JPH05289038A - Manufacture of element substrate and liquid crystal display device - Google Patents

Manufacture of element substrate and liquid crystal display device

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JPH05289038A
JPH05289038A JP11419792A JP11419792A JPH05289038A JP H05289038 A JPH05289038 A JP H05289038A JP 11419792 A JP11419792 A JP 11419792A JP 11419792 A JP11419792 A JP 11419792A JP H05289038 A JPH05289038 A JP H05289038A
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substrate
cutting
liquid crystal
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tape
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Abstract

PURPOSE:To prevent cutting dust of a substrate and a supporting tape from adhering to the surface of a base body, and to improve the manufacture yield of the element substrate by covering the surface of the base body with the supporting tape, in a cutting process for the base body. CONSTITUTION:According to this method, plural element substrates 14 are manufactured by cutting a base body 10 in which plural elements are formed on the surface, and also, a cutting mark is put in a prescribed position, this method contains a process for sticking a supporting tape 12 for supporting the base body 10 to the surface of the base body 10, and a process for cutting the base body 10, and also, cutting a part of the supporting tape 12, and separating it to each element substrate 14. Moreover, this method contains a process for separating each element substrate by giving a shock to the base body 10 from the supporting tape side. Accordingly, since the surface of the base body 10 is protected by the supporting tape 12 until it is cut to each element substrate 14, it can be prevented surely that dust adheres to the surface of the base body 10. Also, since a cutting mark is put in a prescribed position of the base body 10, the base body 10 can be cut exactly to a prescribed shape.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、素子基板の製造方法、
及びかかる素子基板の製造方法を応用した液晶表示装置
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an element substrate,
The present invention also relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device to which the method for manufacturing the element substrate is applied.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、個々の半導体素子、液晶駆動用素
子あるいは対向電極等が形成された基板(以下、単に、
素子基板ともいう)は、半導体素子、液晶駆動用素子あ
るいは対向電極等(以下、単に、素子等ともいう)を1
枚の基板の表面に複数形成した後、かかる基板を切断、
分離することによって製造される。基板は、例えば石英
ガラスや一般ガラスから成る。尚、本明細書において
は、複数の素子等が形成された基板を基体という。
2. Description of the Related Art Usually, a substrate on which individual semiconductor elements, liquid crystal driving elements or counter electrodes are formed (hereinafter, simply referred to as
The element substrate is also a semiconductor element, a liquid crystal driving element, a counter electrode, or the like (hereinafter, also simply referred to as an element or the like).
After forming a plurality of on the surface of one substrate, cut the substrate,
Manufactured by separating. The substrate is made of, for example, quartz glass or general glass. In this specification, a substrate on which a plurality of elements and the like are formed is referred to as a base.

【0003】図4に示すように、従来の基体切断方法
は、以下の手順で行われる。即ち、基体10の裏面に、
基体を支持する支持テープ12を張り合わせる(図4の
(A)参照)。支持テープ12には、熱硬化型接着剤あ
るいは紫外線硬化型接着剤が塗布されている。次いで、
基体10を厚さ方向に切断し、更に支持テープ12を厚
さ方向に一部分切断する(図4の(B)参照)。通常、
切断はダイシング装置を使用して行われる。その後、支
持テープ12を延伸して、個々の素子基板14に分離す
る(図4の(C)参照)。
As shown in FIG. 4, a conventional substrate cutting method is performed in the following procedure. That is, on the back surface of the base body 10,
A support tape 12 that supports the substrate is attached (see FIG. 4A). A thermosetting adhesive or an ultraviolet curable adhesive is applied to the support tape 12. Then
The substrate 10 is cut in the thickness direction, and the support tape 12 is further cut in the thickness direction (see FIG. 4B). Normal,
The cutting is performed using a dicing device. Then, the support tape 12 is stretched and separated into individual element substrates 14 (see FIG. 4C).

【0004】あるいは又、基板表面に紫外線硬化型の糊
材の接着剤を用いた粘着テープを張り付け、その後にダ
イシングを行い、しかる後紫外線を照射して接着剤を硬
化させる方法が、特公平2−23324号公報から公知
である。
Alternatively, a method of sticking an adhesive tape using an adhesive agent of an adhesive agent of an ultraviolet curable type on the surface of a substrate, dicing it, and then irradiating ultraviolet rays to cure the adhesive agent is disclosed in Japanese Patent Publication No. No. 23324 is known.

【0005】液晶表示装置の製造方法においては、多面
取り法と単個取り法がある。多面取り法においては、ガ
ラス等から成る基板に複数の液晶駆動用素子を形成した
第1の基体と、ガラス等から成る基板に複数の対向電極
を形成した第2の基体とを準備する。そして、これらの
基体を重ね合わせて、複数の液晶表示装置を一度に作製
した後切断処理を行い、個々の液晶表示装置に分離す
る。また、単個取り法は、ガラス等から成る基板に複数
の液晶駆動用素子を形成した第1の基体を切断処理し
て、個々の液晶駆動用素子基板を作製する。同様に、ガ
ラス等から成る基板に複数の対向電極を形成した第2の
基体を切断処理して、個々の対向電極素子基板を作製す
る。そして、これらの良品同士の素子基板を重ね合わせ
て、液晶表示装置を作製する。
A method of manufacturing a liquid crystal display device includes a multi-cavity method and a single-cavity method. In the multi-chamfering method, a first substrate in which a plurality of liquid crystal driving elements are formed on a substrate made of glass or the like and a second substrate in which a plurality of counter electrodes are formed on a substrate made of glass or the like are prepared. Then, these substrates are stacked, a plurality of liquid crystal display devices are manufactured at a time, and then a cutting process is performed to separate the substrates into individual liquid crystal display devices. Further, in the single-piece fabrication method, the first substrate in which a plurality of liquid crystal driving elements are formed on a substrate made of glass or the like is cut to manufacture individual liquid crystal driving element substrates. Similarly, the second base body, in which a plurality of counter electrodes are formed on a substrate made of glass or the like, is cut to manufacture individual counter electrode element substrates. Then, these non-defective element substrates are overlapped with each other to manufacture a liquid crystal display device.

