングする。この時チツプ2表面からボンデイン
グワイヤ1までの高さAは0.3mmになる。これ以
下にするとボンデイングワイヤ1がチツプ2の各
コーナーに接触してシヨート不良を起こすため、
0.3mm以上にしなければならない。セラミツク基
板3の面からボンデイングワイヤ1の上まではチ
ツプ2の厚さが0.4mmであるので、0.7mmになる。
この状態で第4図の如く、全体を150℃まで加熱
して熱硬化性の樹脂5をコーテイングする。信頼
性の面から樹脂5の厚さはセラミツク基板3の表
面から約1mmになるようにコーテイングする。樹
脂5のコーテイングは、1回で0.2mm程度しか付
着しないため、5回繰り返して1mmにする。
ングワイヤ1を0.2mm間隔で30本、周囲にボンデ
イングする。この時チツプ2表面からボンデイン
グワイヤ1までの高さAは0.3mmになる。これ以
下にするとボンデイングワイヤ1がチツプ2の各
コーナーに接触してシヨート不良を起こすため、
0.3mm以上にしなければならない。セラミツク基
板3の面からボンデイングワイヤ1の上まではチ
ツプ2の厚さが0.4mmであるので、0.7mmになる。
この状態で第4図の如く、全体を150℃まで加熱
して熱硬化性の樹脂5をコーテイングする。信頼
性の面から樹脂5の厚さはセラミツク基板3の表
面から約1mmになるようにコーテイングする。樹
脂5のコーテイングは、1回で0.2mm程度しか付
着しないため、5回繰り返して1mmにする。
このようにボンデイングワイヤ1を変形するこ
となく樹脂5をコーテイングすると、パツケージ
寸法が少なくとも1mm以上の厚さになるばかりで
なく、量産性も悪くなるという問題点があつた。
となく樹脂5をコーテイングすると、パツケージ
寸法が少なくとも1mm以上の厚さになるばかりで
なく、量産性も悪くなるという問題点があつた。
本発明は上記のような問題点を解消するために
なされたもので、ボンデイングワイヤが変形して
他と接触しても、シヨート不良を起こすことなく
パツケージを薄形化できる半導体装置を得ること
を目的とするものである。
なされたもので、ボンデイングワイヤが変形して
他と接触しても、シヨート不良を起こすことなく
パツケージを薄形化できる半導体装置を得ること
を目的とするものである。
この発明に係る半導体装置は、半導体素子と他
の導体を接続するボンデイングワイヤに絶縁被覆
を施し、封止樹脂でこれらを封止固着する際にボ
ンデイングワイヤが平坦に変形するよう該ワイ
ヤ、上記半導体素子及び他の導体全体を圧着封止
するようにしたものである。
の導体を接続するボンデイングワイヤに絶縁被覆
を施し、封止樹脂でこれらを封止固着する際にボ
ンデイングワイヤが平坦に変形するよう該ワイ
ヤ、上記半導体素子及び他の導体全体を圧着封止
するようにしたものである。
この発明においては、絶縁被覆が施されたボン
デイングワイヤは、樹脂封止の際に平坦になるか
ら、回路のシヨート不良を起こすことなく半導体
装置を薄形化できる。
デイングワイヤは、樹脂封止の際に平坦になるか
ら、回路のシヨート不良を起こすことなく半導体
装置を薄形化できる。
以下、本発明の実施例を図について説明する。
第1図は、本発明の一実施例による半導体装置の
絶縁被覆したボンデイングワイヤの配線状態を示
した断面図であり、第2図は絶縁したボンデイン
グワイヤを上からプリプレグシートで圧着封止
し、変形させた状態を示す図である。両図におい
て、1〜4は従来と同じものを示し、6はボンデ
イングワイヤ1表面に被覆された絶縁物、7はプ
リプレグシートである。
第1図は、本発明の一実施例による半導体装置の
絶縁被覆したボンデイングワイヤの配線状態を示
した断面図であり、第2図は絶縁したボンデイン
グワイヤを上からプリプレグシートで圧着封止
し、変形させた状態を示す図である。両図におい
て、1〜4は従来と同じものを示し、6はボンデ
イングワイヤ1表面に被覆された絶縁物、7はプ
リプレグシートである。
本装置では、まず第1図の如く、ボンデイング
ワイヤ1の表面を絶縁物6で被覆し、この後チツ
プ2とリード4とを接続する。この際ボンデイン
グワイヤ1の高さは、表面をプリプレグシート7
で圧着する前は0.3mmと従来と同じである。次に、
第2図のように圧縮成形法にてプリプレグシート
7で圧着する。これによりボンデイングワイヤ1
は簡単に変形して平坦化する。この時チツプ2の
周囲にある30本のボンデイングワイヤ1は互いに
接触したり、あるいは他の導体部分に触れる。し
かしボンデイングワイヤ1の表面には、絶縁物6
が被覆されているため、回路がシヨートすること
がない。また、プリプレグシート7は熱融着して
ボンデイングワイヤ1やチツプ2等が従来と同様
に固着される。
ワイヤ1の表面を絶縁物6で被覆し、この後チツ
プ2とリード4とを接続する。この際ボンデイン
グワイヤ1の高さは、表面をプリプレグシート7
で圧着する前は0.3mmと従来と同じである。次に、
第2図のように圧縮成形法にてプリプレグシート
7で圧着する。これによりボンデイングワイヤ1
は簡単に変形して平坦化する。この時チツプ2の
周囲にある30本のボンデイングワイヤ1は互いに
接触したり、あるいは他の導体部分に触れる。し
かしボンデイングワイヤ1の表面には、絶縁物6
が被覆されているため、回路がシヨートすること
がない。また、プリプレグシート7は熱融着して
ボンデイングワイヤ1やチツプ2等が従来と同様
に固着される。
このようにしてパツケージしたICは、ボンデ
イングワイヤ1までの高さ0.3mmが0.03mmまで圧
縮されることから、セラミツク基板3の上面から
ボンデイングワイヤ1までの高さは、これまでの
0.7mmから0.43mmになり、全体の高さを40%薄く
することができる。
イングワイヤ1までの高さ0.3mmが0.03mmまで圧
縮されることから、セラミツク基板3の上面から
ボンデイングワイヤ1までの高さは、これまでの
0.7mmから0.43mmになり、全体の高さを40%薄く
することができる。
