JPH05291221A

JPH05291221A - 洗浄方法

Info

Publication number: JPH05291221A
Application number: JP9508692A
Authority: JP
Inventors: Naohiko Fujino; 直彦藤野
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1992-04-15
Filing date: 1992-04-15
Publication date: 1993-11-05
Anticipated expiration: 2015-03-06
Also published as: JP3016301B2

Abstract

(57)【要約】【目的】０．１μｍ以下の汚染粒子の除去や、有機物
からなる分子状汚染ならびに炭酸からなる汚染の完全な
除去を行い得る優れた洗浄方法を提供する。【構成】オゾンを溶解した液体６に被洗浄ウェハ２を
浸漬し、この浸漬した被洗浄ウェハ２表面に紫外光を照
射して洗浄する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は洗浄方法、特に有機質
の汚れを持つ基板の洗浄方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ＬＳＩの製造は約１００工程を約１カ月
前後の日時を要して行う。この様な長い工期の間には、
工程間の搬送や放置、あるいは作業者の介在により半製
品は各種の汚染を受ける。これらの汚染を最小化するこ
とによってデバイスの製造歩留まりは向上し、プロセス
の信頼性、再現性を著しく改善できる。そのためプロセ
スの各工程前に洗浄を行い、表面の汚染物を除去するこ
とは従来より重要な課題であった。例えば、４Ｍビット
のＤＲＡＭの設計には０．８μｍ、１６Ｍビットでは
０．５μｍの配線技術が必要であり、この様な微細加工
を可能にするには、それぞれ０．０５μｍ、０．０３μ
ｍ程度の汚染粒子ならびに原子、分子状汚染（ケミカル
コンタミネーション）の制御が必要である。そのため従
来は当初の目的を達成するためＲＣＡ洗浄とＩＰＡ気相
乾燥を併用した洗浄に代表される溶剤によるウェットの
洗浄で汚染粒子ならびに原子状汚染物の除去を行った
り、紫外光照射とオゾンを併用した洗浄に代表されるド
ライの洗浄で分子状汚染の除去を行ったりしていた。

【０００３】ところが、従来のウェットの洗浄やドライ
の洗浄方法・装置では、０．１μｍ以下の汚染粒子の完
全な除去は十分ではなく、また有機物からなる分子状汚
染の除去も満足なものとは言い難く、結果として十分な
デバイスの製造歩留まりが得られないという問題が生じ
ている。これに対する原因としては、以下のことが挙げ
られるウェットの洗浄については、一度表面から離れた
粒子による再汚染が微粒子になるほど多く、０．３μｍ
以下で顕在化する傾向にある。これら粒子の減少には洗
浄液中への界面活性剤の添加が有効であるものの、最終
的に被洗浄基板表面には界面活性剤が残り、これが新た
な有機物の分子状汚染となり、必ずしも最適な洗浄には
ならない。また、紫外光照射とオゾンを併用したドライ
の洗浄については、ある程度の有機物の洗浄効果は認め
られるものの、無機物の汚染については殆ど効果を持た
ず、また有機物の酸化で発生する炭酸の除去については
限界を有する。また今後、開発される６４ＭビットのＤ
ＲＡＭでの洗浄に課せられる条件は、より厳しい物にな
っていくと考えられ、現在、優れた洗浄方法ならびに洗
浄装置の開発が望まれている。前記、従来の技術（洗
浄）については、例えば「小嶋、第２５回応用スペクト
ルメトリー、ｐ１９１〜１９６(１９９０)」、「化学総
説、Ｎo.４４、表面の改質、日本化学会編、ｐ１４７〜
１５５（１９８４）」、「土橋、精密工学会誌、５４、
１０、ｐ１８４０〜１８４４(１９８８)」、「センエン
ジニアリング(株)カタログ紫外線利用技術」等に詳細に
記載されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】この様に、従来の洗浄
方法では０．１μｍ以下の汚染粒子の完全な除去や、ま
た無機物の汚染、有機物からなる分子状汚染の完全な除
去が困難であるため、結果として、十分なデバイスの製
造歩留まりを与えることができないという問題点があっ
た。

【０００５】この発明は、かかる従来の問題点を解決す
るためになされたもので、特に０．１μｍ以下の汚染粒
子の除去や、有機物からなる分子状汚染ならびに炭酸か
らなる汚染の完全な除去を行い得る優れた洗浄方法を提
供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この発明の洗浄方法は、
オゾンを溶解した液体、またはオゾンガスをバブリング
させた液体中に被洗浄物を浸漬し、この浸漬した被洗浄
物表面に紫外光を照射して洗浄するようにしたものであ
る。