【0006】ガラス等から成る基板に複数の液晶駆動用
素子を形成するときの製造歩留まり、ガラス等から成る
基板に複数の対向電極を形成するときの製造歩留まりが
低い。それ故、これらの基体を重ね合わせて、複数の液
晶表示装置を一度に作製する多面取り法は、液晶表示装
置の製造歩留まりが、一層低下するという問題を有す
る。また、第1の基体及び第2の基体の平坦度のばらつ
きのため、2枚の基体を重ね合わせたとき、全体に亙っ
て均一なギャップが得にくく、ホットプレスによってギ
ャップを無理に調整すると、2枚の基体の間に入れられ
たスペーサーによって、液晶駆動用素子あるいは対向電
極に損傷が生じるという問題を有する。従って、小さな
面積を有する液晶表示装置を高い歩留まりでしかも高品
質にて製造するためには、単個取り法が望ましい。
The manufacturing yield when a plurality of liquid crystal driving elements are formed on a substrate made of glass or the like and the manufacturing yield when a plurality of counter electrodes are formed on a substrate made of glass or the like are low. Therefore, the multi-chambering method in which a plurality of liquid crystal display devices are manufactured at one time by stacking these substrates on each other has a problem that the manufacturing yield of the liquid crystal display device is further reduced. Further, due to the variation in the flatness of the first base and the second base, it is difficult to obtain a uniform gap over the whole when the two bases are superposed, and if the gap is forcibly adjusted by hot pressing. There is a problem that the spacer inserted between the two substrates causes damage to the liquid crystal driving element or the counter electrode. Therefore, in order to manufacture a liquid crystal display device having a small area with high yield and high quality, the single-piece manufacturing method is desirable.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】図4に示した通常の基
体切断方法においては、基体切断時、基体の表面10A
は保護されていない。そのため、基体の切断時に発生し
たシリコンやガラス等の切断滓あるいは支持テープの切
断滓(以下、ダストと総称する)が基体の表面に付着す
る。基体の表面に付着したダストは、基体の水洗工程で
は完全に除去することができない。その結果、素子等に
形成された配線の断線・短絡不良やボンディング不良が
発生する。また、CCD素子やリニアセンサーの表面に
ダストが付着すると、その部分に黒傷などの画素欠陥が
生じる。
In the normal substrate cutting method shown in FIG. 4, the surface 10A of the substrate is cut when the substrate is cut.
Is not protected. Therefore, the cutting waste such as silicon or glass or the cutting waste of the support tape (hereinafter collectively referred to as dust) generated during the cutting of the base adheres to the surface of the base. Dust adhering to the surface of the substrate cannot be completely removed in the step of washing the substrate with water. As a result, disconnection / short-circuit failure or bonding failure of the wiring formed on the element or the like occurs. Further, when dust adheres to the surface of the CCD element or the linear sensor, pixel defects such as black scratches occur in that portion.

【0008】また、基体切断時の素子等の静電破壊対策
として、純水中にCO2を混入して純水の比抵抗を数M
Ωにしているが、CO2を混入すると純水が酸性化さ
れ、ダイシング装置の切断刃の寿命が短くなるという問
題があり、また、CO2発生装置を必要とする。
Further, as a measure against electrostatic breakdown of the element or the like when the substrate is cut, CO 2 is mixed into pure water so that the specific resistance of pure water is several M.
However, if CO 2 is mixed in, pure water will be acidified, and the life of the cutting blade of the dicing device will be shortened, and a CO 2 generator will be required.

【0009】上述の単個取り法で液晶表示装置を製造す
る場合、液晶駆動用素子基板あるいは対向電極基板の製
造においては、液晶駆動用素子あるいは対向電極が形成
された素子基板の表面に付着したダストによって、配向
膜のラビング処理時、液晶駆動用素子の薄膜トランジス
タ(TFT)部や画素表示部、あるいは対向電極に傷が
発生し、更には、配線にも傷や断線が発生し、液晶表示
装置の製造歩留まりの低下や品質が低下するという問題
がある。
In the case of manufacturing a liquid crystal display device by the single-piece manufacturing method described above, in manufacturing a liquid crystal driving element substrate or a counter electrode substrate, the liquid crystal driving element substrate or the counter electrode is attached to the surface of the element substrate. During the rubbing process of the alignment film, the dust may scratch the thin film transistor (TFT) part of the liquid crystal driving element, the pixel display part, or the counter electrode, and further, the wiring may be scratched or broken. However, there is a problem in that the manufacturing yield and the quality are deteriorated.

【0010】また、多面取り法で液晶表示装置を製造す
る場合、2枚の基体を重ね合わせて複数の液晶表示装置
を一度に作製した後切断処理を行う必要があるが、この
切断処理時、基板の欠けや基板の割れ、気密性劣化等に
よって、製造歩留まりや液晶表示装置の品質が低下する
という問題がある。
Further, when manufacturing a liquid crystal display device by the multi-chamfering method, it is necessary to stack two substrates to manufacture a plurality of liquid crystal display devices at a time and then perform a cutting process. There are problems that the manufacturing yield and the quality of the liquid crystal display device are deteriorated due to chipping of the substrate, cracking of the substrate, deterioration of airtightness, and the like.

