JPH05301849A - ジフェノキシベンゼン誘導体、製造法及びその中間体 - Google Patents
ジフェノキシベンゼン誘導体、製造法及びその中間体Info
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- JPH05301849A JPH05301849A JP5028667A JP2866793A JPH05301849A JP H05301849 A JPH05301849 A JP H05301849A JP 5028667 A JP5028667 A JP 5028667A JP 2866793 A JP2866793 A JP 2866793A JP H05301849 A JPH05301849 A JP H05301849A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 新規なジフェノキシベンゼン誘導体、製造法
及びその中間体の製造法を提供する。 【構成】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって水素原
子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アラル
キル基、アシル基を表し、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一ま
たは異なって水素原子またはハロゲン原子を表す。）で
表されるジフェノキシベンゼン誘導体、製造法及びその
中間体。 【効果】 優れた抗腫瘍作用を有し、抗癌剤として有用
である。
及びその中間体の製造法を提供する。 【構成】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって水素原
子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アラル
キル基、アシル基を表し、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一ま
たは異なって水素原子またはハロゲン原子を表す。）で
表されるジフェノキシベンゼン誘導体、製造法及びその
中間体。 【効果】 優れた抗腫瘍作用を有し、抗癌剤として有用
である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、抗腫瘍作用を有する新
規なジフェノキシベンゼン誘導体及びその製造法に関す
る。さらに本発明は、該化合物を製造する方法において
用いられる有用、かつ、新規な中間体及びその製造法に
関する。
規なジフェノキシベンゼン誘導体及びその製造法に関す
る。さらに本発明は、該化合物を製造する方法において
用いられる有用、かつ、新規な中間体及びその製造法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明者らは、ベニタケ科のきのこであ
るニセクロハツ（Ｒｕｓｓｕｌａ ｓｕｂｎｉｇｒｉｃ
ａｎｓ Ｈｏｎｇｏ）から単離した新規な２、６−ビス
（２、６−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニルオキシ）
−１、４−ジヒドロキシベンゼン誘導体が優れた抗腫瘍
作用を有することを見いだし既に特許出願している（特
願平２−１３４５８０号）。
るニセクロハツ（Ｒｕｓｓｕｌａ ｓｕｂｎｉｇｒｉｃ
ａｎｓ Ｈｏｎｇｏ）から単離した新規な２、６−ビス
（２、６−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニルオキシ）
−１、４−ジヒドロキシベンゼン誘導体が優れた抗腫瘍
作用を有することを見いだし既に特許出願している（特
願平２−１３４５８０号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記ジヒドロ
キシベンゼン誘導体の抗腫瘍作用のより改良された新規
な誘導体を得ることを目的とする。さらに本発明は、該
化合物を製造する方法において用いられる有用、かつ、
新規な中間体及びその製造法を提供することを目的とす
る。
キシベンゼン誘導体の抗腫瘍作用のより改良された新規
な誘導体を得ることを目的とする。さらに本発明は、該
化合物を製造する方法において用いられる有用、かつ、
新規な中間体及びその製造法を提供することを目的とす
る。
【０００４】
【課題を解決しようとする手段】本発明者らは、抗腫瘍
作用を有する誘導体の合成とその薬理活性について、鋭
意研究を行った結果、下記一般式（Ｉ）で表される化合
物に優れた抗腫瘍作用を見いだし本発明を完成した。
作用を有する誘導体の合成とその薬理活性について、鋭
意研究を行った結果、下記一般式（Ｉ）で表される化合
物に優れた抗腫瘍作用を見いだし本発明を完成した。
【０００５】本発明は、一般式
【０００６】
【化７】
【０００７】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一または
異なって水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケ
ニル基、アラルキル基、アシル基を表し、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ
3、Ｘ4は同一または異なって水素原子またはハロゲン原
子を表す。）で表されるジフェノキシベンゼン誘導体に
関する。
異なって水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケ
ニル基、アラルキル基、アシル基を表し、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ
3、Ｘ4は同一または異なって水素原子またはハロゲン原
子を表す。）で表されるジフェノキシベンゼン誘導体に
関する。
【０００８】この明細書において、アルキル基は炭素数
１〜１９の直鎖または分岐鎖を指し例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イ
ソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプテデシル基
及びノナデシル基があげられる。
１〜１９の直鎖または分岐鎖を指し例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イ
ソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプテデシル基
及びノナデシル基があげられる。
【０００９】また上記アルキル基は鎖上に置換基を有し
ていてもよく、例えば、水酸基、アシルオキシ基、ニト
リル基、フタルイミド基、カルバモイル基、アミノ基、
フラニル基、ティエニル基などがあげられ、具体的に
は、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロ
キシブチル基、アセトキシエチル基、シアノメチル基、
フタルイミドエチル基、カルバモイルメチル基などをあ
げることができる。
ていてもよく、例えば、水酸基、アシルオキシ基、ニト
リル基、フタルイミド基、カルバモイル基、アミノ基、
フラニル基、ティエニル基などがあげられ、具体的に
は、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロ
キシブチル基、アセトキシエチル基、シアノメチル基、
フタルイミドエチル基、カルバモイルメチル基などをあ
げることができる。
【００１０】また、さらに上記アルキル基は鎖上に置換
基としてシクロアルキル基を有していてもよく、例とし
てはシクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、
シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基など
をあげることができる。
基としてシクロアルキル基を有していてもよく、例とし
てはシクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、
シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基など
をあげることができる。
【００１１】アルケニル基は、置換または非置換アルケ
ニル基を表し、例えばアリル基、ブテニル基、３−メチ
ル−２−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基な
どをあげることができる。
ニル基を表し、例えばアリル基、ブテニル基、３−メチ
ル−２−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基な
どをあげることができる。
【００１２】アラルキル基は、非置換又は置換アラルキ
ルを表し、例えば、ベンジル基、メチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、ヒドロキシベンジル基、ニトロベン
ジル基、アミノベンジル基、ハロゲノベンジル基、フェ
ネチル基などをあげることができる。
ルを表し、例えば、ベンジル基、メチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、ヒドロキシベンジル基、ニトロベン
ジル基、アミノベンジル基、ハロゲノベンジル基、フェ
ネチル基などをあげることができる。
【００１３】アシル基は、脂肪族アシル基、例えばホル
ミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イ
ソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基またはアル
キルオキシカルボニル基など、または置換または非置換
の芳香族アシル基であるアラルキルオキシカルボニル基
を意味し、例えばベンジルオキシカルボニル基、メチル
ベンジルオキシカルボニル基、メトキシベンジルオキシ
カルボニル基などがあげられる。
ミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イ
ソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基またはアル
キルオキシカルボニル基など、または置換または非置換
の芳香族アシル基であるアラルキルオキシカルボニル基
を意味し、例えばベンジルオキシカルボニル基、メチル
ベンジルオキシカルボニル基、メトキシベンジルオキシ
カルボニル基などがあげられる。
【００１４】また一般式（Ｉ）中のＸ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4
は同一または異なって、水素原子またはハロゲン原子、
例えばヨウ素、臭素、塩素、フッ素などを表す。
は同一または異なって、水素原子またはハロゲン原子、
例えばヨウ素、臭素、塩素、フッ素などを表す。
【００１５】本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は
以下の各方法により容易に製造することができる。
以下の各方法により容易に製造することができる。
【００１６】製造法Ａ：上記一般式（Ｉ）で表される化
合物は、一般式
合物は、一般式
【００１７】
【化８】
【００１８】（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一または
異なって水素原子またはハロゲン原子を表す。）で表さ
れる化合物に一般式
異なって水素原子またはハロゲン原子を表す。）で表さ
れる化合物に一般式
【００１９】 Ｒ5−Ｙ （ＩＩＩ） （式中Ｙは脱離基を表し、Ｒ5は、アルキル基、アルケ
ニル基、アラルキル基を表す。）で表される化合物を反
応させることにより製造される。
ニル基、アラルキル基を表す。）で表される化合物を反
応させることにより製造される。
【００２０】式中のＲ5は上記アルキル基、アルケニル
基、アラルキル基を表す。
基、アラルキル基を表す。
【００２１】式中のＹは脱離基を表し、例えば塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子などをあげることができ
る。
素、ヨウ素などのハロゲン原子などをあげることができ
る。
【００２２】本発明の方法によれば、一般式（Ｉ）の化
合物は、一般式（ＩＩ）の化合物に対し１〜４当量の一
般式（ＩＩＩ）の化合物を溶媒中、室温〜１２０℃の間
の適宜な温度で、必要ならば適宜な量の有機または無機
の酸受容体の共存下反応させることにより得られる。
合物は、一般式（ＩＩ）の化合物に対し１〜４当量の一
般式（ＩＩＩ）の化合物を溶媒中、室温〜１２０℃の間
の適宜な温度で、必要ならば適宜な量の有機または無機
の酸受容体の共存下反応させることにより得られる。
【００２３】一般式（ＩＩＩ）の化合物の使用量は目的
の化合物に応じて、一般式（ＩＩ）の化合物に対し、１
〜４当量の適宜な量を用いることができる。
の化合物に応じて、一般式（ＩＩ）の化合物に対し、１
〜４当量の適宜な量を用いることができる。
【００２４】溶媒としては、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、メタノー
ル、エタノール、アセトニトリル、アセトンなどをあげ
ることができる。またこれら溶媒は２種またはそれ以上
の混合物として用いることができる。
ン、キシレン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、メタノー
ル、エタノール、アセトニトリル、アセトンなどをあげ
ることができる。またこれら溶媒は２種またはそれ以上
の混合物として用いることができる。
【００２５】有機の酸受容体の例としてはトリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメチルピリジ
ン、ジメチルアミノピリジン、ルチジン、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアニリン、Ｎ−メチルモルホリンなど、また無機の
酸受容体としてはアルカリ金属またはアルカリ土類金属
の水酸化物、炭酸塩またはアルコキシドなど、例として
は水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウ
ム、ナトリウムメトキサイド、またはリチウム塩、カリ
ウム塩、カルシウム塩、バリウム塩などをあげることが
できる。
ミン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメチルピリジ
ン、ジメチルアミノピリジン、ルチジン、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアニリン、Ｎ−メチルモルホリンなど、また無機の
酸受容体としてはアルカリ金属またはアルカリ土類金属
の水酸化物、炭酸塩またはアルコキシドなど、例として
は水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウ
ム、ナトリウムメトキサイド、またはリチウム塩、カリ
ウム塩、カルシウム塩、バリウム塩などをあげることが
できる。
【００２６】上記反応の進行状況は薄層クロマトグラフ
ィーなどで確認することができるので、所望により適宜
反応を終了させ、その後クロマトグラフィー、再結晶及
びこれらの操作を組合せたような常法により後処理し、
分離精製することにより一般式（Ｉ）の化合物が得られ
る。
ィーなどで確認することができるので、所望により適宜
反応を終了させ、その後クロマトグラフィー、再結晶及
びこれらの操作を組合せたような常法により後処理し、
分離精製することにより一般式（Ｉ）の化合物が得られ
る。
【００２７】製造法Ｂ：一般式（Ｉ）の化合物は、上記
一般式
一般式
【００２８】
【化９】
【００２９】（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は上記に同
じ。）で表される化合物に一般式 Ｒ6−ＣＨＯ （ＩＶ） （式中、Ｒ6は、水素原子またはアルキル基、アルケニ
ル基、アラルキル基を表す。）で表される化合物を反応
させ、次いで還元することにより製造することができ
る。
じ。）で表される化合物に一般式 Ｒ6−ＣＨＯ （ＩＶ） （式中、Ｒ6は、水素原子またはアルキル基、アルケニ
ル基、アラルキル基を表す。）で表される化合物を反応
させ、次いで還元することにより製造することができ
る。
【００３０】式中のＲ6は、上記のアルキル基、アルケ
ニル基、アラルキル基を表す。
ニル基、アラルキル基を表す。
【００３１】上記方法によれば一般式（Ｉ）の化合物
は、一般式（ＩＩ）の化合物と１〜４当量の一般式（Ｉ
Ｖ）の化合物を上記溶媒中、好ましくは酢酸、メタノー
ル、エタノール、ベンゼンなどの溶媒中、またはこれら
溶媒の２種またはそれ以上の溶媒の混合物中、室温〜１
２０℃の間の適宜な温度、好ましくは４０〜６０℃で３
０分から７時間反応させ、次いで、室温でシアノ水素化
ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ3ＣＮ）を用いる方法で還
元することにより得られる。
は、一般式（ＩＩ）の化合物と１〜４当量の一般式（Ｉ