【０００７】

【作用】この発明において、被洗浄物表面はオゾンを溶
解した液体もしくはバブリングされたオゾンガス（バブ
リングされたオゾンガスの表面は薄い液体層を持つ）に
覆われているためオゾン分子及び液体により濡れた状態
にある。この様な状態の被洗浄物表面に紫外光を照射す
ると、被洗浄物表面でオゾン分子は紫外光を吸収し、光
分解が起こると同時に活性な酸素原子を生成する。ま
た、被洗浄物表面の有機物からなる分子状汚染も紫外光
を吸収し活性化する。この様な環境下では、活性な酸素
原子の何割かは直ちに被洗浄物表面の活性化した有機物
からなる分子状汚染と反応して酸化物を生成する。そし
て、生成した酸化物の多くは直ちに被洗浄物表面の液体
中に溶解した後、溶液全体に拡散していく。また、残り
の活性な酸素原子の何割かは直ちに水分子と反応し、ヒ
ドロキシルラジカル（・ＯＨ）を生成し、これが被洗浄
物表面の無機物の汚染と反応して水酸化物を生成する。
そして、生成した水酸化物の多くは直ちに被洗浄物表面
の液体中に溶解した後、溶液全体に拡散していく。その
結果として、被洗浄物表面から有機物である分子状汚染
物及び無機物の汚染物は完全に除去される。また、前記
説明したように、この発明においては、有機物である分
子状汚染物及び無機物の汚染物双方を同時に酸化物化、
あるいは水酸化物化し溶液中に溶解拡散するため、有機
物と無機物の混合物からなる微粒子の分解除去にも効果
を持つ。そのため、従来、除去が困難であった０．１μ
ｍ以下の微粒子除去にも効果を持ち、その除去効果は微
粒子化が進むほど効果的である。

【０００８】

【実施例】

実施例１．図１はこの発明の実施例１に係わる洗浄装置
の構成図である。図において、１は洗浄槽で、この洗浄
槽１の中には被洗浄物２の被洗浄面に紫外光がよく当た
るように取り付けた（被洗浄面とほぼ９０ｄｅｇの角度
に取り付けた）紫外光発生源である低圧水銀灯３（この
場合はサンエンジニアリング製低圧水銀灯ＵＶＬ−４
０、消費電力４０Ｗを用いた）、及び洗浄に用いるオゾ
ンを溶解した液体６が納まっている。オゾンを溶解した
液体６はオゾンガス発生機８内（この場合は無声放電式
オゾンガス発生機を用いた）で作られたオゾンガス５と
液体貯蔵タンク７内の液体４をオゾン溶解装置９内に送
り込むことにより液中に溶解させたものである。なお、
液体４はオゾンを溶解できる液体であれば、基本的には
いかなる物質であっても良い。１０は洗浄槽１の中にオ
ゾンを溶解した液体６を送り込む挿入ポンプである。な
お、この場合は被洗浄物２の被洗浄面に対して液体６の
流速が１０cm/minの速度になるようにした。１２は洗浄
後にオーバーフローした廃液１１を溜める廃液槽であ
る。廃液１１は排出口１３を通って排出される。

【０００９】図１に示されるように被洗浄物２は洗浄槽
１の中でオゾンを溶解した液体中に浸漬される。なお、
オゾンを溶解した液体６は挿入ポンプ１０を通して順次
供給されるため、洗浄槽１内を一定速度で流れている。
そして、洗浄槽１からあふれたオゾンを溶解した液体６
は順次廃液１１として廃液槽１２に送られる。このよう
な状態で低圧水銀灯３に通電を行うことにより、紫外光
を被洗浄物２表面に照射することができる。このとき被
洗浄物２表面では、オゾン分子が紫外光を吸収し光分解
を起こすと同時に活性な酸素原子を生成させる。また、
被洗浄物２表面の有機物からなる分子状汚染も紫外光を
吸収し活性化する。この様な環境下では、活性な酸素原
子の何割かは直ちに被洗浄物２表面の活性化した有機物
からなる分子状汚染と反応して酸化物を生成する。そし
て、生成した酸化物の多くは直ちに被洗浄物２表面のオ
ゾンを溶解した液体６中に溶解した後、オゾンを溶解し
た液体６全体に拡散していく。また、残りの活性な酸素
原子の何割かは直ちにオゾンを溶解した液体６中に存在
する水分子と反応しヒドロキシルラジカル（・ＯＨ）を
生成し、これが被洗浄物２表面の無機物の汚染と反応し
て水酸化物を生成する。そして、生成した水酸化物の多
くは直ちに被洗浄物２表面のオゾンを溶解した液体６に
溶解した後、全体に拡散していく。そして、この様な酸
化物及び水酸化物を多く含むオゾンを溶解した液体６は
洗浄槽１からあふれ、順次、廃液１１として廃液槽１２
に送られる。そのため、洗浄槽１内のオゾンを溶解した
液体６は常に清浄でかつ安定したオゾン濃度の液体に保
たれ、良好な洗浄効果が持続できる。その結果として、
被洗浄物２表面から有機物である分子状汚染物及び無機
物の汚染物が完全に除去される。