【0011】特公平2−23324号公報に開示された
ダイシング方法は、基体の表面に粘着テープが張り付け
られているので、基体の切断時、基板の切断滓に起因し
た上記の問題は解決可能である。しかしながら、特公平
2−23324号公報の第4図からも明らかなように、
切断後、粘着テープを基体から剥離した後に、基体を割
り、基体を個々の半導体素子基板に分離する。このと
き、基板の破砕滓が生成し、半導体素子基板の表面が破
砕滓によって汚染されるという問題がある。
In the dicing method disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 23324/1990, since the adhesive tape is attached to the surface of the substrate, the above problem caused by the cutting residue of the substrate can be solved when the substrate is cut. is there. However, as is clear from FIG. 4 of Japanese Patent Publication No. 23324/1990,
After cutting, the adhesive tape is peeled off from the substrate, the substrate is split, and the substrate is separated into individual semiconductor element substrates. At this time, a crushed slag of the substrate is generated, and there is a problem that the surface of the semiconductor element substrate is contaminated by the crushed slag.

【0012】従って、本発明の目的は、個々の素子基板
に切断、分離するまで確実に基体の表面へのダストの付
着を防止でき、しかも、基体を正確に所定の形状に切断
することが可能な素子基板の製造方法及び液晶表示装置
の製造方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to reliably prevent dust from adhering to the surface of the substrate until it is cut and separated into individual element substrates, and it is possible to accurately cut the substrate into a predetermined shape. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing an element substrate and a method for manufacturing a liquid crystal display device.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記の目的は、以下の各
工程を含む、表面に複数の素子が形成され、且つ所定の
位置に切断用目印が付された基体を切断することにより
複数の素子基板を製造する、本発明の第1の態様にかか
る素子基板の製造方法によって達成することができる。
即ち、 (イ)基体の表面に、基体を支持する支持テープを貼り
合わせる工程 (ロ)基体を切断し、更に支持テープの一部を切断し、
個々の素子基板に分離する工程
The above-mentioned object includes a plurality of elements formed on the surface, and the plurality of elements are formed by cutting a substrate having cutting marks at predetermined positions, including the following steps. This can be achieved by the method for manufacturing an element substrate according to the first aspect of the present invention for manufacturing the element substrate.
That is, (a) a step of attaching a support tape supporting the base to the surface of the base (b) cutting the base, and further cutting a part of the support tape,
Process of separating into individual element substrates

【0014】素子とは、半導体素子、液晶駆動用素子あ
るいは対向電極等を意味する。基板は、例えば、石英ガ
ラスや一般ガラス等の透明な材料から構成することがで
きる。基体とは、複数の素子等が形成された基板を意味
する。素子基板とは、このような素子が形成された基体
を個々に切断、分離したものを意味する。
The element means a semiconductor element, a liquid crystal driving element, a counter electrode, or the like. The substrate can be made of a transparent material such as quartz glass or general glass. The base means a substrate on which a plurality of elements and the like are formed. The element substrate means a substrate obtained by cutting and separating a substrate on which such an element is formed.

【0015】更に、上記の目的は、以下の各工程を含
む、表面に複数の素子が形成され、且つ所定の位置に切
断用目印が付された基体を切断することにより複数の素
子基板を製造する、本発明の第2の態様にかかる素子基
板の製造方法によって達成することができる。即ち、 (イ)基体の表面に、基体を支持する支持テープを貼り
合わせる工程 (ロ)基体の裏面から基体の一部を切断する工程 (ハ)支持テープ側から基体に衝撃を加えて、個々の素
子基板に分離する工程
Further, the above-mentioned object is to manufacture a plurality of element substrates by cutting a substrate having a plurality of elements formed on its surface and having cutting marks at predetermined positions, including the following steps. Can be achieved by the method for manufacturing an element substrate according to the second aspect of the present invention. That is, (a) a step of attaching a support tape supporting the base to the surface of the base (b) a step of cutting a part of the base from the back surface of the base (c) an impact is applied to the base from the side of the support tape to Process of separating into element substrate

【0016】支持テープに用いる接着剤は、熱硬化型、
感圧型、紫外線硬化型等、各種接着剤とすることができ
るが、紫外線硬化型接着剤が最も好ましい。本発明の第
1及び第2の態様に関する素子基板の製造方法の好まし
い態様においては、支持テープはフィルムと紫外線硬化
型接着剤から成り、分離工程の後に支持テープに紫外線
を照射して、支持テープの接着剤を硬化させる。
The adhesive used for the supporting tape is a thermosetting type,
Various adhesives such as pressure-sensitive adhesives and ultraviolet curable adhesives can be used, but ultraviolet curable adhesives are most preferable. In a preferred aspect of the method for manufacturing an element substrate according to the first and second aspects of the present invention, the supporting tape comprises a film and an ultraviolet curable adhesive, and the supporting tape is irradiated with ultraviolet rays after the separating step to form a supporting tape. Cure the adhesive.

