JPH05306145A - アルカリ溶出防止ガラス基板 - Google Patents
アルカリ溶出防止ガラス基板Info
- Publication number
- JPH05306145A JPH05306145A JP11158192A JP11158192A JPH05306145A JP H05306145 A JPH05306145 A JP H05306145A JP 11158192 A JP11158192 A JP 11158192A JP 11158192 A JP11158192 A JP 11158192A JP H05306145 A JPH05306145 A JP H05306145A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- glass substrate
- ions
- alkali
- elution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶セル用ガラス基板、半導体用ガラス基板
など一般にガラス中からのアルカリ成分溶出が問題とな
るような用途に有用なガラス基板を提供する。 【構成】 ガラス基板１は酸化ナトリウム、酸化カリウ
ム等のアルカリ成分を含むソーダライムガラスからな
り、このガラス基板１の全表面について、表面から一定
深さまでの層２についてガラス中のＮａイオン、Ｋイオ
ン等のアルカリイオンをこれらイオンよりもイオン半径
の大なイオン、例えばＴｌイオンで置換している。つま
り、表面層２の部分のガラス組成は実質的にアルカリ分
を含まない組成に改質している。本発明によれば、安価
な方法によってピンホールや剥離のないアルカリ溶出防
止膜をガラス基板表面に形成することができ、これまで
液晶用ガラス基板、半導体ガラス基板には使用できなか
ったほう珪酸ガラス、ソーダライムガラスがこれら用途
に使用可能になる。
など一般にガラス中からのアルカリ成分溶出が問題とな
るような用途に有用なガラス基板を提供する。 【構成】 ガラス基板１は酸化ナトリウム、酸化カリウ
ム等のアルカリ成分を含むソーダライムガラスからな
り、このガラス基板１の全表面について、表面から一定
深さまでの層２についてガラス中のＮａイオン、Ｋイオ
ン等のアルカリイオンをこれらイオンよりもイオン半径
の大なイオン、例えばＴｌイオンで置換している。つま
り、表面層２の部分のガラス組成は実質的にアルカリ分
を含まない組成に改質している。本発明によれば、安価
な方法によってピンホールや剥離のないアルカリ溶出防
止膜をガラス基板表面に形成することができ、これまで
液晶用ガラス基板、半導体ガラス基板には使用できなか
ったほう珪酸ガラス、ソーダライムガラスがこれら用途
に使用可能になる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶セル用ガラス基
板、半導体用ガラス基板など一般にガラス中からのアル
カリ成分溶出が問題となるような用途に有用なガラス基
板に関する。
板、半導体用ガラス基板など一般にガラス中からのアル
カリ成分溶出が問題となるような用途に有用なガラス基
板に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラスからのアルカリ成分の溶出を防止
する方法としては、例えばＳｉＯ2膜をガラス基板表面
にコーティングする方法が知られている。このＳｉＯ2
膜コーティングは、弗酸系溶液にＳｉＯ2を溶解してこ
の溶液中に浸漬したガラス基板の表面に析出させる方
法、あるいはＳｉＯ2微粒子を物理的に飛ばしてガラス
基板面上に堆積付着させる方法などがある。
する方法としては、例えばＳｉＯ2膜をガラス基板表面
にコーティングする方法が知られている。このＳｉＯ2
膜コーティングは、弗酸系溶液にＳｉＯ2を溶解してこ
の溶液中に浸漬したガラス基板の表面に析出させる方
法、あるいはＳｉＯ2微粒子を物理的に飛ばしてガラス
基板面上に堆積付着させる方法などがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来方法によっ
て得られるＳｉＯ2膜被覆ガラスでは、いずれにしても
ＳｉＯ2の微粒子の堆積で被膜を設けているので、本質
的にピンホールを生じ易いという問題がある。このよう
な被膜のピンホールがあるとここを通してガラス基板中
のアルカリ成分が外部に溶出し、液晶物質、半導体等に
悪影響を及ぼし、素子の寿命を短縮化する原因になる。
て得られるＳｉＯ2膜被覆ガラスでは、いずれにしても
ＳｉＯ2の微粒子の堆積で被膜を設けているので、本質
的にピンホールを生じ易いという問題がある。このよう
な被膜のピンホールがあるとここを通してガラス基板中
のアルカリ成分が外部に溶出し、液晶物質、半導体等に
悪影響を及ぼし、素子の寿命を短縮化する原因になる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】アルカリ成分を含むガラ
ス板の表面層を、イオン半径がアルカリイオンと同一か
又はこれよりも大な他のイオン、例えばＲｂ、Ｃｓ、Ｔ
ｌ等のイオンで置換してアルカリ溶出防止層とする。
ス板の表面層を、イオン半径がアルカリイオンと同一か
又はこれよりも大な他のイオン、例えばＲｂ、Ｃｓ、Ｔ