【００１０】実施例ｉ信越シリコン社製６インチシリコンウェハを封切り後、
ウェハ表面の汚染を目的に重量濃度１．０％のオレイン
酸カルシウム水溶液に５分間浸漬した後、５分間水洗
し、その後乾燥して被洗浄物（被洗浄ウェハ）を形成し
た。この被洗浄ウェハを、図１に示す装置を用い、オゾ
ンを溶解させる液体として超純水を用い、上記被洗浄ウ
ェハ表面に紫外光を照射しながら１０分間浸漬し洗浄し
た。その後、洗浄槽から洗浄ウェハを取り出し乾燥さ
せ、汚染物を全反射蛍光Ｘ線及び微粒子測定装置で計測
することにより洗浄能力評価を行った。その結果を表１
に示す。

【００１１】洗浄能力評価はテクノス社製全反射蛍光Ｘ
線ＴＲＥＸによる洗浄ウェハ中心部でのカルシウム(Ｃ
ａ)原子及びニッケル(Ｎｉ)原子の単位面積当たりの原
子密度測定、及び日立電子エンジニアリング製表面検査
装置ＬＳ６０００による洗浄ウェハ全面（ただし、装置
性能の関係上、ウェハ端から５mm以内の部分は除く）で
の０．１μｍ以上の微粒子測定で行った。

【００１２】なお、上記全反射蛍光Ｘ線によるカルシウ
ム、ニッケルの単位面積当たりの原子密度測定について
は、例えば松下嘉明ら、ＮＩＫＫＥＩＭＩＣＲＯＤＥ
ＶＩＣＥＳ１０月号ｐ９９〜１０６(１９９０)等に
詳細に記載されている。また、表面検査装置による微粒
子測定については日立電子エンジニアリング製表面検査
装置ＬＳ６０００取扱い説明書に詳細に記載されてい
る。

【００１３】実施例ii 上記被洗浄ウェハを、図１に示す装置を使用し、オゾン
を溶解させる液体としてイソプロピルアルコールを用
い、被洗浄ウェハ表面に紫外光を照射しながら１０分間
浸漬し洗浄した。その後、洗浄槽から洗浄ウェハを取り
出し乾燥させ、上記実施例ｉと同様にして洗浄能力評価
を行った。その結果を表１に示す。

【００１４】実施例iii 上記被洗浄ウェハを、図１に示す装置を使用し、オゾン
を溶解させる液体としてトリフルオロトリクロロエタン
を用い、被洗浄ウェハ表面に紫外光を照射しながら１０
分間浸漬し洗浄した。その後、洗浄槽から洗浄ウェハを
取り出し乾燥させ、上記実施例ｉと同様にして洗浄能力
評価を行った。その結果を表１に示す。

【００１５】実施例２．図２はこの発明の実施例２に係
わる洗浄装置の構成図である。上記実施例１の装置では
オゾンを溶解した液体６により被洗浄物２表面にオゾン
を供給したが、ここで示す実施例２の装置では、オゾン
を溶解した液体６の代わりにオゾンガス発生機８内で作
られたオゾンガスを含んだ液体１４を用いるものであ
る。即ち、オゾンガス発生機８内で作られたオゾンガス
を液体中に送り込みバブリングさせている。この場合は
被洗浄物２の被洗浄面に対して液体６の流速が１０cm/m
inの速度になるようにした。オゾンガスを含んだ液体１
４は、液体貯蔵タンク７から挿入ポンプ１０を介して洗
浄槽１内に挿入された液体４と多孔質のオゾンガス放出
口１５から小さな泡の状態で放出されるオゾンガス５と
混合することで得られる。なお、このときのオゾンガス
５の濃度は流量バルブ１６で調整される。今回の検討で
は５００cc/min一定供給で行った。この時、被洗浄物２
の被洗浄面はオゾンガス５が直にかつよどむことなく接
するように、重力加速度の働く方向（オゾンガスが自然
に流れる方向）に対して４５ｄｅｇの角度で設置した。
なお、図２中の各符号において、図１で示した各符号と
同一の符号は同じ意味で用いている。