Ｖ）の化合物を上記溶媒中、好ましくは酢酸、メタノー
ル、エタノール、ベンゼンなどの溶媒中、またはこれら
溶媒の２種またはそれ以上の溶媒の混合物中、室温〜１
２０℃の間の適宜な温度、好ましくは４０〜６０℃で３
０分から７時間反応させ、次いで、室温でシアノ水素化
ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ3ＣＮ）を用いる方法で還
元することにより得られる。
【００３２】製造法Ｃ：一般式（Ｉ）の化合物は、上記
一般式
一般式
【００３３】
【化１０】
【００３４】（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は上記に同
じ。）で表される化合物に一般式 Ｒ7−Ｚ （Ｖ） （式中Ｚは脱離基を表し、Ｒ7は、アシル基を表す。）
で表されるカルボン酸の反応性誘導体を反応させること
により製造される。
じ。）で表される化合物に一般式 Ｒ7−Ｚ （Ｖ） （式中Ｚは脱離基を表し、Ｒ7は、アシル基を表す。）
で表されるカルボン酸の反応性誘導体を反応させること
により製造される。
【００３５】式中のアシル基は前記のアシル基を表す。
【００３６】カルボン酸の反応性誘導体としては、酸ク
ロライド、酸ブロマイドなどの酸ハロゲン化物、酸無水
物、活性エステル類などが使用される。
ロライド、酸ブロマイドなどの酸ハロゲン化物、酸無水
物、活性エステル類などが使用される。
【００３７】一般式（ＩＩ）の化合物と一般式（Ｖ）の
化合物を反応させる場合は、一般式（ＩＩ）の化合物と
１〜４当量の一般式（Ｖ）で表されるカルボン酸の反応
性誘導体、例えば塩化アセチルなどを、適当な溶媒中、
必要ならば前記有機または無機の酸受容体の存在下、適
宜な温度で、好ましくは０℃〜から室温の間で、３０分
から６時間反応させることにより得られる。
化合物を反応させる場合は、一般式（ＩＩ）の化合物と
１〜４当量の一般式（Ｖ）で表されるカルボン酸の反応
性誘導体、例えば塩化アセチルなどを、適当な溶媒中、
必要ならば前記有機または無機の酸受容体の存在下、適
宜な温度で、好ましくは０℃〜から室温の間で、３０分
から６時間反応させることにより得られる。
【００３８】製造法Ｄ：一般式（Ｉ）の化合物でＲ1、
Ｒ2、Ｒ3及びＲ4が同一または異なって水素原子、ヒド
ロキシル基で表される化合物は、本発明者らが既に特許
出願（平成４年１月２７日の特許出願）している方法に
より得られる一般式（ＶＩ）で表される化合物から以下
の方法で製造することができる。すなわち、一般式
Ｒ2、Ｒ3及びＲ4が同一または異なって水素原子、ヒド
ロキシル基で表される化合物は、本発明者らが既に特許
出願（平成４年１月２７日の特許出願）している方法に
より得られる一般式（ＶＩ）で表される化合物から以下
の方法で製造することができる。すなわち、一般式
【００３９】
【化１１】
【００４０】（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一または
異なって水素原子またはハロゲン原子を表す。）
異なって水素原子またはハロゲン原子を表す。）
【００４１】で表される化合物を溶媒中、室温またはそ
れ以下の間の適宜な温度でパラジウム−炭素の存在下、
水素気流中で還元することにより製造することができ
る。例えば２、６−ビス−（２、６−ジクロロ−４−ニ
トロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼンを
酢酸エチル及びメタノールの混液に溶解させ、パラジウ
ム−炭素の存在下、水素気流中で２０分から２時間攪拌
させ、その後、常法により後処理することにより一般式
（Ｉ）の化合物から選ばれる２−（４−アミノ−２、６
−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシ−６
−（２、６−ジクロロ−４−ヒドロキシアミノフェニル
オキシ）ベンゼンまたは２、６−ビス−（２、６−ジク
ロロ−４−ヒドロキシアミノフェニルオキシ）−１、４
−ジメトキシベンゼンが得られる。
れ以下の間の適宜な温度でパラジウム−炭素の存在下、
水素気流中で還元することにより製造することができ
る。例えば２、６−ビス−（２、６−ジクロロ−４−ニ
トロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼンを
酢酸エチル及びメタノールの混液に溶解させ、パラジウ
ム−炭素の存在下、水素気流中で２０分から２時間攪拌
させ、その後、常法により後処理することにより一般式
（Ｉ）の化合物から選ばれる２−（４−アミノ−２、６
−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシ−６
−（２、６−ジクロロ−４−ヒドロキシアミノフェニル
オキシ）ベンゼンまたは２、６−ビス−（２、６−ジク
ロロ−４−ヒドロキシアミノフェニルオキシ）−１、４
−ジメトキシベンゼンが得られる。
【００４２】上記一般式（ＶＩ）の化合物の例として
は、２、６−ビス−（２、６−ジクロロ−４−ニトロフ
ェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン、２、６
−ビス−（４−ニトロフェニルオキシ）−１、４−ジメ
トキシベンゼン、２、６−ビス−（２−クロロ−４−ニ
トロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン、
２−（２−クロロ−４−ニトロフェニルオキシ）−６−
（２、６−ジクロロ−４−ニトロフェニルオキシ）−
１、４−ジメトキシベンゼン、２−（２、６−ジクロロ
−４−ニトロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシ−
６−（４−ニトロフェニルオキシ）ベンゼン、２、６−
ビス−（２、６−ジブロモ−４−ニトロフェニルオキ
シ）−１、４−ジメトキシベンゼン、２、６−ビス−
（２、６−ジヨード−４−ニトロフェニルオキシ）−
１、４−ジメトキシベンゼン、などをあげることができ
る。この反応は下記の反応式により表される。
は、２、６−ビス−（２、６−ジクロロ−４−ニトロフ
ェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン、２、６
−ビス−（４−ニトロフェニルオキシ）−１、４−ジメ
トキシベンゼン、２、６−ビス−（２−クロロ−４−ニ
トロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン、
２−（２−クロロ−４−ニトロフェニルオキシ）−６−
（２、６−ジクロロ−４−ニトロフェニルオキシ）−
１、４−ジメトキシベンゼン、２−（２、６−ジクロロ
−４−ニトロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシ−
６−（４−ニトロフェニルオキシ）ベンゼン、２、６−
ビス−（２、６−ジブロモ−４−ニトロフェニルオキ
シ）−１、４−ジメトキシベンゼン、２、６−ビス−
（２、６−ジヨード−４−ニトロフェニルオキシ）−
１、４−ジメトキシベンゼン、などをあげることができ
る。この反応は下記の反応式により表される。
【００４３】
【化１２】
【００４４】（上記式中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一ま
たは異なって水素原子またはヒドロキシル基を表し、Ｘ
1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一または異なって水素原子または
ハロゲン原子を表す）。
たは異なって水素原子またはヒドロキシル基を表し、Ｘ
1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一または異なって水素原子または
ハロゲン原子を表す）。
【００４５】また一般式（Ｉ）の化合物は、例えば一般
式（ＩＩ）の化合物をアルキル化することにより得られ
た一般式（Ｉ）で表されるモノ−、またはジ−置換体化
合物を、さらにアルキル化またはアシル化反応させるこ
とによっても製造することができる。
式（ＩＩ）の化合物をアルキル化することにより得られ
た一般式（Ｉ）で表されるモノ−、またはジ−置換体化
合物を、さらにアルキル化またはアシル化反応させるこ
とによっても製造することができる。
【００４６】本発明の一般式（Ｉ）の化合物を製造する
ための出発化合物である一般式
ための出発化合物である一般式
【００４７】
【化１３】
【００４８】（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は上記に同
じ。）で表される化合物も新規化合物である。
じ。）で表される化合物も新規化合物である。
【００４９】一般式（ＩＩ）の化合物は、一般式（Ｖ
Ｉ）の化合物を還元することにより容易に製造すること
ができる。すなわち、一般式（ＩＩ）の化合物は一般式
（ＶＩ）の化合物を溶媒中、例えばエタノールなどに溶
解または懸濁させ、次いで二酸化白金を用いて、室温で
３０分から２時間攪拌させ接触還元することにより得ら
れる。その後常法により後処理することにより一般式
（ＩＩ）の化合物が得られる。
Ｉ）の化合物を還元することにより容易に製造すること
ができる。すなわち、一般式（ＩＩ）の化合物は一般式
（ＶＩ）の化合物を溶媒中、例えばエタノールなどに溶
解または懸濁させ、次いで二酸化白金を用いて、室温で
３０分から２時間攪拌させ接触還元することにより得ら
れる。その後常法により後処理することにより一般式
（ＩＩ）の化合物が得られる。
【００５０】この反応は下記の反応式により表される。
【００５１】
【化１４】
【００５２】（上記式中のＸ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一ま
たは異なって水素原子またはハロゲン原子を表す）。
たは異なって水素原子またはハロゲン原子を表す）。
【００５３】本発明により得られる一般式（ＩＩ）の化
合物の例を以下に列挙する。２、６−ビス−（４−アミ
ノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメ
トキシベンゼン、２、６−ビス−（４−アミノフェニル
オキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン、２、６−ビス
−（４−アミノ−２−クロロフェニルオキシ）−１、４
−ジメトキシベンゼン、２−（４−アミノ−２−クロロ
フェニルオキシ）−６−（４−アミノ−２、６−ジクロ
ロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン、２
−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）−
６−（４−アミノフェニルオキシ）−１、４−ジメトキ
シベンゼン、２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジ
ブロモフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼ
ン、２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジヨードフ
ェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン。
合物の例を以下に列挙する。２、６−ビス−（４−アミ
ノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメ
トキシベンゼン、２、６−ビス−（４−アミノフェニル
オキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン、２、６−ビス
−（４−アミノ−２−クロロフェニルオキシ）−１、４
−ジメトキシベンゼン、２−（４−アミノ−２−クロロ
フェニルオキシ）−６−（４−アミノ−２、６−ジクロ
ロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン、２
−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）−
６−（４−アミノフェニルオキシ）−１、４−ジメトキ
シベンゼン、２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジ
ブロモフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼ
ン、２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジヨードフ
ェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン。
【００５４】本発明の一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の化合
物は、酸付加塩にすることができ、そのような塩として
は、生理学的に使用可能な無機酸塩、例えば塩酸塩、臭
化水素酸塩、硝酸塩、硫酸塩、燐酸塩、あるいは有機酸
塩、例えばメタンスルホン酸塩のような低級アルキルス
ルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩のようなアリー
ルスルホン酸塩、フマル酸、コハク酸塩、クエン酸塩、
酒石酸塩、マレイン酸塩またはグルタミン酸塩、アスパ
ラギン酸塩のようなアミノ酸塩などをあげることができ
る。
物は、酸付加塩にすることができ、そのような塩として
は、生理学的に使用可能な無機酸塩、例えば塩酸塩、臭
化水素酸塩、硝酸塩、硫酸塩、燐酸塩、あるいは有機酸
塩、例えばメタンスルホン酸塩のような低級アルキルス
ルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩のようなアリー
ルスルホン酸塩、フマル酸、コハク酸塩、クエン酸塩、
酒石酸塩、マレイン酸塩またはグルタミン酸塩、アスパ
ラギン酸塩のようなアミノ酸塩などをあげることができ
る。
【００５５】上記方法によって、結晶もしくは油状物と
して得られる一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の化合物は、必
要ならば常法により、例えばカラムクロマトグラフィー
あるいは再結晶操作を行うことにより高純度の精製品と
することができる。
して得られる一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の化合物は、必
要ならば常法により、例えばカラムクロマトグラフィー
あるいは再結晶操作を行うことにより高純度の精製品と
することができる。
【００５６】本発明の一般式（ＩＩ）及び（Ｉ）の化合
物の構造式、物理化学的性質及び製造法の詳細について
は以下の参考例及び実施例で説明する。
物の構造式、物理化学的性質及び製造法の詳細について
は以下の参考例及び実施例で説明する。
【００５７】（参考例１）２、６−ジベンジルオキシ
−１、４−ジメトキシベンゼン１．９９ｇをエタノール
７５ｍｌに溶解させ、１０％−パラジウム−炭素２０４
ｍｇを用いて、水素気流下、攪拌しながら接触還元を行
なった。１時間後、セライトを用いてろ過し、ろ液を減
圧下で留去した後、２、６−ジヒドロキシ−１、４−ジ
メトキシベンゼン０．８９ｇ（９２％）を得た。 ＩＲνmax（ｃｍ-1）ＣＨＣｌ3：３５４０、３０００、
１６００、１５１０. ＭＳ ｍ／ｚ：１７０（Ｍ+）.1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3−ＣＤ3ＯＤ、９０ＭＨｚ）δ
ｐｐｍ：３．７０（３Ｈ、ｓ）、３．８０（３Ｈ、
ｓ）、６．０４（２Ｈ、ｓ）
−１、４−ジメトキシベンゼン１．９９ｇをエタノール
７５ｍｌに溶解させ、１０％−パラジウム−炭素２０４
ｍｇを用いて、水素気流下、攪拌しながら接触還元を行
なった。１時間後、セライトを用いてろ過し、ろ液を減
圧下で留去した後、２、６−ジヒドロキシ−１、４−ジ
メトキシベンゼン０．８９ｇ（９２％）を得た。 ＩＲνmax（ｃｍ-1）ＣＨＣｌ3：３５４０、３０００、
１６００、１５１０. ＭＳ ｍ／ｚ：１７０（Ｍ+）.1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3−ＣＤ3ＯＤ、９０ＭＨｚ）δ
ｐｐｍ：３．７０（３Ｈ、ｓ）、３．８０（３Ｈ、
ｓ）、６．０４（２Ｈ、ｓ）
【００５８】（参考例２）濃硫酸２５ｍｌに亜硝酸ナト
リウム３．３５ｇを少量ずつ５分間にわたり加え、澄明
な溶液になった後、約１０℃に保ちながら、酢酸３０ｍ
ｌを加えた。１０分間攪拌後、室温で２、６−ジクロロ
−４−ニトロアニリン５．４６ｇを３０分間かけて加え
た。この溶液を臭化第一銅４．５５ｇを溶解させた４８
％臭化水素水溶液に激しく攪拌させながら滴下した。１
時間攪拌後、氷水にあけ、結晶化させた。得られた結晶
をろ取し、クロロホルムを用いて再結晶することによ
り、１−ブロモ−２、６−ジクロロ−４−ニトロベンゼ
ン５．３４ｇ（７６％）を黄色針状結晶として得た。 融点８９−９０℃ ＩＲνmax（ｃｍ-1）ＣＨＣｌ3：３０７０、１５３０、
１３４０、８９０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、６０ＭＨｚ）δｐｐｍ：８.
