JPH05301468A - 昇華型感熱転写記録方式の被記録体 - Google Patents

昇華型感熱転写記録方式の被記録体

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JPH05301468A
JPH05301468A JP4289117A JP28911792A JPH05301468A JP H05301468 A JPH05301468 A JP H05301468A JP 4289117 A JP4289117 A JP 4289117A JP 28911792 A JP28911792 A JP 28911792A JP H05301468 A JPH05301468 A JP H05301468A
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JP
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JP4289117A
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English (en)
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Kenji Kushi
憲治 串
Takayuki Izeki
隆幸 井関
Tadayuki Fujiwara
匡之 藤原
Kazuhiko Jufuku
和彦 寿福
Terushi Ueda
昭史 上田
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Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Rayon Co Ltd
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    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/40Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 記録画像の耐光性が優れ、光による退色、変
色が極めて少ない昇華型感熱転写記録方式の被記録体。 【構成】 基材表面に、下記一般式(1)で示される化
合物の少なくとも一種を含有する樹脂組成物からなる受
像層を形成したことを特徴とする昇華型感熱転写記録方
式の被記録体。 【化1】 但し、R=炭素数1〜20のアルキル基 A=置換あるいは非置換のフェニレン基あるいはナフチ
レン基

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐光性が優れた記録画
像を形成し得る昇華型感熱転写記録方式の被記録体に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】昇華型感熱転写記録方式は、記録時の音
が静かである、装置が小型で安価である、保守が容易で
ある、出力時間が短い等の特徴を有している。さらに、
昇華型染料を使用しているため、発熱エネルギー量を連
続的に変化させることにより容易に階調度の高い記録が
できるほか、高濃度、高解像度である等の特徴を持って
いる。そのため、他の記録方式に比べ、特にフルカラー
ハードコピーを得るのに有利であり、カラープリンタ
ー、ビデオプリンター等への記録方式として多く採用さ
れている。
【0003】しかしながら、昇華型感熱転写方式により
記録される画像は昇華性染料により形成されているた
め、一般的に耐光性が不良で、日光や蛍光灯の光により
退色したり変色したりしやすいという欠点がある。この
欠点を解決する目的で被記録体の受像層に紫外線吸収剤
や光安定剤を添加することが一般に行われており、これ
によりある程度耐光性は改善されているが、十分とは言
い難い。また、特開平1−127387号公報に記載さ
れているように受像層に特定のフェノール系酸化防止剤
を添加する方法や、特開平3−19893号公報、特開
昭61−229594号公報に記載されているように受
像層に特定のリン系酸化防止剤を添加する方法等も提案
されており、若干の耐光性向上効果は認められるが、光
による退色や変色の程度は依然として大きい。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】よって、本発明の課題
は、上記従来技術の欠点を改良し、記録画像の耐光性が
優れ、光による退色、変色が極めて少ない昇華型感熱転
写記録方式の被記録体を得ることにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】かかる課題は、受像層に
一般式(1)で示される特定の構造を有する化合物を含
有させることにより解決される。即ち、本発明は、基材
表面に、下記一般式(1)で示される化合物の少なくと
も一種を含有する樹脂組成物からなる受像層を形成した
ことを特徴とする昇華型感熱転写記録方式の被記録体で
ある。
【0006】
【化2】 但し、R=炭素数1〜20のアルキル基 A=置換あるいは非置換のフェニレン基あるいはナフチ
レン基
【0007】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明の被記録体を構成する基材としては、フィルムまた
は紙が適しており、例えば、ポリエステルフィルム、ポ
リエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリス
チレンフィルム、ナイロンフィルム、塩化ビニルフィル
ム等の各種プラスチック製フィルム及びこれらに白色顔
料や充填剤を加えた白色フィルム;印刷用紙、アート
紙、コート紙等のセルロース繊維を主体とする紙;アク
リル紙、ポリプロピレン紙、ポリエステル紙などプラス
チック繊維を主体とする紙などが挙げられる。これらの
紙またはフィルムは、それ自体をそのまま使用しても良
いが、必要に応じて洗浄、エッチング、コロナ放電、活
性エネルキー線照射、染色、印刷等の前処理が施された
ものを使用しても良い。また、上記基材の2種以上を貼
り合わせたラミネート基材も使用できる。基材の厚さは
特に限定はされないが、20〜500μm程度が好まし