【００１６】図２に示されるように被洗浄物２は洗浄槽
１の中でオゾンガスを含んだ液体１４中に浸漬される。
このとき、オゾンガスを含んだ液体１４中において、オ
ゾンガス５は液体４に一部溶解しながら、その大部分を
ガスの状態で液体４中を上昇し、被洗浄物２表面に達す
る。また、オゾンガスを含んだ液体１４は挿入ポンプ１
０を通して液体４が順次供給されるため、洗浄槽１内を
一定速度で流れている。そして、洗浄槽１をあふれたオ
ゾンガスを含んだ液体１４は順次廃液１１として廃液槽
１２に送られる。この様な状態で低圧水銀灯３に通電を
行うことで、紫外光を被洗浄物２表面に照射することが
できる。このとき、被洗浄物２表面では、オゾンガス分
子が紫外光を吸収し光分解を起こすと同時に活性な酸素
原子を生成させる。また、被洗浄物２表面の有機物から
なる分子状汚染も紫外光を吸収し活性化する。この様な
環境下では、活性な酸素原子の何割かは直ちに被洗浄物
２表面の活性化した有機物からなる分子状汚染と反応し
て酸化物を生成する。そして、生成した酸化物の多くは
直ちに被洗浄物２表面のオゾンガスを含んだ液体１４中
に溶解した後、オゾンガスを含んだ液体１４中全体に拡
散していく。また、残りの活性な酸素原子の何割かは直
ちにオゾンガスを含んだ液体１４中に存在する水分子と
反応しヒドロキシルラジカル（・ＯＨ）を生成し、これ
が被洗浄物２表面の無機物の汚染と反応して水酸化物を
生成する。そして、生成した水酸化物の多くは直ちに被
洗浄物２表面のオゾンガスを含んだ液体１４に溶解した
後、全体に拡散していく。そして、この様な酸化物及び
水酸化物を多く含むオゾンガスを含んだ液体１４は洗浄
槽１からあふれ、順次、廃液１１として廃液槽１２に送
られる。そのため、洗浄槽１内のオゾンガスを含んだ液
体１４は常に清浄でかつ安定したオゾン濃度の液体に保
たれ、良好な洗浄効果が持続できる。その結果として、
被洗浄物２表面から有機物である分子状汚染物及び無機
物の汚染物が完全に除去される。

【００１７】なお、この実施例２を適用する場合におい
ては、オゾンガスを含んだ液体１４中の小さな泡が発泡
する際に発生する超音波が洗浄効果を高めるという利点
がある。また、実施例１に用いたような高価なオゾン溶
解装置９を必要としないという利点もある。

【００１８】実施例iv 上記被洗浄ウェハを、図２に示す装置を使用し、オゾン
ガスを含ませる液体として超純水を用い、被洗浄ウェハ
表面に紫外光を照射しながら１０分間浸漬し洗浄した。
その後、洗浄槽から洗浄ウェハを取り出し乾燥させ、上
記実施例ｉと同様にして洗浄能力評価を行った。その結
果を表１に示す。

【００１９】実施例ｖ上記被洗浄ウェハを、図２に示す装置を使用し、オゾン
ガスを含ませる液体としてイソプロピルアルコールを用
い、被洗浄ウェハ表面に紫外光を照射しながら１０分間
浸漬し洗浄した。その後、洗浄槽から洗浄ウェハを取り
出し乾燥させ、上記実施例ｉと同様にして洗浄能力評価
を行った。その結果を表１に示す。

【００２０】実施例vi 上記被洗浄ウェハを、図２に示す装置を使用し、オゾン
ガスを含ませる液体としてトリフルオロトリクロロエタ
ンを用い、被洗浄物のウェハ表面に紫外光を照射しなが
ら１０分間浸漬し洗浄した。その後、洗浄槽から洗浄ウ
ェハを取り出し乾燥させ、上記実施例ｉと同様にして洗
浄能力評価を行った。その結果を表１に示す。

【００２１】実施例３．図３はこの発明の実施例３に係
わる洗浄装置の構成図である。この装置は上記実施例１
と２の持つ効果を組み合わせたものである。なお、図３
中の各符号において、図１、図２で示した各符号と同一
の符号は同じ意味で用いている。