【0017】更に、上記の目的は、以下の各工程を含
む、本発明の第3の態様にかかる液晶表示装置の製造方
法によって達成することができる。即ち、 (イ)基板の表面に、複数の液晶駆動用素子あるいは対
向電極及び所定の位置に切断用目印を形成することによ
って基体を作製する工程 (ロ)基体の表面に支持テープを貼り合わせる工程 (ハ)基体を切断し、更に支持テープの一部を切断し、
個々の液晶駆動用素子基板あるいは対向電極基板に分離
する工程
Further, the above object can be achieved by a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the third aspect of the present invention, which includes the following steps. That is, (a) a step of producing a substrate by forming a plurality of liquid crystal driving elements or counter electrodes and cutting marks at predetermined positions on the surface of the substrate (b) a step of attaching a support tape to the surface of the substrate (C) Cutting the base, and further cutting a part of the support tape,
Process of separating into individual liquid crystal drive element substrates or counter electrode substrates

【0018】更に、上記の目的は、以下の各工程を含
む、本発明の第4の態様にかかる液晶表示装置の製造方
法によって達成することができる。即ち、 (イ)基板の表面に、複数の液晶駆動用素子あるいは対
向電極及び所定の位置に切断用目印を形成することによ
って基体を作製する工程 (ロ)基体の表面に支持テープを貼り合わせる工程 (ハ)基体の裏面から基体の一部を切断する工程 (ニ)支持テープ側から基体に衝撃を加えて、個々の液
晶駆動用素子基板あるいは対向電極基板に分離する工程
Further, the above object can be achieved by a method for manufacturing a liquid crystal display device according to a fourth aspect of the present invention, which includes the following steps. That is, (a) a step of producing a substrate by forming a plurality of liquid crystal driving elements or counter electrodes and cutting marks at predetermined positions on the surface of the substrate (b) a step of attaching a support tape to the surface of the substrate (C) A step of cutting a part of the substrate from the back surface of the substrate (D) A step of applying an impact to the substrate from the side of the supporting tape to separate it into individual liquid crystal driving element substrates or counter electrode substrates

【0019】支持テープに用いる接着剤は、熱硬化型、
感圧型、紫外線硬化型等、各種接着剤とすることができ
るが、紫外線硬化型接着剤が最も好ましい。本発明の第
3及び第4の態様に関する液晶表示装置の製造方法の好
ましい態様においては、支持テープはフィルムと紫外線
硬化型接着剤から成り、分離工程の後に支持テープに紫
外線を照射して、支持テープの接着剤を硬化させる。
The adhesive used for the support tape is a thermosetting type,
Various adhesives such as pressure-sensitive adhesives and ultraviolet curable adhesives can be used, but ultraviolet curable adhesives are most preferable. In a preferred aspect of the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the third and fourth aspects of the present invention, the support tape comprises a film and an ultraviolet curable adhesive, and the support tape is irradiated with ultraviolet rays after the separation step to support the support tape. Cure the adhesive on the tape.

【0020】[0020]

【作用】本発明の方法においては、個々の素子基板に切
断、分離するまで、支持テープによって基体の表面は保
護される。従って、基体の表面へのダストの付着を確実
に防止できる。しかも、基体の所定の位置に切断用目印
が付されているので、基体を正確に所定の形状に切断す
ることができる。
In the method of the present invention, the surface of the substrate is protected by the supporting tape until it is cut and separated into individual element substrates. Therefore, it is possible to reliably prevent dust from adhering to the surface of the substrate. Moreover, since the cutting mark is provided at a predetermined position on the base body, the base body can be accurately cut into a predetermined shape.

【0021】[0021]

【実施例】以下、図1乃至図3を参照して、ガラスから
成る基板上に複数の液晶駆動用素子から成る素子が形成
された基体を切断することにより、液晶駆動用素子が形
成された個々の素子基板を製造する実施例を例にとり、
本発明を説明する。尚、図1乃至図3は、基体、液晶駆
動用素子等の模式的な一部断面図である。
EXAMPLES Referring to FIGS. 1 to 3, a liquid crystal driving element is formed by cutting a substrate having a plurality of liquid crystal driving elements formed on a glass substrate. Taking an example of manufacturing individual element substrates,
The present invention will be described. 1 to 3 are schematic partial cross-sectional views of a substrate, a liquid crystal driving element, and the like.

【0022】(実施例−1)実施例−1は、基体を切断
し、更に支持テープの一部を切断することによって、個
々の素子基板に分離する工程を含むことを特徴とする。 [工程−10]先ず、ガラスから成る基板の表面に、複
数の液晶駆動用素子から成る素子を形成する。具体的に
は、図2の模式的な一部断面図に示すように、ガラスか
ら成る基板20の上に、従来のプラズマCVD法によっ
て約50nmの厚さの第1のポリシリコン層22を形成
し、その上に従来のプラズマCVD法で約50nm厚さ
のゲート酸化膜24を形成する。更に、その上に従来の
プラズマCVD法で約400nm厚さの第2のポリシリ
コン層を形成する。次に、第2のポリシリコン層を従来
の方法でパターニングして、ゲート電極領域26を形成
する。
(Example-1) Example-1 is characterized by including a step of cutting the substrate and further cutting a part of the supporting tape to separate the individual element substrates. [Step-10] First, a plurality of liquid crystal driving elements are formed on the surface of a glass substrate. Specifically, as shown in the schematic partial sectional view of FIG. 2, a first polysilicon layer 22 having a thickness of about 50 nm is formed on a substrate 20 made of glass by a conventional plasma CVD method. Then, a gate oxide film 24 having a thickness of about 50 nm is formed thereon by the conventional plasma CVD method. Further, a second polysilicon layer having a thickness of about 400 nm is formed thereon by the conventional plasma CVD method. Next, the second polysilicon layer is patterned by a conventional method to form the gate electrode region 26.