い。
【0008】上記基材の少なくとも一方の面に受像層が
形成されるが、受像層は転写シートから移行してくる昇
華性染料を受容して顕色する層である。この受像層を構
成する材料としては、昇華性染料に良く染まり、かつ記
録時に転写シートとブロッキングを起こさないものであ
れば特に限定されない。例えば、メチルセルロース、エ
チルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、酢酸セルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニル
アルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタ
ール、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルピ
ロリドン、スチレン等のビニル系樹脂、ポリメチル(メ
タ)アクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレート、
ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル等のアクリ
レート系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、尿素樹脂、ポ
リカプロラクトン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスル
ホン樹脂などやこれらの共重合体もしくは混合物を染着
性樹脂として使用できる。このうち、ポリエステル樹脂
は、昇華性染料に良く染まり、かつ得られる画像の保存
安定性も良好であることから、染着性樹脂の少なくとも
一成分として含有されることが好ましい。本発明の受像
層には、さらに受像層と転写シートの離型性を向上させ
る目的で、架橋性成分を含有させることが好ましい。例
えば、イソシアネートとポリオール等の熱硬化性成分を
含有させ、受像層形成後に熱架橋させたり、あるいは、
我々が、特開昭62−46689号公報や特開昭63−
67188号公報に開示したように、活性エネルギー線
で硬化し得る架橋剤、例えばアクリロイルオキシ基また
はメタクリロイルオキシ基を有するモノマーおよびオリ
ゴマーを含む樹脂組成物を基材上に塗布した後、活性エ
ネルギー線で硬化して受像層を得ることができる。特
に、活性エネルギー線で架橋し得る成分を配合し、活性
エネルギー線で硬化させて受像層を得る方法は、生産性
および得られる受像層の光沢が高く、かつ熱に対する記
録画像の保存安定性が高いのでより好ましい。上記染着
性樹脂および架橋剤の使用量は特に限定はされないが、
染着性樹脂および架橋性成分の合計100重量部に対
し、染着性樹脂を40〜95重量%、架橋性成分を60
〜5重量%含有させることが好ましい。
【0009】活性エネルギー線で硬化し得る架橋剤を含
有させた樹脂組成物は、電子線、紫外線などの活性エネ
ルギー線で硬化されるが、活性エネルギー線として紫外
線を使用する場合には、公知の光重合開始剤を含有させ
ることが望ましい。光重合開始剤の使用量は特に限定は
されないが、受像層を形成する前述の染着性樹脂および
架橋性成分の合計100重量部に対し、0.1〜10重
量部含有させることが好ましい。
【0010】本発明では、受像層に記録される画像の耐
光性を向上させる目的で、下記一般式(1)で示される
化合物の少なくとも一種を受像層に含有させる。
【0011】
【化3】 但し、R=炭素数1〜20のアルキル基 A=置換あるいは非置換のフェニレン基あるいはナフチ
レン基
【0012】上記の様な特定の構造を有する化合物を受
像層にごく少量配合することにより、記録画像の耐光性
は従来の技術からは予想されなかったほど大きく向上
し、光による退色や変色が極めて少なくなることを見い
だした。一般式(1)で示される化合物の具体例として
は、例えば次のような構造式、で示される化合物な
どが挙げられる。
【0013】
【化4】
【0014】一般式(1)で示される化合物は、単独で
も、2種以上を混合しても使用することができる。これ
らの化合物の使用量は特に限定はされないが、受像層を
形成する染着性樹脂および架橋性成分の合計100重量
部に対し、0.1〜10重量部、好ましくは0.3〜5重
量部含有させることが望ましい。使用量が少なすぎると
本発明の目的とする優れた耐光性が得られず、逆に使用
量が多すぎると、該化合物が受像層表面にブリードアウ
トしてきたり、記録画像が経時的ににじんできたりする
ことがある。
【0015】本発明では、受像層の耐光性をさらに向上
させる目的で、上記化合物に加えて、紫外線吸収剤を含
有させても良い。紫外線吸収剤としては、公知のベンゾ
トリアゾール系あるいはベンゾフェノン系等の紫外線吸
収剤が使用でき、例えばベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤の具体例としては、2−(5−メチル−2−ヒドロ
キシフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギー製:
TINUVIN P)、2−〔2−ヒドロキシ−3,5
−ビス(α,α−ジメチル−ベンジル)フェニル〕−2
H−ベンゾトリアゾール(チバガイギー製:TINUV
IN 234)、2−(5−t−ブチル−2−ヒドロキ
シフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギー製:T
INUVIN PS)、2−(3,5−ジ−t−ブチル
−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール(チバ
ガイギー製:TINUVIN 320)、2−(3−t
−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5
−クロロベンゾトリアゾール(チバガイギー製:TIN
UVIN 326)、2−(3,5−ジ−t−ブチル−
2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾ
ール(チバガイギー製:TINUVIN 327)、2