このように本実施例では、絶縁被覆を施したボ
ンデイングワイヤを、樹脂封止の際に圧縮成形す
るようにしたので、ボンデイングワイヤが互いに
接触したり、他の導体部分に触れてもシヨート不
良を起こすことなく装置の薄形化ができ、その結
果量産性が向上する。また、本実施例ではプリプ
レグシートを用いたので耐湿性をさらに向上でき
る。
ンデイングワイヤを、樹脂封止の際に圧縮成形す
るようにしたので、ボンデイングワイヤが互いに
接触したり、他の導体部分に触れてもシヨート不
良を起こすことなく装置の薄形化ができ、その結
果量産性が向上する。また、本実施例ではプリプ
レグシートを用いたので耐湿性をさらに向上でき
る。
一般に、IC、トランジスタ、ダイオード、混
成IC等の半導体装置に用いられているボンデイ
ング法としては、ほとんど同じ方法が採用されて
おり、本発明のように絶縁被覆を施したボンデイ
ングワイヤを使用すれば、これらのいずれにおい
ても平坦化が可能になり、その結果薄形化ができ
る。
成IC等の半導体装置に用いられているボンデイ
ング法としては、ほとんど同じ方法が採用されて
おり、本発明のように絶縁被覆を施したボンデイ
ングワイヤを使用すれば、これらのいずれにおい
ても平坦化が可能になり、その結果薄形化ができ
る。
またパツケージ法もトランスフア成形法、ポツ
テイング法、コーテイング法に限定されることな
く、ボンデイングワイヤに圧力をかけて変形して
も良い。例えば圧縮成形法、真空成形法などを採
用できる。中でも熱硬化性プリプレグシートを加
熱状態でチツプ上面から圧着する本実施例で用い
た圧縮成形法は、生産性に優れており、最適であ
る。
テイング法、コーテイング法に限定されることな
く、ボンデイングワイヤに圧力をかけて変形して
も良い。例えば圧縮成形法、真空成形法などを採
用できる。中でも熱硬化性プリプレグシートを加
熱状態でチツプ上面から圧着する本実施例で用い
た圧縮成形法は、生産性に優れており、最適であ
る。
なお、上記実施例では予め絶縁を施したボンデ
イングワイヤを用いたが、本発明は必ずしもこれ
に限定されるものではなく、従来のように組立て
た後ワイヤに絶縁を施しても同様な効果が得られ
ることは明らかである。
イングワイヤを用いたが、本発明は必ずしもこれ
に限定されるものではなく、従来のように組立て
た後ワイヤに絶縁を施しても同様な効果が得られ
ることは明らかである。
以上のように、本発明に係る半導体装置によれ
ば、半導体素子と他の導体を接続するボンデイン
グワイヤに絶縁被覆を施してこれら全体をボンデ
イングワイヤが平坦に変形するように樹脂封止し
たので、回路のシヨート不良を起こすことなく、
装置の薄形化ができ、その結果量産性を向上でき
る効果がある。
ば、半導体素子と他の導体を接続するボンデイン
グワイヤに絶縁被覆を施してこれら全体をボンデ
イングワイヤが平坦に変形するように樹脂封止し
たので、回路のシヨート不良を起こすことなく、
装置の薄形化ができ、その結果量産性を向上でき
る効果がある。
第1図は本発明の一実施例による半導体装置の
ボンデイングワイヤに絶縁物を被覆した状態を示
す断面図、第2図は圧縮成形法にてボンデイング
ワイヤを変形させた状態を示す断面図、第3図は
従来の混成ICの部分断面図、第4図は樹脂をコ
ーテイングした時の断面図である。 1……ボンデイングワイヤ、2……半導体素
子、4……リード(他の導体)、6……絶縁物、
7……プリプレグシート(樹脂)。なお図中同一
符号は同一又は相当部分を示す。
ボンデイングワイヤに絶縁物を被覆した状態を示
す断面図、第2図は圧縮成形法にてボンデイング
ワイヤを変形させた状態を示す断面図、第3図は
従来の混成ICの部分断面図、第4図は樹脂をコ
ーテイングした時の断面図である。 1……ボンデイングワイヤ、2……半導体素
子、4……リード(他の導体)、6……絶縁物、
7……プリプレグシート(樹脂)。なお図中同一
符号は同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 半導体素子と他の導体を電気的に接続するボ
ンデイングワイヤが絶縁膜により被覆され、上記
半導体素子、他の導体及びボンデイングワイヤ全
体が樹脂にて圧着封止され、この際上記ボンデイ
ングワイヤが平坦に変形されていることを特徴と
する半導体装置。 2 上記樹脂は熱硬化性プリプレグシートである
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半
導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60024662A JPS61184839A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60024662A JPS61184839A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61184839A JPS61184839A (ja) | 1986-08-18 |
JPH0531296B2 true JPH0531296B2 (ja) | 1993-05-12 |
Family
ID=12144356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60024662A Granted JPS61184839A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61184839A (ja) |
-
1985
- 1985-02-12 JP JP60024662A patent/JPS61184839A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61184839A (ja) | 1986-08-18 |
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