【００２２】実施例vii 上記被洗浄ウェハを、図３に示す装置を使用し、オゾン
を溶解させる液体として超純水を用い、被洗浄ウェハ表
面に紫外光を照射しながら１０分間浸漬し洗浄した。そ
の後、洗浄槽から洗浄ウェハを取り出し乾燥させ、上記
実施例ｉと同様にして洗浄能力評価を行った。その結果
を表１に示す。

【００２３】実施例４．図４はこの発明の実施例３に係
わる洗浄装置の構成図である。１８は洗浄槽１内の圧力
を高めるために接続されたコンプレッサーであり、レギ
ュレータ１９を介して洗浄槽１を収めた密閉容器２０に
接続されている。１７は密閉容器２０内の圧力調整を行
うための圧力弁である。なお、図４中の各符号におい
て、図１、図２及び図３で示した各符号と同一の符号は
同じ意味で用いている。

【００２４】この発明の洗浄方法は基本的に被洗浄物２
表面にオゾンを供給することを必要条件としている。ま
た、その時得られる洗浄効果は被洗浄物２表面に発生す
る酸素原子の濃度に大きく依存するため、そのもととな
るオゾンの分子濃度が高いほど高い洗浄効果が得られ
る。図４に示す実施例４の装置では洗浄槽１内の圧力を
高めることにより、オゾンを溶解した液体６のオゾンの
分子濃度及びオゾンガスを含んだ液体１４中のオゾンガ
ス５の分子濃度を高めることができるので、洗浄効果が
より向上する。

【００２５】実施例viii 上記被洗浄ウェハを、図４に示す装置を使用し、オゾン
を溶解させる液体として超純水を用い、被洗浄ウェハ表
面に紫外光を照射しながら１０分間浸漬し洗浄した。そ
の後、洗浄槽から洗浄ウェハを取り出し乾燥させ、上記
実施例ｉと同様にして洗浄能力評価を行った。その結果
を表１に示す。

【００２６】

【表１】

【００２７】比較例ｉ封切り後そのままのウェハを比較例ｉの試料として、上
記実施例ｉと同様にして汚染物を全反射蛍光Ｘ線及び微
粒子測定装置で計測した。その結果を表２に示す。

【００２８】比較例ii 図１に示す装置を使用し、オゾンを溶解させる液体を用
いず、上記被洗浄ウェハ表面に紫外光を１０分間照射し
た。その後、上記実施例ｉと同様にして洗浄能力評価を
行った。その結果を表２に示す。

【００２９】比較例iii 図１に示す装置を使用し、オゾンを溶解させる液体とし
て超純水を用い、紫外光を照射せずに上記被洗浄ウェハ
を１０分間浸漬し洗浄した。その後、洗浄槽から洗浄ウ
ェハを取り出し乾燥させ、上記実施例ｉと同様にして洗
浄能力評価を行った。その結果を表２に示す。

【００３０】比較例iv 図２に示す装置を使用し、オゾンを溶解させる液体を用
いず、上記被洗浄ウェハ表面に１０分間紫外光を照射し
た。その後、上記実施例ｉと同様にして洗浄能力評価を
行った。その結果を表２に示す。

【００３１】比較例ｖ図２に示す装置を使用し、超純水を用い、上記被洗浄ウ
ェハ表面に紫外光を照射せずにウェハを１０分間浸漬し
洗浄した。その後、洗浄槽から洗浄ウェハを取り出し乾
燥させ、上記実施例ｉと同様にして洗浄能力評価を行っ
た。その結果を表２に示す。

【００３２】比較例vi 図２に示す装置を使用し、超純水を用い、オゾンガスを
流さずに上記被洗浄ウェハを１０分間浸漬し洗浄した。
その後、洗浄槽から洗浄ウェハを取り出し乾燥させ、上
記実施例ｉと同様にして洗浄能力評価を行った。その結
果を表２に示す。

【００３３】比較例vii 従来のＲＣＡ洗浄とＩＰＡ気相乾燥を併用した洗浄を用
いて封切り後そのままのウェハを洗浄し比較例vii の試
料とし、上記実施例ｉと同様にして洗浄能力評価を行っ
た。その結果を表２に示す。

【００３４】比較例viii 従来のＲＣＡ洗浄とＩＰＡ気相乾燥を併用した洗浄を用
いて上記被洗浄ウェハを洗浄し比較例viiiの試料とし、
上記実施例ｉと同様にして洗浄能力評価を行った。その
結果を表２に示す。