−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール(チバガイギー製:TINUV
IN 328)、2−〔2−ヒドロキシ−3−(3,4,
5,6−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5−メチ
ルフェニル〕ベンゾトリアゾール(住友化学工業製:S
UMISORB 250)、2−(4−オクトキシ−2
−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールなどが挙げ
られ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例として
は、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−
ドデシルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−
ベンジルオキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′,4,4′−
テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロ
キシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2,2′−
ジヒドロキシ−4,4′−ジオクトキシベンゾフェノ
ン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジドデシルオキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5
−スルホベンゾフェノンなどが挙げられる。これらの紫
外線吸収剤は、単独でも、2種以上を混合しても使用す
ることができる。使用量は特に限定はされないが、染着
性樹脂および架橋性成分の合計100重量部に対し、1
〜10重量部含有させることが望ましい。使用量が少な
すぎると耐光性向上効果が十分でなく、逆に多すぎる
と、該紫外線吸収剤が受像層表面にブリードアウトして
きたり、記録画像が経時的ににじんできたりすることが
ある。
【0016】また、受像層の耐光性をさらに向上させる
目的で、さらにヒンダードアミン系光安定剤を含有させ
ても良い。ヒンダードアミン系光安定剤としては公知の
ものが使用できる。具体例には、ビス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート(三共製:
SANOL LS770)、ビス(1,2,2,6,6−ペ
ンタメチル−4−ピペリジル)セバケート(三共製:S
ANOL LS765)、1−{2−〔3−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニ
ルオキシ〕エチル}−4−〔3−(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(三共製:S
ANOL LS2626)、4−ベンゾイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(三共製:SA
NOL LS744)、8−アセチル−3−ドデシル−
7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピ
ロ〔4,5〕デカン−2,4−ジオン(三共製:SANO
L LS440)、2−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロン酸ビス
(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)
(チバガイギー製:TINUVIN 144)、コハク
酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニ
ル)エステル(チバガイギー製:TINUVIN780
FF)、コハク酸ジメチルと1−(2−ヒドロキシエチ
ル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジンの重縮合物(チバガイギー製:TINUVIN
622LD)、ポリ{〔6−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4
−ジイル〕〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)イミノ〕ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕}(チバガイギ
ー製:CHIMASSORB 944LD)、N,N′
−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミンと2,
4−ビス〔N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジル)アミノ〕−6−クロロ−1,
3,5−トリアジンの重縮合物(チバガイギー製:CH
IMASSORB119FL)、HA−70G(三共
製)、アデカスタブ LA−52、アデカスタブ LA
−57、アデカスタブLA−62、アデカスタブ LA
−67、アデカスタブ LA−63、アデカスタブ L
A−68、アデカスタブ LA−82、アデカスタブ
LA−87(いずれも旭電化工業製)などが挙げられ
る。これらのヒンダードアミン系光安定剤は、単独で
も、2種以上を混合しても使用することができるが、耐
光性向上効果を考慮すると、前述の紫外線吸収剤と併用
することが好ましい。ヒンダードアミン系光安定剤の使
用量は特に限定はされないが、染着性樹脂および架橋性
成分の合計100重量部に対し、1〜10重量部含有さ
せることが望ましい。使用量が少なすぎると耐光性向上
効果が十分でなく、逆に多すぎると、該ヒンダードアミ
ン系光安定剤が受像層表面にブリードアウトしてきた
り、記録画像が経時的ににじんできたりすることがあ
る。
【0017】また、受像層の耐光性をさらに向上させる
目的で、さらに酸化防止剤を含有させても良い。酸化防
止剤としては、公知のフェノール系酸化防止剤、アミン
系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤
等が使用できる。これらの酸化防止剤は、単独でも、2
種以上を混合しても使用することができる。使用量は特
に限定はされないが、染着性樹脂および架橋性成分の合
計100重量部に対し、0.5〜20重量部含有させる
ことが望ましい。使用量が少なすぎると耐光性向上効果
が十分でなく、逆に多すぎると、該酸化防止剤が受像層
表面にブリードアウトしてきたり、記録画像が経時的に
にじんできたりすることがある。
【0018】また、本発明の受像層には、受像層と転写
シートの離型性をさらに向上させる目的で離型剤を含有
させることが好ましい。離型剤としては、シリコン系界
面活性剤、フッ素系界面活性剤、ポリオルガノシロキサ
ンを幹または枝とするグラフトポリマー、シリコン系あ
るいは含フッ素系の架橋構造をとり得る化合物、例えば
アミノ変性シリコンとエポキシ変性シリコンの組み合わ
せなどを挙げることができ、これら離型剤を単独または
併用して使用することができる。離型剤の使用量は特に
限定はされないが、染着性樹脂および架橋性成分の合計
100重量部に対し、0.01〜30重量部含有させる
ことが望ましい。さらに、上記の樹脂組成物には、使用
目的によって、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン、
酸化亜鉛などの無機充填剤を含有させても良い。
【0019】本発明の被記録体を製造するには、樹脂組
成物をそのままロールコート、バーコート、ブレードコ
ートなどのコーティング方法によって基材表面に塗工
し、受像層を形成することが可能である。しかし、塗工
作業の作業性を向上させるためには、樹脂組成物を溶解
し得る溶剤、たとえばエチルアルコール、メチルエチル
ケトン、トルエン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン等を配合して適当な塗工粘度に
調整して行った方が好ましい。これにより、スプレーコ
ート、カーテンコート、フローコート、ディップコート
などを容易に行うことができる。なお、これらの溶剤を
配合する場合には、樹脂組成物を塗布後に溶剤を揮散、
乾燥する必要がある。
【0020】受像層は、膜厚が0.5〜100μm、好
ましくは1〜50μmになるように形成することが望ま
しい。0.5μm未満では高い記録濃度が得られない。
また、本発明の被記録体は、受像層と基材との間に、易
接着層、帯電防止層、白度向上層、あるいはこれらの機
能を複合した複合層などの層を設けてもよい。さらに本
発明の被記録体は、受像層と反対の面に、帯電防止、汚
染防止、滑性付与、筆記性付与などの処理を施すことも
できる。
【0021】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明をさらに詳細に
説明する。
【0022】〔実施例1〕アート紙(厚さ85μm)の
片面に、白色ポリエステルフィルム(ダイアホイル社
製:W900、厚さ38μm)を、もう片方の面に、白
色ポリプロピレン紙(王子油化製:ユポFPG、厚さ6
0μm)をラミネートして基材を得た。接着剤は、東洋
モートン製AD−577−1とCAT−52を使用し
た。得られた基材の白色ポリエステルフィルム面に、下
記の受像層用塗布液を浸漬法により均一に塗布し、溶剤
を揮散させた後、高圧水銀灯により紫外線を照射して、
膜厚5〜6μmの受像層を形成し被記録体を得た。
【0023】 [受像層用塗布液] テレフタル酸/イソフタル酸/エチレングリコール/ネオペンチルグリコール を縮重合させたポリエステル樹脂(分子量15000〜20000、ガラス転移 温度67℃) ・・・ 20重量部 テレフタル酸/イソフタル酸/セバシン酸/エチレングリコール/ネオペンチ ルグリコール/1,4−ブタンジオールを縮重合させたポリエステル樹脂(分子 量18000〜20000、ガラス転移温度47℃) ・・・ 50重量部 カヤラッドDPHA(日本化薬製) ・・・ 15重量部 2,2−ビス(4−アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン ・・・ 15重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ・・・ 3重量部 p−アセトアミドフェノール(前記構造式で表される化合物) ・・・ 0.6重量部 2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン ・・・ 4.8重量部 ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート ・・・ 4.8重量部 下記構造式(2)で表されるシリコン系界面活性剤 ・・・ 0.5重量部
【0024】
【化5】
【0025】 メチルエチルケトン ・・・ 500重量部 トルエン ・・・ 100重量部
【0026】得られた被記録体は、松下電器製ビデオプ
リンターNV−MP1用カラーシートVW−VS100
のシアン色、マゼンタ色を用い、京セラ製サーマルヘッ
ド(950Ω、6ドット/mm)によって、記録電圧13
V、パルス幅10msecの条件で印字を行った。そして、
記録画像をキセノンロングライフフェードメーター(ス
ガ試験機製:FAL−25AX型)を用いて72時間暴
露し、暴露前後の色差(ΔE)を測定した。結果を表1
に示す。
【0027】〔実施例2〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールの使用量を1.3重量部にした以外は
実施例1と同様にして被記録体を得た。得られた被記録
体は、実施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表
1に示す。
【0028】〔実施例3〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールの使用量を2.0重量部にした以外は
実施例1と同様にして被記録体を得た。得られた被記録
体は、実施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表
1に示す。