【0023】次いで、第1のポリシリコン層22にイオ
ン注入を行い、ソース・ドレイン領域30,32を形成
する。その後、基板20の表面に、保護膜として、従来
のプラズマCVD法及びパターン形成法によって約30
nm厚さのSi34層28を形成する。次いで、全面
に、従来の常圧CVD法によって、例えばPSGから成
り厚さ500nmの第1の絶縁層34を形成する。そし
て、ソース領域上の第1の絶縁層34及びゲート酸化膜
24に、フォトリソグラフィ法及びエッチング法にて開
口部を形成する。
Then, the first polysilicon layer 22 is ion-implanted to form the source / drain regions 30 and 32. After that, as a protective film on the surface of the substrate 20, about 30 by the conventional plasma CVD method and pattern forming method.
A Si 3 N 4 layer 28 having a thickness of nm is formed. Then, a first insulating layer 34 of, eg, PSG and having a thickness of 500 nm is formed on the entire surface by a conventional atmospheric pressure CVD method. Then, an opening is formed in the first insulating layer 34 and the gate oxide film 24 on the source region by photolithography and etching.

【0024】その後、かかる開口部及び第1の絶縁層3
4上に、例えばスパッタ法で厚さ500nmのアルミニ
ウムを堆積させ、このアルミニウムをパターニングする
ことによって、配線36を形成する。また、所定の位置
にダイシングアラインメントマークを形成する。次い
で、全面に、例えばPSGから成り厚さ500nmの第
2の絶縁層38を常圧CVD法で堆積させる。このよう
にして、基板表面に、複数の薄膜トランジスタを形成す
る。その後、ドレイン領域上の第2の絶縁層38、第1
の絶縁層34及びゲート酸化膜24に、フォトリソグラ
フィ法及びエッチング法にて開口部を形成し、かかる開
口部及び第2の絶縁層38上にスパッタ法にて厚さ15
0nmのITO膜40を形成し、このITO膜40を液
晶表示装置の駆動電極として用いるため、従来のフォト
リソグラフィ法及びエッチング法にてITO膜40をパ
ターニングする。こうして、ガラスから成る基板20に
複数の液晶駆動用素子から成る素子が形成された基体1
0を作製する。
After that, the opening and the first insulating layer 3 are formed.
The wiring 36 is formed by depositing aluminum having a thickness of 500 nm on the substrate 4 by sputtering and patterning the aluminum. Further, a dicing alignment mark is formed at a predetermined position. Then, a second insulating layer 38 made of PSG and having a thickness of 500 nm is deposited on the entire surface by atmospheric pressure CVD. In this way, a plurality of thin film transistors are formed on the surface of the substrate. Then, the second insulating layer 38 on the drain region, the first insulating layer 38,
An opening is formed in the insulating layer 34 and the gate oxide film 24 of FIG. 2 by the photolithography method and the etching method, and a thickness of 15 is formed on the opening and the second insulating layer 38 by the sputtering method.
Since the ITO film 40 having a thickness of 0 nm is formed and the ITO film 40 is used as a drive electrode of the liquid crystal display device, the ITO film 40 is patterned by the conventional photolithography method and etching method. In this way, the base body 1 in which the plurality of elements for driving liquid crystal are formed on the substrate 20 made of glass
Create 0.

【0025】[工程−20]次に、従来の方法に基づ
き、基体10の表面にポリイミド系の配向膜材料を厚さ
80〜100nm程度、スピンコート法あるいはロール
コーター法にて塗布し、かかる配向膜材料を焼成した
後、ラビング処理を行い、配向膜42を形成する。
[Step-20] Next, based on the conventional method, a polyimide-based alignment film material having a thickness of about 80 to 100 nm is applied to the surface of the substrate 10 by a spin coat method or a roll coater method, and the alignment is performed. After baking the film material, rubbing treatment is performed to form the alignment film 42.

【0026】[工程−30]次いで、基体10の表面1
0Aに支持テープ12を貼り合わせる(図1の(A)参
照)。支持テープ12は、ポリオレフィン又はPVCか
ら成るフィルム基材と、紫外線硬化型の接着剤から構成
されている。支持テープは、後に基体10から剥離する
ときに、接着剤が基体の表面に残存しないようなものを
選択することが重要である。一般的には、接着剤が硬い
ほうが、支持テープを基体から剥離する時、基体表面の
接着剤残りが少なくなる。即ち、支持テープを基体の表
面に貼り合わせたとき、支持テープの接着剤が、基体に
形成された素子等の微細なパターン部分に浸入しない程
度の硬さを有していることが好ましい。支持テープとし
て、例えば、古河電気工業株式会社製、SP−525
M、SP−594M、SP−45M、UC−3446P
や、バンドー化学株式会社製S−107V、日東電工株
式会社製U−10D、リンラック株式会社製D608を
使用することができる。支持テープの厚さは80〜10
0μm程度であることが望ましい。
[Step-30] Next, the surface 1 of the substrate 10
The support tape 12 is attached to OA (see FIG. 1A). The support tape 12 is composed of a film base material made of polyolefin or PVC and an ultraviolet curable adhesive. It is important to select the support tape so that the adhesive does not remain on the surface of the substrate when it is peeled off from the substrate 10 later. Generally, the harder the adhesive, the less adhesive remains on the surface of the substrate when the support tape is peeled off from the substrate. That is, when the support tape is attached to the surface of the base, it is preferable that the adhesive of the support tape has a hardness that does not penetrate into a fine pattern portion such as an element formed on the base. As the support tape, for example, SP-525 manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd.
M, SP-594M, SP-45M, UC-3446P
Alternatively, S-107V manufactured by Bando Kagaku Co., U-10D manufactured by Nitto Denko Corporation, and D608 manufactured by Linlac Co., Ltd. can be used. The thickness of the support tape is 80-10
It is preferably about 0 μm.