１５（２Ｈ、ｓ） ＭＳ ｍ／ｚ：２６９（Ｍ+、計算値：Ｃ6Ｈ2Ｏ2ＮＢｒ
Ｃｌ2：２６８．８６４６、実測値：２６８．８６２
３）
リウム３．３５ｇを少量ずつ５分間にわたり加え、澄明
な溶液になった後、約１０℃に保ちながら、酢酸３０ｍ
ｌを加えた。１０分間攪拌後、室温で２、６−ジクロロ
−４−ニトロアニリン５．４６ｇを３０分間かけて加え
た。この溶液を臭化第一銅４．５５ｇを溶解させた４８
％臭化水素水溶液に激しく攪拌させながら滴下した。１
時間攪拌後、氷水にあけ、結晶化させた。得られた結晶
をろ取し、クロロホルムを用いて再結晶することによ
り、１−ブロモ−２、６−ジクロロ−４−ニトロベンゼ
ン５．３４ｇ（７６％）を黄色針状結晶として得た。 融点８９−９０℃ ＩＲνmax（ｃｍ-1）ＣＨＣｌ3：３０７０、１５３０、
１３４０、８９０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、６０ＭＨｚ）δｐｐｍ：８.
１５（２Ｈ、ｓ） ＭＳ ｍ／ｚ：２６９（Ｍ+、計算値：Ｃ6Ｈ2Ｏ2ＮＢｒ
Ｃｌ2：２６８．８６４６、実測値：２６８．８６２
３）
【００５９】（参考例３）参考例１で得られた２、６−
ジヒドロキシ−１、４−ジメトキシベンゼン５０．．６
ｍｇ、ヨウ化銅１９．４ｍｇ、硫酸水素テトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウム６０．６ｍｇおよび６０％水素化ナト
リウム（３０．６ｍｇ）を入れ、窒素雰囲気下で、ジメ
チルスルホキシド１．０ｍｌを加え、３０分間攪拌後、
泡が出なくなるのを確認し、ジメチルスルホキシド０．
８ｍｌに溶解させた参考例２で得られた１−ブロモ−
２、６−ジクロロ−４−ニトロベンゼン２３８ｍｇを加
え、９０℃で６時間還流させた。反応液に酢酸エチルを
加え、セライトを用いてろ過後、ろ液を１Ｎ塩酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の
順で洗浄し、乾燥（無水ＭｇＳＯ4）後、減圧下で溶媒
を留去した。残分をシリカゲル（１０ｇ）を用いて、カ
ラムクロマトグラフィーに付し、２、６−ビス−（２、
６−ジクロロ−４−ニトロフェニルオキシ）−１、４−
ジメトキシベンゼン１１７ｍｇ（７０％）を黄色針状晶
として得た。 融点１５５−１５６℃ ＩＲνmax（ｃｍ-1）ＣＨＣｌ3：３０２０、１３４０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、５００ＭＨｚ）δｐｐｍ：
３．６０（３Ｈ、ｓ）、３．９２（３Ｈ、ｓ）、５．８
７（２Ｈ、ｓ）、８．３２（４Ｈ、ｓ） ＭＳ ｍ／ｚ：５４８（Ｍ+、計算値 Ｃ20Ｈ12Ｏ8Ｎ2
Ｃｌ4：５４７．９３４９、実測値：５４７．９３６
４）
ジヒドロキシ−１、４−ジメトキシベンゼン５０．．６
ｍｇ、ヨウ化銅１９．４ｍｇ、硫酸水素テトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウム６０．６ｍｇおよび６０％水素化ナト
リウム（３０．６ｍｇ）を入れ、窒素雰囲気下で、ジメ
チルスルホキシド１．０ｍｌを加え、３０分間攪拌後、
泡が出なくなるのを確認し、ジメチルスルホキシド０．
８ｍｌに溶解させた参考例２で得られた１−ブロモ−
２、６−ジクロロ−４−ニトロベンゼン２３８ｍｇを加
え、９０℃で６時間還流させた。反応液に酢酸エチルを
加え、セライトを用いてろ過後、ろ液を１Ｎ塩酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の
順で洗浄し、乾燥（無水ＭｇＳＯ4）後、減圧下で溶媒
を留去した。残分をシリカゲル（１０ｇ）を用いて、カ
ラムクロマトグラフィーに付し、２、６−ビス−（２、
６−ジクロロ−４−ニトロフェニルオキシ）−１、４−
ジメトキシベンゼン１１７ｍｇ（７０％）を黄色針状晶
として得た。 融点１５５−１５６℃ ＩＲνmax（ｃｍ-1）ＣＨＣｌ3：３０２０、１３４０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、５００ＭＨｚ）δｐｐｍ：
３．６０（３Ｈ、ｓ）、３．９２（３Ｈ、ｓ）、５．８
７（２Ｈ、ｓ）、８．３２（４Ｈ、ｓ） ＭＳ ｍ／ｚ：５４８（Ｍ+、計算値 Ｃ20Ｈ12Ｏ8Ｎ2
Ｃｌ4：５４７．９３４９、実測値：５４７．９３６
４）
【００６０】
（実施例１） 一般式（ＩＩ）の化合物（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ
3＝Ｘ4＝塩素原子：化合物番号１）の製造法 ２、６−ビス−（２、６−ジクロロ−４−ニトロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン９５．４ｍｇ
をエタノール２ｍｌに懸濁させ、次いで二酸化白金１．
９ｍｇを加え攪拌しながら接触還元し、２時間後セライ
トを用いてろ過し、ろ液を減圧下で濃縮した。残分をシ
リカゲル（２ｇ）を用いて、カラムクロマトグラフィー
に付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３３％）溶出部よ
り、２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジクロロフ
ェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物
番号１）７９．１ｍｇ（９４％）を無色結晶として得
た。 融点１０９−１１０℃ ＩＲνmax（ｃｍ-1）ＣＨＣｌ3：３４００、３０００、
１６２０、１４７０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）、５００ＭＨｚ、δｐｐｍ：
３．５１（３Ｈ、ｓ）、３．７６（４Ｈ、ｓ）、４．０
８（３Ｈ、ｓ）、５．７０（２Ｈ、ｓ）、６．６９（４
Ｈ、ｓ） ＭＳ ｍ／ｚ：４８８（Ｍ+、計算値 Ｃ20Ｈ16Ｏ4Ｎ2
Ｃｌ4：４８７．９８６４、実測値：４８７．９８６
８）
3＝Ｘ4＝塩素原子：化合物番号１）の製造法 ２、６−ビス−（２、６−ジクロロ−４−ニトロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン９５．４ｍｇ
をエタノール２ｍｌに懸濁させ、次いで二酸化白金１．
９ｍｇを加え攪拌しながら接触還元し、２時間後セライ
トを用いてろ過し、ろ液を減圧下で濃縮した。残分をシ
リカゲル（２ｇ）を用いて、カラムクロマトグラフィー
に付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３３％）溶出部よ
り、２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジクロロフ
ェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物
番号１）７９．１ｍｇ（９４％）を無色結晶として得
た。 融点１０９−１１０℃ ＩＲνmax（ｃｍ-1）ＣＨＣｌ3：３４００、３０００、
１６２０、１４７０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）、５００ＭＨｚ、δｐｐｍ：
３．５１（３Ｈ、ｓ）、３．７６（４Ｈ、ｓ）、４．０
８（３Ｈ、ｓ）、５．７０（２Ｈ、ｓ）、６．６９（４
Ｈ、ｓ） ＭＳ ｍ／ｚ：４８８（Ｍ+、計算値 Ｃ20Ｈ16Ｏ4Ｎ2
Ｃｌ4：４８７．９８６４、実測値：４８７．９８６
８）
【００６１】（実施例２〜５）実施例１と同様の操作に
より一般式（ＶＩ）の化合物を還元することにより、以
下の実施例２〜５の化合物を得た。
より一般式（ＶＩ）の化合物を還元することにより、以
下の実施例２〜５の化合物を得た。
【００６２】（実施例２） ２、６−ビス−（４−アミ
ノフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化
合物番号２）。
ノフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化
合物番号２）。
【００６３】（実施例３）２、６−ビス−（４−アミノ
−２−クロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベ
ンゼン（化合物番号３）。
−２−クロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベ
ンゼン（化合物番号３）。
【００６４】（実施例４）２−（４−アミノ−２−クロ
ロフェニルオキシ）−６−（４−アミノ−２、６−ジク
ロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン
（化合物番号４）。
ロフェニルオキシ）−６−（４−アミノ−２、６−ジク
ロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン
（化合物番号４）。
【００６５】（実施例５）２−（４−アミノ−２、６−
ジクロロフェニルオキシ）−６−アミノフェニルオキ
シ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号５）。
ジクロロフェニルオキシ）−６−アミノフェニルオキ
シ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号５）。
【００６６】上記実施例２から５で得られる一般式（Ｉ
Ｉ）で表される化合物の構造式、理化学的性質は表１に
示す。
Ｉ）で表される化合物の構造式、理化学的性質は表１に
示す。
【００６７】
【化１５】
【００６８】
【表１】
【００６９】（実施例６） 一般式（Ｉ）の化合物（Ｒ
1＝Ｒ2＝Ｒ4＝水素原子、Ｒ3がブチル基、Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ
3＝Ｘ4＝塩素原子（化合物番号６））及び（Ｒ2＝Ｒ4＝
水素原子、Ｒ1＝Ｒ3＝ブチル基、Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝
塩素原子（化合物番号７））の製造 実施例１で得られた２、６−ビス−（４−アミノ−２、
６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベ
ンゼン（化合物番号１）２００ｍｇをアセトニトリル２
ｍｌに溶解させ、臭化ｎ−ブチル１９０μｌとトリエチ
ルアミン５０μｌを加え、８０℃で２時間攪拌した。反
応液に水を加え、ベンゼンで抽出し、水洗後、乾燥（Ｎ
ａ2ＳＯ4）し、減圧下で溶媒を留去した。残分をシリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー（ベンゼン−酢酸エチル
（１０：１））で展開し、１−置換化合物（化合物番号
６）と２−置換化合物（化合物番号７）をそれぞれ５６
ｍｇ（２５％）、４２ｍｇ（１７％）得た。その機器分
析値は以下に示す通りであった。 １-置換化合物（化合物番号６）： 元素分析：Ｃ24Ｈ24Ｎ2Ｏ4Ｃｌ4 計算値（％）：Ｃ５２．７７、Ｈ４．４３、Ｎ５．１３ 実測値（％）：Ｃ５２．７２、Ｈ４．３８、Ｎ５．２５1 Ｈ−ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．９８（３
Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１．２５〜１．８３（４
Ｈ、ｍ）、３．０９（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．６Ｈｚ）、
３．５１（３Ｈ、ｓ）、３．７６（３Ｈ、ｂｓ）、４．
０８（３Ｈ、ｓ）、５．７１（２ Ｈ、ｓ）、６．５７
（２Ｈ、ｓ）、６．６９（２Ｈ、ｓ）
1＝Ｒ2＝Ｒ4＝水素原子、Ｒ3がブチル基、Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ
3＝Ｘ4＝塩素原子（化合物番号６））及び（Ｒ2＝Ｒ4＝
水素原子、Ｒ1＝Ｒ3＝ブチル基、Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝
塩素原子（化合物番号７））の製造 実施例１で得られた２、６−ビス−（４−アミノ−２、
６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベ
ンゼン（化合物番号１）２００ｍｇをアセトニトリル２
ｍｌに溶解させ、臭化ｎ−ブチル１９０μｌとトリエチ
ルアミン５０μｌを加え、８０℃で２時間攪拌した。反
応液に水を加え、ベンゼンで抽出し、水洗後、乾燥（Ｎ
ａ2ＳＯ4）し、減圧下で溶媒を留去した。残分をシリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー（ベンゼン−酢酸エチル
（１０：１））で展開し、１−置換化合物（化合物番号
６）と２−置換化合物（化合物番号７）をそれぞれ５６
ｍｇ（２５％）、４２ｍｇ（１７％）得た。その機器分
析値は以下に示す通りであった。 １-置換化合物（化合物番号６）： 元素分析：Ｃ24Ｈ24Ｎ2Ｏ4Ｃｌ4 計算値（％）：Ｃ５２．７７、Ｈ４．４３、Ｎ５．１３ 実測値（％）：Ｃ５２．７２、Ｈ４．３８、Ｎ５．２５1 Ｈ−ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．９８（３
Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１．２５〜１．８３（４
Ｈ、ｍ）、３．０９（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．６Ｈｚ）、
３．５１（３Ｈ、ｓ）、３．７６（３Ｈ、ｂｓ）、４．
０８（３Ｈ、ｓ）、５．７１（２ Ｈ、ｓ）、６．５７
（２Ｈ、ｓ）、６．６９（２Ｈ、ｓ）
【００７０】２−置換化合物（化合物番号７）： 元素分析：Ｃ28Ｈ32Ｎ2Ｏ4Ｃｌ4 計算値（％）：Ｃ５５.８３、Ｈ５.３５、Ｎ４.６５ 実測値（％）：Ｃ５５.９６、Ｈ５.３３、Ｎ４.７２1 Ｈ−ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．９８（６
Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）、１．１９〜１．８０（８
Ｈ、ｍ）、３．０８（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．３Ｈｚ）、
３．６０〜３．８７（２Ｈ、ｂｒ）、４．０９（３Ｈ、
ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、６．５７（４Ｈ、ｓ）
Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ）、１．１９〜１．８０（８