【００３５】

【表２】

【００３６】表１に示す今回の全ての実施例の試料にお
いて、単位面積当たりのカルシウム(Ｃａ)原子及びニッ
ケル(Ｎｉ)原子の原子密度が表２の比較例ｉの封切り直
後のウェハ及び従来のＲＣＡ洗浄とＩＰＡ気相乾燥を併
用した洗浄直後のウェハのもつ原子密度より少なくなっ
ていることがわかる。このことからオレイン酸カルシウ
ムで汚染したにもかかわらず、この発明の実施例の試料
は全て封切り直後のウェハ及び従来のＲＣＡ洗浄とＩＰ
Ａ気相乾燥を併用した洗浄直後のウェハより良好な洗浄
が行われたことがわかる。また、０．１μｍ以上の微粒
子測定結果においても比較例ｉ及び比較例vii,viiiの試
料のもつ微粒子数より減少していることがわかる。一
方、比較例ii〜ｖの試料においては、この発明に係わる
図１及び図２に示す装置を用いた洗浄であるにもかかわ
らず、その洗浄中に紫外線照射あるいは溶液あるいはオ
ゾンを用いなかったため、著しく汚染物質が残存するこ
とがわかる。このことから、溶液、紫外線照射及びオゾ
ンは洗浄に有効で、かつオゾン存在下、あるいはオゾン
ガス存在下の溶液に紫外線照射を行うことで、その洗浄
効果は著しく向上することがわかる。

【００３７】実施例ｉと実施例ii及び実施例iiiの比較
から、実施例ii及び実施例iiiのほうが洗浄効果が高い
ことがわかる。これはおそらくオゾンガスの溶媒中への
溶解性が蒸留水よりイソプロピルアルコールやトリフル
オロトリクロロエタンのほうが大きいため、結果的に洗
浄に寄与する効果が高くなったためと考えられる。同様
の理由で（高圧になることによりオゾンガス溶媒中への
溶解性が高くなる）実施例ｉより実施例viiiのほうが洗
浄効果が高くなったものと考えられる。実施例ｉより実
施例vii のほうが若干洗浄効果が高くなったのはオゾン
ガスの効果が加わったためと思われる。

【００３８】なお、上記実施例では紫外光の照射効率を
高めるため、照射する紫外光の入射角度を被洗浄物の被
洗浄面に対して約９０ｄｅｇになるように設定したが、
これに限らず、７０ｄｅｇ〜１１０ｄｅｇであれば良
い。

【００３９】また、被洗浄物２の被洗浄面は重力加速度
の働く方向（オゾンガスが自然に流れる方向）に対して
４５ｄｅｇの角度で設置したが、これに限らず、オゾン
ガスをバブリングさせる場合にはオゾンガスが被洗浄面
に良くなじむようにするため、重力加速度の働く方向に
対して被洗浄物の被洗浄面を１０ｄｅｇ〜８０ｄｅｇの
角度傾くように設置するとよい。

【００４０】さらに、この発明に用いる液体としては上
記の水、イソプロピルアルコールやトリフルオロトリク
ロロエタンに限らず、オゾンを溶解できる液体であれ
ば、基本的にはいかなる物質であっても良く、例えば他
のアルコール系溶媒、フッ素系溶媒及びこれらの混合物
あるいはこれらを主成分とする溶媒が用いられる。

【００４１】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、オゾ
ンを溶解した液体、またはオゾンガスをバブリングさせ
た液体中に被洗浄物を浸漬し、この浸漬した被洗浄物表
面に紫外光を照射して洗浄するようにしたので、従来法
では除去が困難であった０．１μｍ以下の汚染粒子の除
去や、無機物の汚染、有機物からなる分子状汚染ならび
に炭酸からなる汚染の完全な除去が可能となる効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施例１に係わる洗浄装置を示す構
成図である。

【図２】この発明の実施例２に係わる洗浄装置を示す構
成図である。

【図３】この発明の実施例３に係わる洗浄装置を示す構
成図である。

【図４】この発明の実施例４に係わる洗浄装置を示す構
成図である。

【符号の説明】

１洗浄槽２被洗浄物３紫外光発生源である低圧水銀灯６オゾンを溶解した液体１４オゾンガスを含んだ液体

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】オゾンを溶解した液体、またはオゾンガ
スをバブリングさせた液体中に被洗浄物を浸漬し、この
浸漬した被洗浄物表面に紫外光を照射して洗浄すること
を特徴とする洗浄方法。