【0027】[工程−40]その後、通常のダイシング
装置を使用して、基体10の表面に形成された切断用目
印を読み取りながら、基体10の裏面10B側から基体
10を厚さ方向に完全に切断し、更に支持テープ12を
厚さ方向に一部分切断する(図1の(B)参照)。支持
テープ12は厚さ方向に30〜40μm程度切り込むこ
とが望ましい。切断時、基体の表面10Aは支持テープ
12で被覆されているため、基板の切断滓や支持テープ
の切断滓のダストが基体の表面10Aに付着することを
防止できる。基板がガラスなので、基体表面に形成され
た切断用目印を基体の裏面から読み取りながら基体を切
断することができ、基体を所望の形状に正確に切断する
ことができる。こうして、複数の液晶駆動用素子が形成
された基体10から、個々の液晶駆動用素子から成る素
子基板14が切断、分離される。
[Step-40] After that, while reading the cutting mark formed on the front surface of the base 10 using a normal dicing device, the base 10 is completely removed from the back surface 10B side in the thickness direction. Then, the support tape 12 is partially cut in the thickness direction (see FIG. 1B). It is desirable to cut the support tape 12 by about 30 to 40 μm in the thickness direction. At the time of cutting, since the surface 10A of the base is covered with the support tape 12, it is possible to prevent the cutting waste of the substrate and the dust of the cutting waste of the support tape from adhering to the surface 10A of the base. Since the substrate is glass, the substrate can be cut while reading the cutting mark formed on the surface of the substrate from the back surface of the substrate, and the substrate can be accurately cut into a desired shape. In this way, the element substrate 14 including the individual liquid crystal driving elements is cut and separated from the base body 10 on which the plurality of liquid crystal driving elements are formed.

【0028】[工程−50]次いで、必要に応じて、支
持テープ12を延伸した後(図1の(C)参照)、支持
テープ12に紫外線を照射量300〜500mJ/cm
2程度照射し、支持テープの紫外線硬化型接着剤を硬化
させ、支持テープ12と基体10との接着力を低下させ
る。そして、支持テープ12を基体10の表面から剥離
する。尚、紫外線照射前には500〜1000g/25
mm程度である紫外線硬化型接着剤の接着力は、紫外線
照射後、20〜30g/25mm程度に低下するので、
支持テープ12を基体10の表面から容易に剥離するこ
とができる。ラビング処理時に配向膜上に付着した数ミ
クロンレベルのゴミが、支持テープの剥離時、支持テー
プの接着剤に付着し除去される。従って、配向膜上のゴ
ミを洗浄によって除去する必要がなくなり、洗浄による
配向膜の変質を防止することができる。
[Step-50] Next, if necessary, the support tape 12 is stretched (see FIG. 1C), and then the support tape 12 is irradiated with ultraviolet rays in an amount of 300 to 500 mJ / cm 2.
Irradiation is performed for about 2 to cure the ultraviolet curable adhesive of the support tape and reduce the adhesive force between the support tape 12 and the substrate 10. Then, the support tape 12 is peeled off from the surface of the substrate 10. Before UV irradiation, 500-1000g / 25
Since the adhesive strength of the ultraviolet curable adhesive, which is about mm, decreases to about 20 to 30 g / 25 mm after the irradiation with ultraviolet rays,
The support tape 12 can be easily peeled off from the surface of the substrate 10. Dust of a few microns level adhered to the alignment film during the rubbing treatment adheres to the adhesive of the support tape and is removed when the support tape is peeled off. Therefore, it is not necessary to remove dust on the alignment film by cleaning, and the alignment film can be prevented from being deteriorated by cleaning.

【0029】[工程−60]次いで、従来の液晶表示装
置の製造方法に基づき、液晶表示装置を完成させる。
[Step-60] Next, the liquid crystal display device is completed based on the conventional method for manufacturing a liquid crystal display device.

【0030】ラビング処理を含む配向膜の形成を、上記
の[工程−20]で行わずに、[工程−60]で行うこ
とも可能である。
The formation of the alignment film including the rubbing treatment can be performed in [Step-60] instead of the above-mentioned [Step-20].

【0031】(実施例−2)次に、実施例−2について
説明する。実施例−2は、基体の裏面から基体の一部を
切断する工程と、支持テープ側から基体に衝撃を加える
ことによって、個々の素子基板に分離する工程を含むこ
とを特徴とする。 [工程−100]先ず、ガラスから成る基板の表面に、
複数の液晶駆動用素子から成る素子を形成する。この工
程は、実施例−1の[工程−10]と同様であり、その
説明は省略する。
Example-2 Next, Example-2 will be described. Example-2 is characterized by including a step of cutting a part of the base from the back surface of the base and a step of separating the individual element substrates by applying an impact to the base from the supporting tape side. [Step-100] First, on the surface of the substrate made of glass,
An element including a plurality of liquid crystal driving elements is formed. This step is the same as [Step-10] in Example-1, and the description thereof will be omitted.

【0032】[工程−110]次に、従来の方法に基づ
き、基体10の表面にポリイミド系の配向膜材料を厚さ
80〜100nm程度、スピンコート法あるいはロール
コーター法にて塗布し、かかる配向膜材料を焼成した
後、ラビング処理を行い、配向膜を形成する。
[Step-110] Next, based on a conventional method, a polyimide-based alignment film material having a thickness of about 80 to 100 nm is applied to the surface of the substrate 10 by a spin coat method or a roll coater method, and the alignment is performed. After firing the film material, rubbing treatment is performed to form an alignment film.

【0033】[工程−120]次いで、基体10の表面
10Aに支持テープ12を貼り合わせる(図3の(A)
参照)。支持テープ12は、ポリオレフィン又はPVC
から成るフィルム基材と、紫外線硬化型の接着剤から構
成されている。支持テープとして、実施例−1にて例示
した支持テープを使用することができる。
[Step-120] Next, the support tape 12 is attached to the surface 10A of the substrate 10 ((A) of FIG. 3).
reference). The support tape 12 is polyolefin or PVC.
And a UV-curable adhesive. As the supporting tape, the supporting tape exemplified in Example-1 can be used.