Ｈ、ｍ）、３．０８（４Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．３Ｈｚ）、
３．６０〜３．８７（２Ｈ、ｂｒ）、４．０９（３Ｈ、
ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、６．５７（４Ｈ、ｓ）
【００７１】（実施例７〜３０）実施例１で得られた
２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号
１）を適宜な量のアセトニトリルに溶解させ、これに対
応するハライド（上記Ｒ5−Ｙ（ＩＩＩ）で表され
る。）を約１〜４倍当量とトリエチルアミン約１〜４当
量を加え、反応温度４０〜１２０℃で１０〜１８時間反
応させ、以下実施例６と同様に後処理することにより実
施例７〜３０の化合物（化合物番号７〜３０）を製造し
た。各化合物の構造式及び物理化学的性質は以下の表
２、表３、表４及び表５に示す。
２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号
１）を適宜な量のアセトニトリルに溶解させ、これに対
応するハライド（上記Ｒ5−Ｙ（ＩＩＩ）で表され
る。）を約１〜４倍当量とトリエチルアミン約１〜４当
量を加え、反応温度４０〜１２０℃で１０〜１８時間反
応させ、以下実施例６と同様に後処理することにより実
施例７〜３０の化合物（化合物番号７〜３０）を製造し
た。各化合物の構造式及び物理化学的性質は以下の表
２、表３、表４及び表５に示す。
【００７２】
【化１６】
【００７３】
【表２】
【００７４】
【表３】
【００７５】
【表４】
【００７６】
【表５】
【００７７】（実施例３１） 一般式（Ｉ）の化合物
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝３−ヒドロキシ−４
−メトキシベンジル基、Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝塩素原子
（化合物番号３１））の製造 実施例１で得られた２、６−ビス−（４−アミノ−２、
６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベ
ンゼン（化合物番号１）２８ｍｇの酢酸溶液０．４ｍｌ
に３−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド１０
ｍｇを加え、４０°〜５０°で１時間加熱した後、室温
でＮａＢＨ3ＣＮを過剰量加え、３０分間攪拌した。反
応液をベンゼンで抽出し、有機層を水洗後、乾燥（Ｎａ
2ＳＯ4）し、減圧下で濃縮した。残分を分取シリカゲル
ＴＬＣを用いて、ベンゼン−酢酸エチル（６：１）で展
開し、２−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニルオ
キシ）−１、４−ジメトキシ−６−〔４−Ｎ−（３−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンジル）アミノ〕ベンゼン
（化合物番号３１）７．０ｍｇ（２０％）を得た。得ら
れた化合物の機器分析の結果は以下のとおりであった。 元素分析：Ｃ28Ｈ24Ｎ2Ｏ6Ｃｌ4・０．５Ｈ2Ｏとして 計算値（％）：Ｃ ５２．９３；Ｈ ３．９７；Ｎ
４．４１ 実測値（％）：Ｃ ５２．８８；Ｈ ３．８９；Ｎ
４．６３1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５２（３Ｈ、
ｓ）、３．９０（３Ｈ、ｓ）、４．０８（３Ｈ、ｓ）、
４．２０（２Ｈ、ｂｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、６．
５５（２Ｈ、ｓ）、６．６１（２Ｈ、ｓ）、６．６９〜
６．９３（３Ｈ、ｍ）
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝３−ヒドロキシ−４
−メトキシベンジル基、Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝塩素原子
（化合物番号３１））の製造 実施例１で得られた２、６−ビス−（４−アミノ−２、
６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベ
ンゼン（化合物番号１）２８ｍｇの酢酸溶液０．４ｍｌ
に３−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド１０
ｍｇを加え、４０°〜５０°で１時間加熱した後、室温
でＮａＢＨ3ＣＮを過剰量加え、３０分間攪拌した。反
応液をベンゼンで抽出し、有機層を水洗後、乾燥（Ｎａ
2ＳＯ4）し、減圧下で濃縮した。残分を分取シリカゲル
ＴＬＣを用いて、ベンゼン−酢酸エチル（６：１）で展
開し、２−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニルオ
キシ）−１、４−ジメトキシ−６−〔４−Ｎ−（３−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンジル）アミノ〕ベンゼン
（化合物番号３１）７．０ｍｇ（２０％）を得た。得ら
れた化合物の機器分析の結果は以下のとおりであった。 元素分析：Ｃ28Ｈ24Ｎ2Ｏ6Ｃｌ4・０．５Ｈ2Ｏとして 計算値（％）：Ｃ ５２．９３；Ｈ ３．９７；Ｎ
４．４１ 実測値（％）：Ｃ ５２．８８；Ｈ ３．８９；Ｎ
４．６３1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５２（３Ｈ、
ｓ）、３．９０（３Ｈ、ｓ）、４．０８（３Ｈ、ｓ）、
４．２０（２Ｈ、ｂｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、６．
５５（２Ｈ、ｓ）、６．６１（２Ｈ、ｓ）、６．６９〜
６．９３（３Ｈ、ｍ）
【００７８】（実施例３２） 一般式（Ｉ）の化合物
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝２−ティエニルメチ
ル基（化合物番号３２））及び一般式（Ｉ）の化合物
（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ2＝Ｒ4＝２−ティエニルメチ
ル基（化合物番号３３））の製造 実施例１で得られた２、６−ビス−（４−アミノ−２、
６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベ
ンゼン（化合物番号１）１００ｍｇのベンゼン溶液５．
０ｍｌにモレキュラーシーブス５Ａを４９．７ｍｇ及び
ｐ−トルエンスルホン酸水和物を触媒量加え、窒素雰囲
気下で、２−チオフェンアルデヒド２０μｌを加え、室
温で６.５時間攪拌させた。反応液をろ過後ろ液を濃縮
し、精製することなく、テトラヒドロフラン−メタノー
ル混液（１：１）６ｍｌに溶解し、ＮａＢＨ3ＣＮを過
剰量加え、９．５時間攪拌した。反応液を酸性にした
後、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗
い、乾燥（ＭｇＳＯ4）後、減圧下濃縮した。残分をシ
リカゲル５ｇを用いてカラムクロマトグラフィーに付
し、ヘキサン／酢酸エチル（５：１）溶出部させること
により１−置換化合物（化合物番号３２）７．８ｍｇ
（１３％）及び２−置換化合物（化合物番号３３）２
４．４ｍｇ（１８％）が得られた。
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝２−ティエニルメチ
ル基（化合物番号３２））及び一般式（Ｉ）の化合物
（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ2＝Ｒ4＝２−ティエニルメチ
ル基（化合物番号３３））の製造 実施例１で得られた２、６−ビス−（４−アミノ−２、
６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベ
ンゼン（化合物番号１）１００ｍｇのベンゼン溶液５．
０ｍｌにモレキュラーシーブス５Ａを４９．７ｍｇ及び
ｐ−トルエンスルホン酸水和物を触媒量加え、窒素雰囲
気下で、２−チオフェンアルデヒド２０μｌを加え、室
温で６.５時間攪拌させた。反応液をろ過後ろ液を濃縮
し、精製することなく、テトラヒドロフラン−メタノー
ル混液（１：１）６ｍｌに溶解し、ＮａＢＨ3ＣＮを過
剰量加え、９．５時間攪拌した。反応液を酸性にした
後、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗
い、乾燥（ＭｇＳＯ4）後、減圧下濃縮した。残分をシ
リカゲル５ｇを用いてカラムクロマトグラフィーに付
し、ヘキサン／酢酸エチル（５：１）溶出部させること
により１−置換化合物（化合物番号３２）７．８ｍｇ
（１３％）及び２−置換化合物（化合物番号３３）２
４．４ｍｇ（１８％）が得られた。
【００７９】１−置換化合物（化合物番号３２）： ＭＳ ｍ／ｚ： ５８４（Ｍ+）（計算値：Ｃ25Ｈ20Ｎ2
Ｏ4Ｃｌ4Ｓに対し、５８３．９８９７、実測値：５８
３．９８６９）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５２（３Ｈ、
ｓ）、４．０８（３Ｈ、ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、
４．５０（２Ｈ、ｓ）、６．６８（２Ｈ、ｓ）、６．６
９（２Ｈ、ｓ）、７．０３〜７．０４（２Ｈ、ｍ）、
７．２５〜７．３０（１Ｈ、ｍ）
Ｏ4Ｃｌ4Ｓに対し、５８３．９８９７、実測値：５８
３．９８６９）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５２（３Ｈ、
ｓ）、４．０８（３Ｈ、ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、
４．５０（２Ｈ、ｓ）、６．６８（２Ｈ、ｓ）、６．６
９（２Ｈ、ｓ）、７．０３〜７．０４（２Ｈ、ｍ）、
７．２５〜７．３０（１Ｈ、ｍ）
【００８０】２−置換化合物（化合物番号３３）： ＭＳ：ｍ／ｚ：６８０（Ｍ+）（計算値： Ｃ30Ｈ24Ｎ2
Ｏ4Ｃｌ4Ｓ2に対し、６７９．９９３２、実測値：６７
９．９９０４）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５２（３Ｈ、
ｓ）、４．０８（３Ｈ、ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、
４．４５（４Ｈ、ｓ）、６．６８（４Ｈ、ｓ）、６．９
０〜７．０３（４Ｈ、ｍ）、７．２３〜７．３０（２
Ｈ、ｍ）
Ｏ4Ｃｌ4Ｓ2に対し、６７９．９９３２、実測値：６７
９．９９０４）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５２（３Ｈ、
ｓ）、４．０８（３Ｈ、ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、
４．４５（４Ｈ、ｓ）、６．６８（４Ｈ、ｓ）、６．９
０〜７．０３（４Ｈ、ｍ）、７．２３〜７．３０（２
Ｈ、ｍ）
【００８１】（実施例３３） 一般式（Ｉ）の化合物
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝２−フラニルメチル
基（化合物番号３４））及び（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ
2＝Ｒ4＝２−フラニルメチル基（化合物番号３５））の
製造 実施例３０と同様の反応条件下で２、６−ビス−（４−
アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−
ジメトキシベンゼン（化合物番号１）０．１０ｇと２−
フラルデヒド２５μｌとを反応させて１−置換化合物
（化合物番号３４）２５．３ｍｇ（２２％）及び２−置
換化合物（化合物番号３５）２２．３ｍｇ（１７％）を
得た。
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝２−フラニルメチル
基（化合物番号３４））及び（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ
2＝Ｒ4＝２−フラニルメチル基（化合物番号３５））の
製造 実施例３０と同様の反応条件下で２、６−ビス−（４−
アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−
ジメトキシベンゼン（化合物番号１）０．１０ｇと２−
フラルデヒド２５μｌとを反応させて１−置換化合物
（化合物番号３４）２５．３ｍｇ（２２％）及び２−置
換化合物（化合物番号３５）２２．３ｍｇ（１７％）を
得た。
【００８２】１−置換化合物（化合物番号３４）： ＭＳ ｍ／ｚ： ５６８（Ｍ+）（計算値： Ｃ25Ｈ20
Ｎ2Ｏ5Ｃｌ4に対し、５６８．０１２６、実測値：５６
８．００９１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５２（３Ｈ、
ｓ）、４．０７（３Ｈ、ｓ）、４．２９（２Ｈ、ｓ）、
５．７０（２Ｈ、ｓ）、６．２７（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝３Ｈ
ｚ）、６．３５（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、６．６７
（２Ｈ、ｓ）、６．８１（２Ｈ、ｓ）、７．３９（１
Ｈ、ｄ、Ｊ＝１Ｈｚ）
Ｎ2Ｏ5Ｃｌ4に対し、５６８．０１２６、実測値：５６
８．００９１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５２（３Ｈ、
ｓ）、４．０７（３Ｈ、ｓ）、４．２９（２Ｈ、ｓ）、
５．７０（２Ｈ、ｓ）、６．２７（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝３Ｈ
ｚ）、６．３５（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、６．６７
（２Ｈ、ｓ）、６．８１（２Ｈ、ｓ）、７．３９（１
Ｈ、ｄ、Ｊ＝１Ｈｚ）
【００８３】２−置換化合物（化合物番号３５）：1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５０（３Ｈ、
ｓ）、４．０７（３Ｈ、ｓ）、４．２９（４Ｈ、ｓ）、
５．７０（２Ｈ、ｓ）、６．２７（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝３Ｈ