【0029】〔実施例4〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールの使用量を4.0重量部にし、かつ溶
剤としてテトラヒドロフラン600重量部を用いた以外
は実施例1と同様にして被記録体を得た。得られた被記
録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を
表1に示す。
【0030】〔実施例5〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールに代えて、o−アセトアミドフェノー
ル(前記構造式で表される化合物)1.0重量部を用
いた以外は実施例1と同様にして被記録体を得た。得ら
れた被記録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定し
た。結果を表1に示す。
【0031】〔実施例6〕実施例1で使用した基材の白
色ポリエステルフィルム面に、下記の受像層用塗布液を
浸漬法により均一に塗布し、溶剤を揮散させた後、10
0℃で2時間加熱して、膜厚5〜6μmの受像層を形成
して被記録体を得た。
【0032】 [受像層用塗布液] テレフタル酸/イソフタル酸/エチレングリコール/ネオペンチルグリコール を縮重合させたポリエステル樹脂(分子量15000〜20000、ガラス転移 温度67℃) ・・・ 24重量部 テレフタル酸/イソフタル酸/セバシン酸/エチレングリコール/ネオペンチ ルグリコール/1,4−ブタンジオールを縮重合させたポリエステル樹脂(分子 量18000〜20000、ガラス転移温度47℃) ・・・ 60重量部 アミノ変性シリコーンオイル(信越シリコーン製:KF−393) ・・・ 8重量部 エポキシ変性シリコーンオイル(信越シリコーン製:X−22−343) ・・・ 8重量部 p−アセトアミドフェノール(前記構造式で表される化合物) ・・・ 2.6重量部 メチルエチルケトン ・・・ 300重量部 トルエン ・・・ 300重量部
【0033】得られた被記録体は、実施例1と同様にし
てΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0034】〔実施例7〕実施例6におけるp−アセト
アミドフェノールに代えて、o−アセトアミドフェノー
ル(前記構造式で表される化合物)2.6重量部を用
いた以外は実施例6と同様にして被記録体を得た。得ら
れた被記録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定し
た。結果を表1に示す。
【0035】〔比較例1〕実施例1において、p−アセ
トアミドフェノールを用いなかった以外は実施例1と同
様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、実施例
1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0036】〔比較例2〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールに代えて、下記構造式(3)で表され
る酸化防止剤(旭電化工業製:アデカスタブAO−7
5)2.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして
被記録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様
にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0037】
【化6】
【0038】〔比較例3〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールに代えて、下記構造式(4)で表され
る酸化防止剤(住友化学工業製:スミライザーBP−1
01)2.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にし
て被記録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同
様にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0039】
【化7】
【0040】〔比較例4〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールに代えて、下記構造式(5)で表され
る酸化防止剤(住友化学工業製:スミライザーTNP)
2.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして被記
録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様にし
てΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0041】
【化8】
【0042】〔比較例5〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールに代えて、下記構造式(6)で表され
る酸化防止剤(住友化学工業製:スミライザーTPP−
R)2.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして
被記録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様
にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0043】
【化9】
【0044】〔比較例6〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールに代えて、下記構造式(7)で表され
る酸化防止剤(住友化学工業製:スミライザーP−1
6)2.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして
被記録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様
にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0045】
【化10】