【0034】[工程−130]その後、通常のスクライ
ブ装置を使用して、超硬ロールカッター又はダイアモン
ドカッターで、基体10の表面に形成された切断用目印
を読み取りながら、基体10の裏面10B側から基体1
0を厚さ方向に一部切断する(図3の(B)参照)。切
り込み量は、0.1〜0.2mm程度が望ましい。基体
の一部切断時、基体の表面10Aは支持テープ12で被
覆されているため、基板の切断滓であるダストが基体の
表面に付着することを防止できる。基体に形成された切
断用目印を読み取りながら基体を切断するので、基体を
所望の形状に正確に切断することができる。
[Step-130] After that, while reading the cutting mark formed on the front surface of the base 10 with a cemented carbide roll cutter or a diamond cutter using an ordinary scribing device, from the back surface 10B side of the base 10. Base 1
A part of 0 is cut in the thickness direction (see FIG. 3B). The cut amount is preferably about 0.1 to 0.2 mm. Since the surface 10A of the substrate is covered with the support tape 12 when the substrate is partially cut, it is possible to prevent dust, which is a cutting waste of the substrate, from adhering to the surface of the substrate. Since the base is cut while reading the cutting marks formed on the base, the base can be cut accurately into a desired shape.

【0035】[工程−140]次に、基体の裏面を支持
台の上に置き、支持テープ12側から一部切断したライ
ンに沿って基体10にブレーカー16にて衝撃を加え
て、複数の液晶駆動用素子が形成された基体10から、
個々の液晶駆動用素子から成る素子基板14を切断、分
離する(図3の(C)参照)。支持テープ12側から基
体10に衝撃が加えられるので、基体10に対するダメ
ージが軽減される。また、基体の表面は支持テープ12
で被覆されているため、基板からのダストが基体の表面
に付着することを防止できる。
[Step-140] Next, the back surface of the substrate is placed on a support base, and a shock is applied to the substrate 10 by a breaker 16 along a line partially cut from the support tape 12 side, so that a plurality of liquid crystals are formed. From the base body 10 on which the driving element is formed,
The element substrate 14 composed of individual liquid crystal driving elements is cut and separated (see FIG. 3C). Since a shock is applied to the base 10 from the supporting tape 12 side, damage to the base 10 is reduced. In addition, the surface of the substrate is the support tape 12
Since it is covered with, it is possible to prevent dust from the substrate from adhering to the surface of the substrate.

【0036】[工程−150]次いで、必要に応じて、
支持テープ12を延伸した後、支持テープ12を基体1
0の表面から剥離する。この工程は、実施例−1の[工
程−50]と同様であり、その説明は省略する。ラビン
グ処理時に配向膜上に付着した数ミクロンレベルのゴミ
が、支持テープの剥離時、支持テープの接着剤に付着し
除去される。従って、配向膜上のゴミを洗浄によって除
去する必要がなくなり、洗浄による配向膜の変質を防止
することができる。
[Step-150] Then, if necessary,
After stretching the support tape 12, the support tape 12 is attached to the base 1
Peel from the surface of 0. This step is the same as [Step-50] of Example-1, and description thereof will be omitted. Dust of a few microns level adhered to the alignment film during the rubbing treatment adheres to the adhesive of the support tape and is removed when the support tape is peeled off. Therefore, it is not necessary to remove dust on the alignment film by cleaning, and the alignment film can be prevented from being deteriorated by cleaning.

【0037】[工程−160]その後、従来の液晶表示
装置の製造方法に基づき、液晶表示装置を完成させる。
[Step-160] Then, the liquid crystal display device is completed based on the conventional method for manufacturing a liquid crystal display device.

【0038】配向膜の形成及びラビング処理を、上記の
[工程−110]で行わずに、[工程−160]で行う
ことも可能である。
It is also possible to perform the formation of the alignment film and the rubbing treatment in [step-160] instead of the above-mentioned [step-110].

【0039】ガラス基板にカラーフィルターを形成し、
次いで、ITO膜をスパッタリングしてフォトリソグラ
フィ法及びエッチング法にて基板上に複数の対向電極を
形成した後、上記の実施例−1の[工程−20]〜[工
程−60]によって、あるいは、実施例−2の[工程−
110]〜[工程−160]によって、個々の対向電極
基板を製造することができる。
A color filter is formed on a glass substrate,
Then, the ITO film is sputtered to form a plurality of counter electrodes on the substrate by a photolithography method and an etching method, and then by [Step-20] to [Step-60] of the above-described Example-1, or Example 2 [Step-
110] to [Step-160], individual counter electrode substrates can be manufactured.

【0040】以上、本発明を好ましい実施例に基づき説
明したが、本発明は上記の実施例に限定されるものでは
ない。液晶表示装置は、実施例にて説明したアクティブ
マトリックス方式の他に、単純マトリックス方式から構
成することができる。
The present invention has been described above based on the preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments. The liquid crystal display device can be configured by a simple matrix system in addition to the active matrix system described in the embodiments.