ｚ）、６．３４（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、６．６７
（４Ｈ、ｓ）、７．３９（２Ｈ、ｓ）
ｓ）、４．０７（３Ｈ、ｓ）、４．２９（４Ｈ、ｓ）、
５．７０（２Ｈ、ｓ）、６．２７（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝３Ｈ
ｚ）、６．３４（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、６．６７
（４Ｈ、ｓ）、７．３９（２Ｈ、ｓ）
【００８４】（実施例３４） 一般式（Ｉ）の化合物
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝シクロプロピルメチ
ル基（化合物番号３６））及び（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、
Ｒ2＝Ｒ4＝シクロプロピルメチル基（化合物番号３
７））の製造 ２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号
１）４９．３ｍｇをｐＨ５〜６に調整したメタノールに
溶解させ、シクロプロピルアルデヒド１０μｌ及びＮａ
ＢＨ3ＣＮ６３．３ｍｇを加え、２日間攪拌させた。以
下反応液を実施例３０と同様に後処理し、１−置換化合
物（化合物番号３６）１４．７ｍｇ（２７％）及び２−
置換化合物（化合物番号３７）２６．８ｍｇ（４５％）
を得た。
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝シクロプロピルメチ
ル基（化合物番号３６））及び（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、
Ｒ2＝Ｒ4＝シクロプロピルメチル基（化合物番号３
７））の製造 ２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号
１）４９．３ｍｇをｐＨ５〜６に調整したメタノールに
溶解させ、シクロプロピルアルデヒド１０μｌ及びＮａ
ＢＨ3ＣＮ６３．３ｍｇを加え、２日間攪拌させた。以
下反応液を実施例３０と同様に後処理し、１−置換化合
物（化合物番号３６）１４．７ｍｇ（２７％）及び２−
置換化合物（化合物番号３７）２６．８ｍｇ（４５％）
を得た。
【００８５】１−置換化合物（化合物番号３６）： ＭＳ ｍ／ｚ： ５４２（Ｍ+）（計算値： Ｃ24Ｈ22
Ｏ4Ｎ2Ｃｌ4に対し、５４２．０３０８、実測値：５４
２．０３０８）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．２６−０．７
１（５Ｈ、ｍ）、２．９２（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、
３．５１（３Ｈ、ｓ）、４．０８（３Ｈ、ｓ）、５．７
１（２Ｈ、ｓ）、６．５９（２Ｈ、ｓ）、６．６９（２
Ｈ、ｓ）
Ｏ4Ｎ2Ｃｌ4に対し、５４２．０３０８、実測値：５４
２．０３０８）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．２６−０．７
１（５Ｈ、ｍ）、２．９２（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、
３．５１（３Ｈ、ｓ）、４．０８（３Ｈ、ｓ）、５．７
１（２Ｈ、ｓ）、６．５９（２Ｈ、ｓ）、６．６９（２
Ｈ、ｓ）
【００８６】２−置換化合物（化合物番号３７）： ＭＳ ｍ／ｚ： ５９６（Ｍ+）（計算値： Ｃ28Ｈ28
Ｎ2Ｏ4Ｃｌ4に対し、５９６．０８０３、実測値：５９
６．０７６３）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．２５〜０．３
４（４Ｈ、ｍ）、０．５５〜０．６２（４Ｈ、ｍ）、
０．９〜１．３（２Ｈ、ｍ）、２．９２（４Ｈ、ｄ、Ｊ
＝７Ｈｚ）、３．５１（３Ｈ、ｓ）、４．０９（３Ｈ、
ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、６．５９（４Ｈ、ｓ）
Ｎ2Ｏ4Ｃｌ4に対し、５９６．０８０３、実測値：５９
６．０７６３）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．２５〜０．３
４（４Ｈ、ｍ）、０．５５〜０．６２（４Ｈ、ｍ）、
０．９〜１．３（２Ｈ、ｍ）、２．９２（４Ｈ、ｄ、Ｊ
＝７Ｈｚ）、３．５１（３Ｈ、ｓ）、４．０９（３Ｈ、
ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、６．５９（４Ｈ、ｓ）
【００８７】（実施例３５） 一般式（Ｉ）の化合物
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝デシル基（化合物番
号３８））及び（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ2＝Ｒ4＝デシ
ル基（化合物番号３９））の製造 実施例３４と同様の反応条件下で２、６−ビス−（４−
アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−
ジメトキシベンゼン（化合物番号１）５０ｍｇとデシル
アルデヒド（Ｃ9Ｈ19ＣＨＯ）２５μｌ及びＮａＢＨ3Ｃ
Ｎ３１．３ｍｇを反応させ、１−置換化合物（化合物番
号３８）１０ｍｇ（１６％）及び２−置換化合物（化合
物番号３９）３．６ｍｇ（６％）を得た。
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝デシル基（化合物番
号３８））及び（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ2＝Ｒ4＝デシ
ル基（化合物番号３９））の製造 実施例３４と同様の反応条件下で２、６−ビス−（４−
アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−
ジメトキシベンゼン（化合物番号１）５０ｍｇとデシル
アルデヒド（Ｃ9Ｈ19ＣＨＯ）２５μｌ及びＮａＢＨ3Ｃ
Ｎ３１．３ｍｇを反応させ、１−置換化合物（化合物番
号３８）１０ｍｇ（１６％）及び２−置換化合物（化合
物番号３９）３．６ｍｇ（６％）を得た。
【００８８】１−置換化合物（化合物番号３８）： ＭＳ ｍ／ｚ： ６３０（Ｍ+）（計算値 Ｃ30Ｈ36Ｏ4
Ｎ2Ｃｌ4に対し、６２８．１４２９、実測値：６２８．
１３４６）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．８９（３Ｈ、
ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．２９（１４Ｈ、ｂｓ）、３．０
７（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、３．５１（３Ｈ、ｓ）、
４．０８（３Ｈ、ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、６．５
７（２Ｈ、ｓ）、６．６９（２Ｈ、ｓ）
Ｎ2Ｃｌ4に対し、６２８．１４２９、実測値：６２８．
１３４６）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．８９（３Ｈ、
ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．２９（１４Ｈ、ｂｓ）、３．０
７（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、３．５１（３Ｈ、ｓ）、
４．０８（３Ｈ、ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、６．５
７（２Ｈ、ｓ）、６．６９（２Ｈ、ｓ）
【００８９】２−置換化合物（化合物番号３９）： ＭＳ ｍ／ｚ： ７６８（Ｍ+）（計算値： Ｃ40Ｈ56
Ｏ4Ｎ2Ｃｌ4に対し、７６８．２９９５、実測値：７６
８．２９５５）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．８８（６Ｈ、
ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．２８（２８Ｈ、ｂｓ）、１．５
７−１．８９（ｍ）、３．１（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、３．５１（３Ｈ、ｓ）、４．１０（３Ｈ、ｓ）、
５．７０（２Ｈ、ｓ）、６．５８（４Ｈ、ｓ）
Ｏ4Ｎ2Ｃｌ4に対し、７６８．２９９５、実測値：７６
８．２９５５）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．８８（６Ｈ、
ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．２８（２８Ｈ、ｂｓ）、１．５
７−１．８９（ｍ）、３．１（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、３．５１（３Ｈ、ｓ）、４．１０（３Ｈ、ｓ）、
５．７０（２Ｈ、ｓ）、６．５８（４Ｈ、ｓ）
【００９０】（実施例３６）一般式（Ｉ）の化合物（Ｒ
1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝２−アミノエチル基（化
合物番号４０））の製造 実施例２９で得られた化合物（化合物番号３０）２００
ｍｇをエタノールに溶解させ、過剰のヒドラジン−水和
物を加え２時間加熱還流させた。反応液に酢酸エチルを
加えて分配し、水洗した。有機層を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）
し、減圧下で溶媒を留去した。残分をシリカゲルＴＬＣ
に付し、クロロホルム−メタノール（１０：１）で展開
させ２−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキ
シ）−１、４−ジメトキシ−６−（４−Ｎ−（２−アミ
ノエチル）アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）
ベンゼン（化合物番号４０）４０ｍｇ（２５％）を得
た。 元素分析：Ｃ22Ｈ21Ｎ3Ｏ4Ｃｌ4・Ｈ2Ｏとして 計算値（％）：Ｃ ４７．９３；Ｈ ４．２１；Ｎ
７．６２ 実測値（％）：Ｃ ４７．７８；Ｈ ４．１６；Ｎ
７．６９1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．２８（２Ｈ、
ｔ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）、３．５１（３Ｈ、ｓ）、３．６
５（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）、４．０８（３Ｈ、
ｓ）、５．７０（２Ｈ、ｓ）、６．５９（２Ｈ、ｓ）、
６．６９（２Ｈ、ｓ）
1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝２−アミノエチル基（化
合物番号４０））の製造 実施例２９で得られた化合物（化合物番号３０）２００
ｍｇをエタノールに溶解させ、過剰のヒドラジン−水和
物を加え２時間加熱還流させた。反応液に酢酸エチルを
加えて分配し、水洗した。有機層を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）
し、減圧下で溶媒を留去した。残分をシリカゲルＴＬＣ
に付し、クロロホルム−メタノール（１０：１）で展開
させ２−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキ
シ）−１、４−ジメトキシ−６−（４−Ｎ−（２−アミ
ノエチル）アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）
ベンゼン（化合物番号４０）４０ｍｇ（２５％）を得
た。 元素分析：Ｃ22Ｈ21Ｎ3Ｏ4Ｃｌ4・Ｈ2Ｏとして 計算値（％）：Ｃ ４７．９３；Ｈ ４．２１；Ｎ
７．６２ 実測値（％）：Ｃ ４７．７８；Ｈ ４．１６；Ｎ
７．６９1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．２８（２Ｈ、
ｔ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）、３．５１（３Ｈ、ｓ）、３．６
５（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）、４．０８（３Ｈ、
ｓ）、５．７０（２Ｈ、ｓ）、６．５９（２Ｈ、ｓ）、
６．６９（２Ｈ、ｓ）
【００９１】（実施例３７） 一般式（Ｉ）の化合物
（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ2＝Ｒ4＝アセチル基（化合物
番号４２））の製造 ２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号
１）５０ｍｇをピリジン０．５ｍｌに溶解させ、無水酢
酸０．２ｍｌを加え、室温で１８時間攪拌した。反応液
に水を加えベンゼンで抽出した。有機層を３Ｎ塩酸水溶
液及び水で洗浄した。有機層を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、
減圧下で溶媒を留去し、残分をシリカゲルＴＬＣに付
し、ベンゼン−酢酸エチル（３：１）にて展開させ、
２、６−ビス−（４−Ｎ−アセチルアミノ−２、６−ジ
クロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン
（化合物番号４２）５１ｍｇ（８７％）を得た。 元素分析：Ｃ24Ｈ20Ｎ2Ｏ6Ｃｌ4・０．２５Ｈ2Ｏとし
て： 計算値（％）：Ｃ ４９．８１；Ｈ ３．５７；Ｎ
４．８４ 実測値（％）：Ｃ ４９．６２；Ｈ ３．５１；Ｎ
４．８６1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．２２（６Ｈ、
ｓ）、３．４５（３Ｈ、ｓ）、３．８７（３Ｈ、ｓ）、
５．７１（２Ｈ、ｓ）、７．１４（４Ｈ、ｓ）
（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ2＝Ｒ4＝アセチル基（化合物
番号４２））の製造 ２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号
１）５０ｍｇをピリジン０．５ｍｌに溶解させ、無水酢
酸０．２ｍｌを加え、室温で１８時間攪拌した。反応液