【0046】〔比較例7〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールに代えて、下記構造式(8)で表され
る酸化防止剤(堺化学工業製:Chelex−PC)
2.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして被記
録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様にし
てΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0047】
【化11】
【0048】〔比較例8〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールに代えて、下記構造式(9)で表され
る酸化防止剤(旭電化工業製:アデカスタブPEP−4
C)2.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして
被記録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様
にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0049】
【化12】
【0050】〔比較例9〕実施例1におけるp−アセト
アミドフェノールに代えて、下記構造式(10)で表さ
れる酸化防止剤(旭電化工業製:アデカスタブ301
0)2.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして
被記録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様
にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0051】
【化13】
【0052】〔比較例10〕実施例1におけるp−アセ
トアミドフェノールに代えて、下記構造式(11)で表
される化合物(アセトアニリド)1.0重量部を用いた
以外は実施例1と同様にして被記録体を得た。得られた
被記録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定した。結
果を表1に示す。
【0053】
【化14】
【0054】〔比較例11〕実施例1におけるp−アセ
トアミドフェノールに代えて、下記構造式(12)で表
される化合物(N−カルバミル−m−アミノフェノー
ル)1.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして
被記録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様
にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0055】
【化15】
【0056】〔比較例12〕実施例1におけるp−アセ
トアミドフェノールに代えて、下記構造式(13)で表
される化合物(p−ヒドロキシ安息香酸−n−ブチルエ
ステル)1.0重量部を用いた以外は実施例1と同様に
して被記録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と
同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0057】
【化16】
【0058】
【表1】
【0059】表1から明らかな通り、シアン色のカラー
シート及びマゼンダ色のカラーシートにおいて、実施例
1〜7の被記録体の色差(ΔE)は比較例1〜12の被
記録体に比べて、格段に小さいことがわかる。従って、
実施例1〜7の被記録体は、耐光性が優れているもので
あり、この被記録体に記録された画像は、光による退
色、変色が極めて少なく、ビデオプリンターなどの普及
に大きく寄与するものである。
【0060】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
受像層に特定の構造を有する化合物を含有させることに
より、耐光性が優れた昇華型感熱転写記録方式の被記録
体を得ることができる。この被記録体に記録された画像
は、光による退色、変色が極めて少なく、ビデオプリン
ターなどの普及に大きく寄与するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 寿福 和彦 広島県大竹市御幸町20番1号 三菱レイヨ ン株式会社中央研究所内 (72)発明者 上田 昭史 広島県大竹市御幸町20番1号 三菱レイヨ ン株式会社中央研究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材表面に、下記一般式(1)で示され
    る化合物の少なくとも一種を含有する樹脂組成物からな
    る受像層を形成したことを特徴とする昇華型感熱転写記
    録方式の被記録体。 【化1】 但し、R=炭素数1〜20のアルキル基 A=置換あるいは非置換のフェニレン基あるいはナフチ
    レン基
JP4289117A 1992-02-25 1992-10-27 昇華型感熱転写記録方式の被記録体 Withdrawn JPH05301468A (ja)

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DE69305388T DE69305388T2 (de) 1992-02-25 1993-02-25 Aufzeichnungsmedium und Verfahren für Sublimationsübertragungsaufzeichung durch Wärme
EP19930102956 EP0557989B1 (en) 1992-02-25 1993-02-25 Recording medium for sublimation type heat-sensitive transfer recording process
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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