JPH0529195A - 縮小投影型露光装置 - Google Patents

縮小投影型露光装置

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Publication number
JPH0529195A
JPH0529195A JP3182791A JP18279191A JPH0529195A JP H0529195 A JPH0529195 A JP H0529195A JP 3182791 A JP3182791 A JP 3182791A JP 18279191 A JP18279191 A JP 18279191A JP H0529195 A JPH0529195 A JP H0529195A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
amount
projection type
exposure apparatus
rotating
type exposure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3182791A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Hayashi
雄二 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Kyushu Ltd filed Critical NEC Kyushu Ltd
Priority to JP3182791A priority Critical patent/JPH0529195A/ja
Publication of JPH0529195A publication Critical patent/JPH0529195A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】縮小投影型露光装置において、予め露光された
集積回路パターンの1つの露光ショットの回転ずれ量を
検出することによって、残留ずれ量として除去出来なか
った回転ずれ量(チップローテーション量)を補正す
る。 【構成】ウェハー2を吸着し、検出された露光ショット
7のチップローテーション量を補正する回転テーブル
1、及び回転テーブル1を回転させる為のθ回転モータ
5とθ回転ギア4を持ち、θ回転ギア4は、従動ギア3
を回転させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はウェハー上に集積回路の
微細パターンを露光する縮小型投影型露光装置(ステッ
パー)に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の、この種のステッパーは、目合せ
露光時に集積回路パターン全体のX,Y,θ方向の位置
ずれ検出及び位置補正は可能であり、ウェハーを吸着し
回転させる為の回転テーブルも有しているが、1つの露
光領域(露光ショット)の回転ずれ量(チップローテー
ション)を補正する目的には使用されていなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のステッ
パーは、チップローテーションを補正する目的で回転テ
ーブルを使用していないので、集積回路パターンの目合
せ露光時に、残留目ずれ量としてチップローテーション
ずれが存在するという欠点がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明のステッパーは、
予め露光された集積回路パターンの1つの露光ショット
のチップローテーションを検出し、このチップローテー
ションを補正する為の回転テーブルと、その駆動用モー
タを有している。
【0005】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の一実施例を示す図で、同図(a)は
平面図、同図(b)は縦断面図である。図1(a)にお
いて、ウェハー2は回転テーブル1上に真空吸着されて
いる。この状態で、ウェハー2のX,Y及び回転方向の
位置決めを実施する。しかし、この位置決めではチップ
ローテーション量が補正されないので、任意のウェハー
内の露光ショット7について、図2の説明図に示すよう
に、チップローテーションがのった露光ショット8と、
理想的な位置にある露光ショット9との間のずれ量
1 ,X2 ,Y1 ,Y2 を計測する。このずれ量は、レ
チクル上のアライメントマークと、前工程でチップ上に
作り込まれたアライメントマークとの差を計測して得ら
れる。この量がわかることにより、チップローテーショ
ン量(ラジアン)は{(X1 −X2 )/Sy +(Y1
2 )/Sx }/2で計算できる。なお、0点は装置が
認識している原点である。
【0006】そこで、図1(b)に示すように、パルス
モータ等のθ回転モータ5により、θ回転ギア4を回転
させ、回転テーブル1についている従動ギア3を、上記
のチップローテーション量に対応する量だけ軸受け6ま
わりに回転させる。ここで、回転テーブル1を固定し、
再度、ウェハー内の各ショット位置を検出すれば、チッ
プローテーション及びX,Y方向のずれが、全て補正可
能である。
【0007】また、図3はウェハー内の任意の点(x
i,yi)が任意の角度(θ)だけ原点0を中心に回転
した場合のX,Y方向のずれ量を図示したものである。
図3に示す様に、チップローテーション量を補正する際
に、ウェハー内の各点がどれだけずれたかが計算により
算出されるので、チップローテーション補正後のX,Y
方向の位置検出は必ずしも実行する必要はない。
【0008】図3でのずれ補正量はX=x・(Lx −x
i)/xi,Y=y・yi/Ly となる。なお、この式
は、各ショット内のx,y座標の点(xi,yi)を、
ウェハー内のX,Y座標に変換する式である。以上述べ
たように、本発明は、チップローテーション補正機能と
して、ウェハーを回転させる方式をとるステッパーには
全て適用可能であり、かつ露光ショットの歪以外のずれ
量は全て補正可能になる。
【0009】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ウェハー
を吸着したテーブルを所定の量(チップローテーション
の量)だけ回転させることにより、これまで残留誤差と
して除去できなかったチップローテーションずれ量を補
正できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す図で、同図(a)は平
面図、同図(b)は縦断面図である。
【図2】露光ショットにチップローテーションがのった
状態の説明図である。
【図3】ウェハー内の各点のずれ量を算出する説明図で
ある。
【符号の説明】
1 回転テーブル 2 ウェハー 3 従動ギア 4 θ回転ギア 5 θ回転モータ 6 軸受け 7 露光ショット 8 チップローテーションがのった露光ショット 9 理想的な位置にある露光ショット

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 半導体基板に集積回路パターンを繰返し
    露光し、露光された前記集積回路パターンの位置検出及
    び補正を行う縮小投影型露光装置において、予め露光さ
    れた集積回路パターンの1つの露光領域の回転ずれ量を
    検出し、この回転ずれ量を補正する為の回転テーブル
    と、この回転テーブルを駆動する為のモータを有するこ
    とを特徴とする縮小投影型露光装置。
JP3182791A 1991-07-24 1991-07-24 縮小投影型露光装置 Pending JPH0529195A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3182791A JPH0529195A (ja) 1991-07-24 1991-07-24 縮小投影型露光装置

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JP3182791A JPH0529195A (ja) 1991-07-24 1991-07-24 縮小投影型露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0529195A true JPH0529195A (ja) 1993-02-05

Family

ID=16124489

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3182791A Pending JPH0529195A (ja) 1991-07-24 1991-07-24 縮小投影型露光装置

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JP (1) JPH0529195A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6041145A (en) * 1995-11-02 2000-03-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Device and method for smoothing picture signal, device and method for encoding picture and device and method for decoding picture
US8895680B2 (en) 2004-08-09 2014-11-25 Kuraray Noritake Dental Inc. Redox curing-type nonaqueous curable composition

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6041145A (en) * 1995-11-02 2000-03-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Device and method for smoothing picture signal, device and method for encoding picture and device and method for decoding picture
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