に水を加えベンゼンで抽出した。有機層を３Ｎ塩酸水溶
液及び水で洗浄した。有機層を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、
減圧下で溶媒を留去し、残分をシリカゲルＴＬＣに付
し、ベンゼン−酢酸エチル（３：１）にて展開させ、
２、６−ビス−（４−Ｎ−アセチルアミノ−２、６−ジ
クロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン
（化合物番号４２）５１ｍｇ（８７％）を得た。 元素分析：Ｃ24Ｈ20Ｎ2Ｏ6Ｃｌ4・０．２５Ｈ2Ｏとし
て： 計算値（％）：Ｃ ４９．８１；Ｈ ３．５７；Ｎ
４．８４ 実測値（％）：Ｃ ４９．６２；Ｈ ３．５１；Ｎ
４．８６1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．２２（６Ｈ、
ｓ）、３．４５（３Ｈ、ｓ）、３．８７（３Ｈ、ｓ）、
５．７１（２Ｈ、ｓ）、７．１４（４Ｈ、ｓ）
【００９２】（実施例３８） 一般式（Ｉ）の化合物
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝ベンジルオキシカル
ボニル基（化合物番号４２）の製造 ２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号
１）１００ｍｇを塩化メチレン３ｍｌに溶解させ、氷冷
下塩化ベンジルオキシカルボニル０．０５ｍｌ、４Ｎ−
水酸化ナトリウム０．２ｍｌを加え、２時間攪拌した。
反応液を１Ｎ塩酸水溶液を用いて中和し、ベンゼンで抽
出した。有機層を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧下で濃縮
し、残分をシリカゲル薄層クロマトグラフィーに付し、
ベンゼン−酢酸エチル（５：１）にて展開させ、２−
（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）−６
−（４−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２、６−ジ
クロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン
（化合物番号４２）４５ｍｇ（３５％）を得た。 元素分析：Ｃ28Ｈ22Ｎ2Ｏ6Ｃｌ4として： 計算値（％）：Ｃ ５３．８７；Ｈ ３．５５；Ｎ
４．４９ 実測値（％）：Ｃ ５３．５９；Ｈ ３．５８；Ｎ
４．４４1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５０（３Ｈ、
ｓ）、３．７６（２Ｈ、ｂｓ）、４．０７（３Ｈ、
ｓ）、５．２１（２Ｈ、ｓ）、５．６６（１Ｈ、ｄ、Ｊ
＝２．７Ｈｚ）、５．７３（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝２．７Ｈ
ｚ）、６．６８（２Ｈ、ｓ）、６．９１（１Ｈ、ｓ）、
７．３８（５Ｈ、ｓ）、７．５０（２Ｈ、ｓ）
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝ベンジルオキシカル
ボニル基（化合物番号４２）の製造 ２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号
１）１００ｍｇを塩化メチレン３ｍｌに溶解させ、氷冷
下塩化ベンジルオキシカルボニル０．０５ｍｌ、４Ｎ−
水酸化ナトリウム０．２ｍｌを加え、２時間攪拌した。
反応液を１Ｎ塩酸水溶液を用いて中和し、ベンゼンで抽
出した。有機層を乾燥（Ｎａ2ＳＯ4）後、減圧下で濃縮
し、残分をシリカゲル薄層クロマトグラフィーに付し、
ベンゼン−酢酸エチル（５：１）にて展開させ、２−
（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）−６
−（４−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２、６−ジ
クロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン
（化合物番号４２）４５ｍｇ（３５％）を得た。 元素分析：Ｃ28Ｈ22Ｎ2Ｏ6Ｃｌ4として： 計算値（％）：Ｃ ５３．８７；Ｈ ３．５５；Ｎ
４．４９ 実測値（％）：Ｃ ５３．５９；Ｈ ３．５８；Ｎ
４．４４1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５０（３Ｈ、
ｓ）、３．７６（２Ｈ、ｂｓ）、４．０７（３Ｈ、
ｓ）、５．２１（２Ｈ、ｓ）、５．６６（１Ｈ、ｄ、Ｊ
＝２．７Ｈｚ）、５．７３（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝２．７Ｈ
ｚ）、６．６８（２Ｈ、ｓ）、６．９１（１Ｈ、ｓ）、
７．３８（５Ｈ、ｓ）、７．５０（２Ｈ、ｓ）
【００９３】（実施例３９） 一般式（Ｉ）の化合物
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝ヒドロキシル基（化
合物番号４３）及び（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ2＝Ｒ4＝
ヒドロキシル基（化合物番号４４））の製造 ２、６−ビス−（２、６−ジクロロ−４−ニトロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン９０ｍｇを酢
酸エチル１ｍｌおよびメタノール０．４ｍｌの混液に溶
解させ、１０％パラジウム−炭素３０ｍｇを加え、水素
気流下、室温で１時間攪拌させ、接触還元を行った。反
応終了後、反応液をろ過し、ろ液を減圧下で濃縮した。
残分をシリカゲルＴＬＣに付し、ベンゼン−酢酸エチル
（４：１）にて展開させ、２−（４−アミノ−２、６−
ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシ−６−
（２、６−ジクロロ−４−ヒドロキシアミノフェニルオ
キシ）ベンゼン（化合物番号４３）３８ｍｇ（４６％）
及び２、６−ビス−（４−ヒドロキシアミノ−２、６−
ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼ
ン（化合物番号４４）１９ｍｇ（２２％）を得た。
（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝ヒドロキシル基（化
合物番号４３）及び（Ｒ1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ2＝Ｒ4＝
ヒドロキシル基（化合物番号４４））の製造 ２、６−ビス−（２、６−ジクロロ−４−ニトロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン９０ｍｇを酢
酸エチル１ｍｌおよびメタノール０．４ｍｌの混液に溶
解させ、１０％パラジウム−炭素３０ｍｇを加え、水素
気流下、室温で１時間攪拌させ、接触還元を行った。反
応終了後、反応液をろ過し、ろ液を減圧下で濃縮した。
残分をシリカゲルＴＬＣに付し、ベンゼン−酢酸エチル
（４：１）にて展開させ、２−（４−アミノ−２、６−
ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシ−６−
（２、６−ジクロロ−４−ヒドロキシアミノフェニルオ
キシ）ベンゼン（化合物番号４３）３８ｍｇ（４６％）
及び２、６−ビス−（４−ヒドロキシアミノ−２、６−
ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼ
ン（化合物番号４４）１９ｍｇ（２２％）を得た。
【００９４】１−ヒドロキシ置換化合物（化合物番号４
３）： 元素分析：Ｃ20Ｈ16Ｎ2Ｏ5Ｃｌ4・０．５Ｈ2Ｏとして： 計算値（％）：Ｃ ４６．６３；Ｈ ３．３３；Ｎ
５．４４ 実測値（％）：Ｃ ４６．４９；Ｈ ３．３０；Ｎ
５．５１1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５１（３Ｈ、
ｓ）、４．０８（３Ｈ、ｓ）、５．６８（１Ｈ、ｄ、Ｊ
＝２．９Ｈｚ）、５．７２（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝２．９ Ｈ
ｚ）、６．６８（２Ｈ、ｓ）、７．０２（２Ｈ、ｓ）
３）： 元素分析：Ｃ20Ｈ16Ｎ2Ｏ5Ｃｌ4・０．５Ｈ2Ｏとして： 計算値（％）：Ｃ ４６．６３；Ｈ ３．３３；Ｎ
５．４４ 実測値（％）：Ｃ ４６．４９；Ｈ ３．３０；Ｎ
５．５１1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５１（３Ｈ、
ｓ）、４．０８（３Ｈ、ｓ）、５．６８（１Ｈ、ｄ、Ｊ
＝２．９Ｈｚ）、５．７２（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝２．９ Ｈ
ｚ）、６．６８（２Ｈ、ｓ）、７．０２（２Ｈ、ｓ）
【００９５】２−ヒドロキシ置換化合物（化合物番号４
４）： 元素分析：Ｃ20Ｈ16Ｎ2Ｏ6Ｃｌ4・Ｈ2Ｏとして 計算値（％）：Ｃ ４４．４７；Ｈ ３．３６；Ｎ
５．１９ 実測値（％）：Ｃ ４４．２１；Ｈ ３．２９；Ｎ
５．３０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５１（３Ｈ、
ｓ）、４．０９（３Ｈ、ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、
７．０５（４Ｈ、ｓ）
４）： 元素分析：Ｃ20Ｈ16Ｎ2Ｏ6Ｃｌ4・Ｈ2Ｏとして 計算値（％）：Ｃ ４４．４７；Ｈ ３．３６；Ｎ
５．１９ 実測値（％）：Ｃ ４４．２１；Ｈ ３．２９；Ｎ
５．３０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５１（３Ｈ、
ｓ）、４．０９（３Ｈ、ｓ）、５．７１（２Ｈ、ｓ）、
７．０５（４Ｈ、ｓ）
【００９６】（実施例４０）一般式（Ｉ）の化合物（Ｒ
1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝ｐ−メトキシベンジル
基、Ｘ1＝Ｘ3＝水素原子、Ｘ2＝Ｘ4＝塩素原子（化合物
番号４５））の製造 実施例３で得られた化合物（化合物番号３）３０ｍｇを
アセトニトリル０．５ｍｌに溶解させ、ｐ−メトキシベ
ンジルクロリド３５ｍｇとトリエチルアミン８ｍｇを加
え、６０℃で２０分間攪拌した。反応液をベンゼンで抽
出し、水洗後、乾燥し、溶媒を留去した。残分をシリカ
ゲルプレパラティブＴＬＣに付し、ベンゼン−酢酸エチ
ル（６：１）で展開し、２、６−ビス−〔２−クロロ−
４−（ｐ−メトキシベンジルアミノ）フェニルオキシ〕
−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号４５）６．
２ｍｇ（１６％）を得た。 化合物（化合物番号４５）： 元素分析：Ｃ28Ｈ26Ｎ2Ｏ5Ｃｌ2・０．５Ｈ2Ｏとして 計算値（％）：Ｃ ６１．１０；Ｈ ４．９４；Ｎ
５．０９ 実測値（％）：Ｃ ６０．９２；Ｈ ４．９９；Ｎ
５．０６1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５５（３Ｈ、
ｓ）、３．８１（３Ｈ、ｓ）、３．９５（３Ｈ、ｓ）、
４．２２（２Ｈ、ｓ）、５．９３（２Ｈ、ｓ）、６．４
０〜６．６２（２Ｈ、ｍ）、６．７５（２Ｈ、ｄｄ、Ｊ
＝５．９Ｈｚ、２．７Ｈｚ）、６．８２〜７．０３（４
Ｈ、ｍ）、７．２９（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝８．６Ｈｚ）
1＝Ｒ2＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ4＝ｐ−メトキシベンジル
基、Ｘ1＝Ｘ3＝水素原子、Ｘ2＝Ｘ4＝塩素原子（化合物
番号４５））の製造 実施例３で得られた化合物（化合物番号３）３０ｍｇを
アセトニトリル０．５ｍｌに溶解させ、ｐ−メトキシベ
ンジルクロリド３５ｍｇとトリエチルアミン８ｍｇを加
え、６０℃で２０分間攪拌した。反応液をベンゼンで抽
出し、水洗後、乾燥し、溶媒を留去した。残分をシリカ
ゲルプレパラティブＴＬＣに付し、ベンゼン−酢酸エチ
ル（６：１）で展開し、２、６−ビス−〔２−クロロ−
４−（ｐ−メトキシベンジルアミノ）フェニルオキシ〕
−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号４５）６．
２ｍｇ（１６％）を得た。 化合物（化合物番号４５）： 元素分析：Ｃ28Ｈ26Ｎ2Ｏ5Ｃｌ2・０．５Ｈ2Ｏとして 計算値（％）：Ｃ ６１．１０；Ｈ ４．９４；Ｎ
５．０９ 実測値（％）：Ｃ ６０．９２；Ｈ ４．９９；Ｎ
５．０６1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：３．５５（３Ｈ、
ｓ）、３．８１（３Ｈ、ｓ）、３．９５（３Ｈ、ｓ）、
４．２２（２Ｈ、ｓ）、５．９３（２Ｈ、ｓ）、６．４
０〜６．６２（２Ｈ、ｍ）、６．７５（２Ｈ、ｄｄ、Ｊ
＝５．９Ｈｚ、２．７Ｈｚ）、６．８２〜７．０３（４
Ｈ、ｍ）、７．２９（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝８．６Ｈｚ）
【００９７】（実施例４１）一般式（Ｉ）の化合物（Ｒ
1＝Ｒ2＝Ｒ3＝ベンジル基、Ｒ4＝ブチル基、Ｘ1＝Ｘ2＝
Ｘ3＝Ｘ4＝塩素原子（化合物番号４６））の製造 ２−（２、６−ジクロロ−４−アミノフェニルオキシ）
−６−〔４−（Ｎ−ｎ−ブチルアミノ）−２、６−ジク
ロロフェニルオキシ〕−１、４−ジメトキシベンゼン
（化合物番号６）５３ｍｇをアセトニトリル２ｍｌに溶
解させ、臭化ベンジル２００μｌ及びトリエチルアミン
１００μｌを加え１２０℃で３時間攪拌しながら反応さ
せた。反応液を常法により後処理後、シリカゲルＴＬＣ
に付し、ベンゼン−ヘキサン（５：２）で展開し、２−
（２、６−ジクロロ−４−Ｎ、Ｎ−ジベンジルアミノフ
ェニルオキシ）−６−（２、６−ジクロロ−４−（Ｎ−
ベンジル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノフェニルオキシ）−
１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号４６）７６．
８ｍｇ（９７％）を得た。 元素分析：Ｃ45Ｈ42Ｎ2Ｏ4Ｃｌ4として 計算値（％）：Ｃ ６６．１８；Ｈ ５．１８；Ｎ
３．４３ 実測値（％）：Ｃ ６６．３５；Ｈ ５．１３；Ｎ
３．３１1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．９６（３Ｈ、
ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、１．１８〜１．７３（４Ｈ、
ｍ）、３．３６（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．８Ｈｚ）、３．５
４（３Ｈ、ｓ）、４．０４（３Ｈ、ｓ）、４．５１（２
Ｈ、ｓ）、４．６１（４Ｈ、ｓ）、５．７３（２Ｈ
ｓ）、６．６２（２Ｈ、ｓ）、６．７１（２Ｈ、ｓ）、
７．０８〜７．４７（１５Ｈ、ｍ）
1＝Ｒ2＝Ｒ3＝ベンジル基、Ｒ4＝ブチル基、Ｘ1＝Ｘ2＝
Ｘ3＝Ｘ4＝塩素原子（化合物番号４６））の製造 ２−（２、６−ジクロロ−４−アミノフェニルオキシ）
−６−〔４−（Ｎ−ｎ−ブチルアミノ）−２、６−ジク
ロロフェニルオキシ〕−１、４−ジメトキシベンゼン
（化合物番号６）５３ｍｇをアセトニトリル２ｍｌに溶
解させ、臭化ベンジル２００μｌ及びトリエチルアミン
１００μｌを加え１２０℃で３時間攪拌しながら反応さ
せた。反応液を常法により後処理後、シリカゲルＴＬＣ
に付し、ベンゼン−ヘキサン（５：２）で展開し、２−
（２、６−ジクロロ−４−Ｎ、Ｎ−ジベンジルアミノフ
ェニルオキシ）−６−（２、６−ジクロロ−４−（Ｎ−
ベンジル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノフェニルオキシ）−
１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号４６）７６．
８ｍｇ（９７％）を得た。 元素分析：Ｃ45Ｈ42Ｎ2Ｏ4Ｃｌ4として 計算値（％）：Ｃ ６６．１８；Ｈ ５．１８；Ｎ
３．４３ 実測値（％）：Ｃ ６６．３５；Ｈ ５．１３；Ｎ
３．３１1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．９６（３Ｈ、
ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、１．１８〜１．７３（４Ｈ、
ｍ）、３．３６（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．８Ｈｚ）、３．５
４（３Ｈ、ｓ）、４．０４（３Ｈ、ｓ）、４．５１（２
Ｈ、ｓ）、４．６１（４Ｈ、ｓ）、５．７３（２Ｈ
ｓ）、６．６２（２Ｈ、ｓ）、６．７１（２Ｈ、ｓ）、
７．０８〜７．４７（１５Ｈ、ｍ）
【００９８】（実施例４２）一般式（Ｉ）の化合物（Ｒ
1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ2＝ベンジルオキシカルボニル
基、Ｒ4＝ブチル基、Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝塩素原子
（化合物番号４７））及び一般式（Ｉ）の化合物（Ｒ1
＝水素原子、Ｒ2＝Ｒ3＝ベンジルオキシカルボニル基、
Ｒ4＝ブチル基、Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝塩素原子（化合
物番号４８））の製造 実施例３８と同様に２−〔４−（Ｎ−ｎ−ブチルアミ
ノ）−２、６−ジクロロフェニルオキシオキシ〕−６−
（２、６−ジクロロ−４−アミノフェニルオキシ）−
１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号６）に塩化ベ
ンジルオキシカルボニルを反応させ、２−（２、６−ジ
クロロ−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノフェ
ニルオキシ）−６−（４−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ−２、
６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベ
ンゼン（化合物番号４７）及び２−（４−Ｎ−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−２、６−ジクロロフェニルオ
キシ）−６−〔２、６−ジクロロ−４−（Ｎ−ベンジル
オキシカルボニル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ）フェニルオ
キシ〕−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号４
８）を得た。
1＝Ｒ3＝水素原子、Ｒ2＝ベンジルオキシカルボニル
基、Ｒ4＝ブチル基、Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝塩素原子
（化合物番号４７））及び一般式（Ｉ）の化合物（Ｒ1
＝水素原子、Ｒ2＝Ｒ3＝ベンジルオキシカルボニル基、
Ｒ4＝ブチル基、Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝塩素原子（化合
物番号４８））の製造 実施例３８と同様に２−〔４−（Ｎ−ｎ−ブチルアミ
ノ）−２、６−ジクロロフェニルオキシオキシ〕−６−
（２、６−ジクロロ−４−アミノフェニルオキシ）−
１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号６）に塩化ベ
ンジルオキシカルボニルを反応させ、２−（２、６−ジ
クロロ−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノフェ
ニルオキシ）−６−（４−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ−２、
６−ジクロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベ
ンゼン（化合物番号４７）及び２−（４−Ｎ−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−２、６−ジクロロフェニルオ
キシ）−６−〔２、６−ジクロロ−４−（Ｎ−ベンジル
オキシカルボニル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ）フェニルオ
キシ〕−１、４−ジメトキシベンゼン（化合物番号４
８）を得た。
【００９９】化合物（化合物番号４７）： 元素分析：Ｃ32Ｈ30Ｎ2Ｏ6Ｃｌ4として 計算値（％）：Ｃ ５６．４９；Ｈ ４．４４；Ｎ
４．１２ 実測値（％）：Ｃ ５６．７５；Ｈ ４．４９；Ｎ
４．０３1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．９８（３Ｈ、
ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１．２１〜１．８１（４Ｈ、
ｍ）、３．０８（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．５
１（３Ｈ、ｓ）、４．０７（３Ｈ、ｓ）、５．２２（２
Ｈ、ｓ）、５．６６（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝３．１Ｈｚ）、
５．７３（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝３．１Ｈｚ）、６．５７（２
Ｈ、ｓ）、６．７７（２Ｈ、ｓ）、６．７７（１Ｈ、
ｓ）、７．３９（５Ｈ、ｓ）、７．５０（２Ｈ、ｓ）
４．１２ 実測値（％）：Ｃ ５６．７５；Ｈ ４．４９；Ｎ
４．０３1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０．９８（３Ｈ、
ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１．２１〜１．８１（４Ｈ、
ｍ）、３．０８（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．５
１（３Ｈ、ｓ）、４．０７（３Ｈ、ｓ）、５．２２（２
Ｈ、ｓ）、５．６６（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝３．１Ｈｚ）、
５．７３（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝３．１Ｈｚ）、６．５７（２
Ｈ、ｓ）、６．７７（２Ｈ、ｓ）、６．７７（１Ｈ、
ｓ）、７．３９（５Ｈ、ｓ）、７．５０（２Ｈ、ｓ）
【０１００】化合物（化合物番号４８）： 元素分析：Ｃ40Ｈ36Ｎ2Ｏ8Ｃｌ4として 計算値（％）：Ｃ ５８．９８；Ｈ ４．４５；Ｎ
３．４４ 実測値（％）：Ｃ ５８．８６；Ｈ ４．３７；Ｎ
３．５１1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０.９０（３Ｈ、
ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１．０９〜１．８２（４Ｈ、
ｍ）、３．４８（３Ｈ、ｓ）、３．６８（２Ｈ、ｔ、Ｊ
＝７．２Ｈｚ）、４．０２（３Ｈ、ｓ）、５．１６（２
Ｈ、ｓ）、５．２０（２Ｈ、ｓ）、５．７０（１Ｈ、
ｄ、Ｊ＝２．７Ｈｚ）、５．７３（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝２．
７Ｈｚ）、７．０５（１Ｈ、ｓ）、７．１７〜７．４４
（１２Ｈ、ｍ）、７．５２（２Ｈ、ｓ）
３．４４ 実測値（％）：Ｃ ５８．８６；Ｈ ４．３７；Ｎ
３．５１1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：０.９０（３Ｈ、
ｔ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１．０９〜１．８２（４Ｈ、
ｍ）、３．４８（３Ｈ、ｓ）、３．６８（２Ｈ、ｔ、Ｊ
＝７．２Ｈｚ）、４．０２（３Ｈ、ｓ）、５．１６（２
Ｈ、ｓ）、５．２０（２Ｈ、ｓ）、５．７０（１Ｈ、
ｄ、Ｊ＝２．７Ｈｚ）、５．７３（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝２．
７Ｈｚ）、７．０５（１Ｈ、ｓ）、７．１７〜７．４４
（１２Ｈ、ｍ）、７．５２（２Ｈ、ｓ）
【０１０１】（実施例４３）一般式（ＩＩ）の化合物
（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝臭素原子：化合物番号４９）の
製造法 ２、６−ビス−（２、６−ジブロモ−４−ニトロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン１９．８ｍｇ
をエタノール１ｍｌに懸濁させ、次いで二酸化白金０．
９ｍｇを加え水素雰囲気下攪拌しながら接触還元し、２
時間後セライトを用いてろ過し、ろ液を減圧下で濃縮し
た。以下実施例１と同様に後処理することにより、２、
６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジブロモフェニルオ
キシ）−１、４−ジメトキシベンゼン１４．６ｍｇ（７
６％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）、９０ＭＨｚ、δｐｐｍ：
３．５１（３Ｈ、ｓ）、４．１１（３Ｈ、ｓ）、５．６
８（２Ｈ、ｓ）、６．９０（４Ｈ、ｓ）
（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝臭素原子：化合物番号４９）の
製造法 ２、６−ビス−（２、６−ジブロモ−４−ニトロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン１９．８ｍｇ
をエタノール１ｍｌに懸濁させ、次いで二酸化白金０．
９ｍｇを加え水素雰囲気下攪拌しながら接触還元し、２
時間後セライトを用いてろ過し、ろ液を減圧下で濃縮し
た。以下実施例１と同様に後処理することにより、２、
６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジブロモフェニルオ
キシ）−１、４−ジメトキシベンゼン１４．６ｍｇ（７
６％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）、９０ＭＨｚ、δｐｐｍ：
３．５１（３Ｈ、ｓ）、４．１１（３Ｈ、ｓ）、５．６
８（２Ｈ、ｓ）、６．９０（４Ｈ、ｓ）
【０１０２】（実施例４４）一般式（ＩＩ）の化合物
（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝ヨード原子：化合物番号５０）
の製造法 ２、６−ビス−（２、６−ジヨード−４−ニトロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン１０．０ｍｇ
をエタノール１.０ｍｌに懸濁させ、次いで二酸化白金
１．２ｍｇを加え水素雰囲気下攪拌しながら接触還元
し、２時間後セライトを用いてろ過し、ろ液を減圧下で
濃縮した。以下実施例１と同様に後処理することによ
り、２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジヨード−
フェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合
物番号５０）３．２ｍｇ（３４％）を得た。 ＭＳ ｍ／ｚ：８５６（Ｍ+）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）、９０ＭＨｚ、δｐｐｍ：
３．５１（３Ｈ、ｓ）、４．１６（３Ｈ、ｓ）、５．６
４（２Ｈ、ｓ）、７．１７（４Ｈ、ｓ）
（Ｘ1＝Ｘ2＝Ｘ3＝Ｘ4＝ヨード原子：化合物番号５０）
の製造法 ２、６−ビス−（２、６−ジヨード−４−ニトロフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン１０．０ｍｇ
をエタノール１.０ｍｌに懸濁させ、次いで二酸化白金
１．２ｍｇを加え水素雰囲気下攪拌しながら接触還元
し、２時間後セライトを用いてろ過し、ろ液を減圧下で
濃縮した。以下実施例１と同様に後処理することによ
り、２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジヨード−
フェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン（化合
物番号５０）３．２ｍｇ（３４％）を得た。 ＭＳ ｍ／ｚ：８５６（Ｍ+）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）、９０ＭＨｚ、δｐｐｍ：
３．５１（３Ｈ、ｓ）、４．１６（３Ｈ、ｓ）、５．６
４（２Ｈ、ｓ）、７．１７（４Ｈ、ｓ）
【０１０３】（実施例４５−４７）実施例１で得られた
化合物（化合物番号１）を実施例６と同様に処理するこ