ｌ等のイオンで置換してアルカリ溶出防止層とする。
【０００５】
【作用】上記構造によれば、従来のようにガラス基板表
面に他物質を付着させるのではなく、ガラス自体の表面
組成改質で溶出防止層を形成するため、膜剥離、ピンホ
ール発生といった問題がなくなり、極めて安定したアル
カリ溶出防止効果が得られる。
面に他物質を付着させるのではなく、ガラス自体の表面
組成改質で溶出防止層を形成するため、膜剥離、ピンホ
ール発生といった問題がなくなり、極めて安定したアル
カリ溶出防止効果が得られる。
【０００６】
【実施例】図１は本発明に係るガラス基板の断面を示し
ている。ガラス基板１は酸化ナトリウム、酸化カリウム
等のアルカリ成分を含むソーダライムガラスからなり、
このガラス基板１の全表面について、表面から一定深さ
までの層２についてガラス中のＮａイオン、Ｋイオン等
のアルカリイオンをこれらイオンよりもイオン半径の大
なイオン、例えばＴｌイオンで置換している。つまり、
表面層２の部分のガラス組成は実質的にアルカリ分を含
まない組成に改質している。
ている。ガラス基板１は酸化ナトリウム、酸化カリウム
等のアルカリ成分を含むソーダライムガラスからなり、
このガラス基板１の全表面について、表面から一定深さ
までの層２についてガラス中のＮａイオン、Ｋイオン等
のアルカリイオンをこれらイオンよりもイオン半径の大
なイオン、例えばＴｌイオンで置換している。つまり、
表面層２の部分のガラス組成は実質的にアルカリ分を含
まない組成に改質している。
【０００７】図２に、上記のような表面改質ガラス基板
を製造する方法の一例を示す。図において３は溶融塩、
一例としてＴｌイオンを含む硝酸塩であり、この溶融塩
３中に基板ガラス１を浸漬する。一例として５００℃で
５０時間の浸漬処理を行うことにより、ガラス基板表面
には厚みが約３０μｍのイオン置換層２が得られる。
を製造する方法の一例を示す。図において３は溶融塩、
一例としてＴｌイオンを含む硝酸塩であり、この溶融塩
３中に基板ガラス１を浸漬する。一例として５００℃で
５０時間の浸漬処理を行うことにより、ガラス基板表面
には厚みが約３０μｍのイオン置換層２が得られる。
【０００８】このようにして製作した表面イオン置換ガ
ラス板と、未処理のソーダライムガラス板とを、温度６
０℃、湿度９０％の環境下で１０００時間放置した結
果、未処理ガラス板の表面が白濁したのに対し、表面イ
オン置換ガラス板は何等変化が観られなかった。
ラス板と、未処理のソーダライムガラス板とを、温度６
０℃、湿度９０％の環境下で１０００時間放置した結
果、未処理ガラス板の表面が白濁したのに対し、表面イ
オン置換ガラス板は何等変化が観られなかった。
【０００９】
【発明の効果】本発明によれば、安価な方法によってピ
ンホールや剥離のないアルカリ溶出防止膜をガラス基板
表面に形成することができ、これまで液晶用ガラス基
板、半導体ガラス基板には使用できなかったほう珪酸ガ
ラス、ソーダライムガラスがこれら用途に使用可能にな
る。
ンホールや剥離のないアルカリ溶出防止膜をガラス基板
表面に形成することができ、これまで液晶用ガラス基
板、半導体ガラス基板には使用できなかったほう珪酸ガ
ラス、ソーダライムガラスがこれら用途に使用可能にな
る。
【図１】本発明のガラス基板を示す断面図
【図２】本発明のガラス基板を製造する方法の一例を示
す断面図
す断面図
１ ガラス基板 ２ イオン置換層 ３ 溶融塩
Claims (1)
- 【請求項１】 アルカリ成分を含むガラス板の表面層
を、イオン半径がアルカリイオンと同一か又はこれより
も大な他のイオンで置換してなるアルカリ防止ガラス基
板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11158192A JPH05306145A (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | アルカリ溶出防止ガラス基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11158192A JPH05306145A (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | アルカリ溶出防止ガラス基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05306145A true JPH05306145A (ja) | 1993-11-19 |
Family
ID=14565007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11158192A Pending JPH05306145A (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | アルカリ溶出防止ガラス基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05306145A (ja) |
-
1992
- 1992-04-30 JP JP11158192A patent/JPH05306145A/ja active Pending
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