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明の製造方法においては、基体の切
断工程において、基体の表面は支持テープで被覆されて
いる。従って、基板や支持テープの切断滓が基体の表面
に付着することがなく、素子基板の製造歩留まりの向
上、素子等の信頼性の向上を図ることができる。また、
支持テープ剥離時に基体表面のゴミが除去されるので、
素子基板の製造歩留まりの向上、素子等の信頼性の向上
を図ることができる。しかも、クリーンワークの軽減、
クリーンルーム及び製造装置の設備投資削減が可能にな
る。更に、従来の方法で必要とされる静電破壊防止のた
めのCO2発生装置も不要になる。
In the manufacturing method of the present invention, the surface of the substrate is covered with the supporting tape in the step of cutting the substrate. Therefore, the cutting residue of the substrate or the supporting tape does not adhere to the surface of the base body, so that it is possible to improve the manufacturing yield of the element substrate and the reliability of the element and the like. Also,
Since dust on the substrate surface is removed when the support tape is peeled off,
It is possible to improve the manufacturing yield of element substrates and the reliability of elements and the like. Moreover, reduction of clean work,
It is possible to reduce capital investment in clean rooms and manufacturing equipment. Further, the CO 2 generator for preventing electrostatic breakdown, which is required in the conventional method, becomes unnecessary.

【0042】また、基体に付された切断用目印を読み取
りながら基体を切断するので、基体を正確に所定の形状
に切断することができる。
Further, since the base is cut while reading the cutting mark attached to the base, the base can be cut into a predetermined shape accurately.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の方法の各工程を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating each step of the method of the present invention.

【図2】液晶駆動用素子の模式的な一部断面図である。FIG. 2 is a schematic partial cross-sectional view of a liquid crystal driving element.

【図3】本発明の別の方法の各工程を説明する図であ
る。
FIG. 3 is a diagram illustrating each step of another method of the present invention.

【図4】従来の基体切断方法の各工程を説明する図であ
る。
FIG. 4 is a diagram illustrating each step of a conventional substrate cutting method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 基体 12 支持テープ 14 素子基板 20 基板 26 ゲート電極領域 30,32 ソース・ドレイン領域 34 第1の絶縁層 36 配線 38 第2の絶縁層 40 ITO膜 42 配向膜 10 Base 12 Support Tape 14 Element Substrate 20 Substrate 26 Gate Electrode Region 30, 32 Source / Drain Region 34 First Insulating Layer 36 Wiring 38 Second Insulating Layer 40 ITO Film 42 Alignment Film

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】表面に複数の素子が形成され、且つ所定の
位置に切断用目印が付された基体を切断することにより
複数の素子基板を製造する方法であって、 (イ)基体の表面に、基体を支持する支持テープを貼り
合わせる工程と、 (ロ)基体を切断し、更に支持テープの一部を切断し、
個々の素子基板に分離する工程、を含むことを特徴とす
る素子基板の製造方法。
1. A method of manufacturing a plurality of element substrates by cutting a base body having a plurality of elements formed on the surface and having cutting marks at predetermined positions, the method comprising: (a) a surface of the base body. To a step of attaching a support tape for supporting the substrate, and (b) cutting the substrate, further cutting a part of the support tape,
A method of manufacturing an element substrate, comprising a step of separating into individual element substrates.
【請求項2】表面に複数の素子が形成され、且つ所定の
位置に切断用目印が付された基体を切断することにより
複数の素子基板を製造する方法であって、 (イ)基体の表面に、基体を支持する支持テープを貼り
合わせる工程と、 (ロ)基体の裏面から基体の一部を切断する工程と、 (ハ)支持テープ側から基体に衝撃を加えて、個々の素
子基板に分離する工程、を含むことを特徴とする素子基
板の製造方法。
2. A method of manufacturing a plurality of element substrates by cutting a base body having a plurality of elements formed on the surface and having cutting marks at predetermined positions, comprising: (a) a surface of the base body. Then, a step of adhering a support tape for supporting the substrate, (b) a step of cutting a part of the substrate from the back surface of the substrate, and (c) a shock from the supporting tape side to the substrate to apply it to each element substrate. And a step of separating the element substrate.
【請求項3】前記支持テープはフィルムと紫外線硬化型
接着剤から成り、前記分離工程の後に支持テープに紫外
線を照射して、支持テープの接着剤を硬化させることを
特徴とする請求項1又は請求項2に記載の素子基板の製
造方法。
3. The support tape comprises a film and an ultraviolet curable adhesive, and the adhesive of the support tape is cured by irradiating the support tape with ultraviolet rays after the separating step. The method for manufacturing the element substrate according to claim 2.
【請求項4】(イ)基板の表面に、複数の液晶駆動用素
子あるいは対向電極及び所定の位置に切断用目印を形成
することによって基体を作製する工程と、 (ロ)基体の表面に支持テープを貼り合わせる工程と、 (ハ)基体を切断し、更に支持テープの一部を切断し、
個々の液晶駆動用素子基板あるいは対向電極基板に分離
する工程、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造
方法。
4. A step of producing a substrate by forming a plurality of liquid crystal driving elements or counter electrodes and cutting marks at predetermined positions on the surface of the substrate, and (b) supporting on the surface of the substrate. A step of adhering the tape, and (c) cutting the substrate, and further cutting a part of the support tape,
A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising a step of separating each of the liquid crystal driving element substrate or the counter electrode substrate.
【請求項5】(イ)基板の表面に、複数の液晶駆動用素
子あるいは対向電極及び所定の位置に切断用目印を形成
することによって基体を作製する工程と、 (ロ)基体の表面に支持テープを貼り合わせる工程と、 (ハ)基体の裏面から基体の一部を切断する工程と、 (ニ)支持テープ側から基体に衝撃を加えて、個々の液
晶駆動用素子基板あるいは対向電極基板に分離する工
程、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
5. A step of producing a substrate by forming a plurality of liquid crystal driving elements or counter electrodes and cutting marks at predetermined positions on the surface of the substrate, and (b) supporting on the surface of the substrate. A step of attaching a tape, (c) a step of cutting a part of the base from the back surface of the base, and (d) a shock is applied to the base from the side of the supporting tape to form an individual liquid crystal drive element substrate or counter electrode substrate. A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of separating.
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