とにより、一般式（Ｉ）で表される化合物でＸが塩素原
子の以下の化合物を得た。
化合物（化合物番号１）を実施例６と同様に処理するこ
とにより、一般式（Ｉ）で表される化合物でＸが塩素原
子の以下の化合物を得た。
【０１０４】
【表６】
【０１０５】次に本発明化合物で一般式（Ｉ）または一
般式（ＩＩ）で表されるジフェノキベンゼン誘導体の抗
腫瘍作用試験及び製剤例を示す。
般式（ＩＩ）で表されるジフェノキベンゼン誘導体の抗
腫瘍作用試験及び製剤例を示す。
【０１０６】抗腫瘍作用試験：上記方法で得られたジフ
ェノキシベンゼン誘導体の抗腫瘍作用は、癌種としてマ
ウス白血病由来のＬ１２１０、マウス結腸癌由来のＣｏ
ｌｏｎ２６、ヒト結腸癌由来のＤＬＤ−１及びヒト非小
細胞肺癌由来のＡ５４９に対する細胞増殖抑制効果をイ
ン・ビトロで試験することにより確認することができ
た。
ェノキシベンゼン誘導体の抗腫瘍作用は、癌種としてマ
ウス白血病由来のＬ１２１０、マウス結腸癌由来のＣｏ
ｌｏｎ２６、ヒト結腸癌由来のＤＬＤ−１及びヒト非小
細胞肺癌由来のＡ５４９に対する細胞増殖抑制効果をイ
ン・ビトロで試験することにより確認することができ
た。
【０１０７】（試験例１） 浮遊性細胞であるマウス白
血病由来のＬ１２１０腫瘍細胞をＲＰＭＩ１６４０培養
液（１０％牛胎児血清（ＦＢＳ）、２０μＭ−２−メル
カプトエタノール及び１００μg／ｍｌカナマイシンか
らなるもの）で１０4細胞数／ｍｌとし、その２ｍｌを
培養試験管（Ｆａｌｃｏｎ Ｎｏ．２０５４）に分注
し、炭酸ガスインキュベータ（タバイ社製、モデルＬＮ
Ａ−１２２Ｄ）中、５％炭酸ガス下、３７℃で５時間イ
ンキュベートしたのち、各濃度のジフェノキシベンゼン
誘導体を添加し、さらに７２時間培養した。細胞浮遊液
を希釈後、細胞数をコールターカウンターで計測した。
血病由来のＬ１２１０腫瘍細胞をＲＰＭＩ１６４０培養
液（１０％牛胎児血清（ＦＢＳ）、２０μＭ−２−メル
カプトエタノール及び１００μg／ｍｌカナマイシンか
らなるもの）で１０4細胞数／ｍｌとし、その２ｍｌを
培養試験管（Ｆａｌｃｏｎ Ｎｏ．２０５４）に分注
し、炭酸ガスインキュベータ（タバイ社製、モデルＬＮ
Ａ−１２２Ｄ）中、５％炭酸ガス下、３７℃で５時間イ
ンキュベートしたのち、各濃度のジフェノキシベンゼン
誘導体を添加し、さらに７２時間培養した。細胞浮遊液
を希釈後、細胞数をコールターカウンターで計測した。
【０１０８】薬剤の細胞増殖抑制効果は細胞毒性はＩＣ
50（コントロール群を対照として、細胞の増殖を５０％
阻害する濃度）で示し、数値は各濃度で行ったトリプリ
ケート（ｔｒｉｐｌｉｃａｔｅ）の値より算出すること
により求めた。
50（コントロール群を対照として、細胞の増殖を５０％
阻害する濃度）で示し、数値は各濃度で行ったトリプリ
ケート（ｔｒｉｐｌｉｃａｔｅ）の値より算出すること
により求めた。
【０１０９】（試験例２）接着性細胞であるマウス結腸
癌由来のＣｏｌｏｎ２６、ヒト結腸癌由来のＤＬＤ−１
またはヒト非小細胞肺癌由来のＡ５４９の場合にはＭＥ
Ｍ培養液（１０％牛胎児血清（ＦＢＳ）及び６０μg／m
lカナマイシンからなる）で５×１０3細胞数／ｍｌと
し、その２ｍｌを培養皿（Ｃｏｓｔｅｒ Ｎｏ．３５１
２）に分注した。５％炭酸ガス下３７℃で２４時間イン
キュベートしたのち、各濃度のジフェノキシベンゼン誘
導体を添加し、さらに７２時間培養した。細胞をトリプ
シン処理し、希釈後、細胞数をコールターカウンターで
計測した。
癌由来のＣｏｌｏｎ２６、ヒト結腸癌由来のＤＬＤ−１
またはヒト非小細胞肺癌由来のＡ５４９の場合にはＭＥ
Ｍ培養液（１０％牛胎児血清（ＦＢＳ）及び６０μg／m
lカナマイシンからなる）で５×１０3細胞数／ｍｌと
し、その２ｍｌを培養皿（Ｃｏｓｔｅｒ Ｎｏ．３５１
２）に分注した。５％炭酸ガス下３７℃で２４時間イン
キュベートしたのち、各濃度のジフェノキシベンゼン誘
導体を添加し、さらに７２時間培養した。細胞をトリプ
シン処理し、希釈後、細胞数をコールターカウンターで
計測した。
【０１１０】本発明の代表的な化合物についての試験結
果は表７に示す通りであり、本発明の化合物は優れた抗
腫瘍作用を示すことがわかる。
果は表７に示す通りであり、本発明の化合物は優れた抗
腫瘍作用を示すことがわかる。
【０１１１】
【表７】
【０１１２】急性毒性試験：本発明の化合物（化合物番
号８）の急性毒性（ＬＤ50）は、マウスに経口投与して
調べた。そのＬＤ50は１０００ｍｇ／ｋｇ以上であっ
た。
号８）の急性毒性（ＬＤ50）は、マウスに経口投与して
調べた。そのＬＤ50は１０００ｍｇ／ｋｇ以上であっ
た。
【０１１３】さらに本発明は、化合物（Ｉ）または化合
物（ＩＩ）の１種またはそれ以上の化合物を含有する医
薬組成物に関するものである。本発明の化合物は、種々
の通常の投与法により、ヒトに経口または非経口的に投
与可能である。本発明の上記化合物（Ｉ）または化合物
（ＩＩ）の投与形態としては、例えば、錠剤、カプセル
剤、顆粒剤、散剤又はシロップ剤等による経口投与又は
注射剤若しくは坐剤等による非経口投与をあげることが
できる。これらの製剤は、賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑
沢剤、安定剤、きょう味きょう臭剤などの添加剤を用い
て、周知の方法で製造される。その使用量は、症状、年
令などにより異なるが、通常成人に対し、１日当たり
０．５〜１０００ｍｇを１日１回又は数回に分けて投与
することができる。
物（ＩＩ）の１種またはそれ以上の化合物を含有する医
薬組成物に関するものである。本発明の化合物は、種々
の通常の投与法により、ヒトに経口または非経口的に投
与可能である。本発明の上記化合物（Ｉ）または化合物
（ＩＩ）の投与形態としては、例えば、錠剤、カプセル
剤、顆粒剤、散剤又はシロップ剤等による経口投与又は
注射剤若しくは坐剤等による非経口投与をあげることが
できる。これらの製剤は、賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑
沢剤、安定剤、きょう味きょう臭剤などの添加剤を用い
て、周知の方法で製造される。その使用量は、症状、年
令などにより異なるが、通常成人に対し、１日当たり
０．５〜１０００ｍｇを１日１回又は数回に分けて投与
することができる。
【０１１４】（製剤例１）次の成分を含む錠剤をそれ自
体公知の方法で製造した。 化合物（化合物番号８） １００ｍｇ ラクトース ２５ｍｇ コーンスターチ ２０ｍｇ ハイドロキシプロピルメチルセルロース ４ｍｇ ステアリン酸マグネシウム １ｍｇ ＰＥＧ６０００ ２ｍｇ ──────── １５２ｍｇ
体公知の方法で製造した。 化合物（化合物番号８） １００ｍｇ ラクトース ２５ｍｇ コーンスターチ ２０ｍｇ ハイドロキシプロピルメチルセルロース ４ｍｇ ステアリン酸マグネシウム １ｍｇ ＰＥＧ６０００ ２ｍｇ ──────── １５２ｍｇ
【０１１５】
【発明の効果】本発明の新規なジフェノキシベンゼン誘
導体化合物（Ｉ）及び化合物（ＩＩ）は優れた抗腫瘍作
用を有し、本発明により抗癌剤として優れた性質を有す
る新規化合物質及びその製造法を提供できた。また一般
式（ＩＩ）で表される化合物は、一般式（Ｉ）で表され
る化合物を製造する際の中間体としても有用である。
導体化合物（Ｉ）及び化合物（ＩＩ）は優れた抗腫瘍作
用を有し、本発明により抗癌剤として優れた性質を有す
る新規化合物質及びその製造法を提供できた。また一般
式（ＩＩ）で表される化合物は、一般式（Ｉ）で表され
る化合物を製造する際の中間体としても有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 231/02 231/12 233/25 7106−4Ｈ 239/12 7106−4Ｈ 253/30 255/24 6917−4Ｈ 269/04 271/28 6917−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 209/48
Claims (8)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一または異なって水素
原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、アシル基を表し、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一
または異なって水素原子またはハロゲン原子を表す。）
で表されるジフェノキシベンゼン誘導体。 - 【請求項２】 一般式 【化２】 （式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一または異なって水素
原子またはハロゲン原子を表す。）で表される化合物に
一般式 Ｒ5−Ｙ （ＩＩＩ） （式中Ｙは脱離基を表し、Ｒ5は、アルキル基、アルケ
ニル基、アラルキル基を表す。）で表される化合物を反
応させることを特徴とする請求項１記載の化合物（一般
式（Ｉ））の製造法。 - 【請求項３】 一般式 【化３】 （式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一または異なって水素
原子またはハロゲン原子を表す。）で表される化合物に
一般式 Ｒ6−ＣＨＯ （ＩＶ） （式中、Ｒ6は、アルキル基、アルケニル基、アラルキ
ル基を表す。）で表される化合物を反応させ、次いで還
元することを特徴とする請求項１記載の化合物（一般式
（Ｉ））の製造法。 - 【請求項４】 一般式 【化４】 （式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一または異なって水素
原子またはハロゲン原子を表す。）で表される化合物に
一般式 Ｒ7−Ｚ （Ｖ） （式中Ｚは脱離基を表し、Ｒ7は、アシル基を表す。）
で表されるカルボン酸の反応性誘導体を反応させること
を特徴とする請求項１記載の化合物（一般式（Ｉ））の
製造法。 - 【請求項５】 一般式 【化５】 （式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一または異なって水素
原子またはハロゲン原子を表す。）で表される化合物を
還元することを特徴とする請求項１記載の化合物（一般
式（Ｉ））の製造法。 - 【請求項６】 一般式 【化６】 （式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｘ4は同一または異なって水素
原子またはハロゲン原子を表す。）で表されるジフェノ
キシベンゼン誘導体。 - 【請求項７】２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジ
クロロフェニルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼ
ン、 ２、６−ビス−（４−アミノフェニルオキシ）−１、４
−ジメトキシベンゼン、 ２、６−ビス−（４−アミノ−２−クロロフェニルオキ
シ）−１、４−ジメトキシベンゼン、 ２−（４−アミノ−２−クロロフェニルオキシ）−６−
（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）−
１、４−ジメトキシベンゼン、 ２−（４−アミノ−２、６−ジクロロフェニルオキシ）
−６−（４−アミノフェニルオキシ）−１、４−ジメト
キシベンゼン、 ２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジブロモフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン、 ２、６−ビス−（４−アミノ−２、６−ジヨードフェニ
ルオキシ）−１、４−ジメトキシベンゼン、から選ばれ
る請求項６記載の化合物。 - 【請求項８】 請求項１記載の化合物（一般式（Ｉ））
または請求項６または請求項７記載の化合物（一般式
（ＩＩ））を有効成分とする抗腫瘍剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-65504 | 1992-02-04 | ||
| JP6550492 | 1992-02-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05301849A true JPH05301849A (ja) | 1993-11-16 |
Family
ID=13288974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5028667A Pending JPH05301849A (ja) | 1992-02-04 | 1993-01-25 | ジフェノキシベンゼン誘導体、製造法及びその中間体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05301849A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001002466A1 (fr) * | 1999-06-30 | 2001-01-11 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Derive diaminobenzene, polyimide obtenu a partir dudit derive, et film d'orientation pour cristaux liquides |
-
1993
- 1993-01-25 JP JP5028667A patent/JPH05301849A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001002466A1 (fr) * | 1999-06-30 | 2001-01-11 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Derive diaminobenzene, polyimide obtenu a partir dudit derive, et film d'orientation pour cristaux liquides |
| US6740371B1 (en) | 1999-06-30 | 2004-05-25 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Diaminobenzene derivative, polyimide obtained therefrom, and liquid-crystal alignment film |
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