JPH1090692A - Manufacture of liquid crystal display device - Google Patents

Manufacture of liquid crystal display device

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JPH1090692A
JPH1090692A JP24150096A JP24150096A JPH1090692A JP H1090692 A JPH1090692 A JP H1090692A JP 24150096 A JP24150096 A JP 24150096A JP 24150096 A JP24150096 A JP 24150096A JP H1090692 A JPH1090692 A JP H1090692A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
light
substrate
chip member
transmitting substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP24150096A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Yamanaka
英雄 山中
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH1090692A publication Critical patent/JPH1090692A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily fit a cooling means and reduce polarizing plate defects by processing even a small-size substrate by a manufacturing device which handles a large-sized substrate. SOLUTION: Sheet glass 1' of 1st size is stuck on base glass 2 of 2nd larger size with a transparent adhesive 3, the base glass 2 is fitted to a specific liquid crystal assembling device, and the sheet glass 1' is processed. Then the base glass 2 is stuck on a dicing sheet and processed by full-cut dicing together with the sheet glass 1' to form a chip member, which is put as one side over a member as the other side. Then liquid crystal is charged between the chip member and the member as the other side and a thermal treatment is performed to orient the liquid crystal.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透光性基板を用い
た液晶表示装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device using a translucent substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、液晶を駆動するための
TFT(Thin Film Transistor)
が形成された液晶駆動基板と、カラーフィルタやマイク
ロレンズアレイや一様な透明電極が形成された対向基板
とを重ね合わせ、その間に液晶を封入し、熱処理で液晶
配向することにより製造される。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device has a thin film transistor (TFT) for driving liquid crystal.
Is formed by superposing a liquid crystal driving substrate on which a color filter, a microlens array, and a uniform transparent electrode are formed, filling a liquid crystal therebetween, and orienting the liquid crystal by heat treatment.

【0003】高温ポリシリコンTFTを適用した液晶駆
動基板は、ポリシリコンTFT形成のため半導体製造装
置等を用いて種々の処理が施される。したがって、ウェ
ーハと同じサイズやオリエンテーションフラット付きの
同じ丸形形状から成る石英ガラス基板を半導体製造装置
等へ仕掛けてTFT等を形成している。
A liquid crystal driving substrate to which a high-temperature polysilicon TFT is applied is subjected to various processes for forming a polysilicon TFT using a semiconductor manufacturing apparatus or the like. Therefore, a TFT or the like is formed by mounting a quartz glass substrate having the same size as the wafer or the same round shape with an orientation flat on a semiconductor manufacturing apparatus or the like.

【0004】一方、対向基板は、カラーフィルタやマイ
クロレンズアレイや一様な透明電極等の形成を一括して
行うことができるため、例えば大型長方形のほうけい酸
ガラス基板にカラーフィルタやマイクロレンズアレイや
透明電極等を一括形成した後、所定の大きさに分割して
製造されている。
On the other hand, since a color filter, a microlens array, a uniform transparent electrode, and the like can be collectively formed on a counter substrate, for example, a color filter or a microlens array is formed on a large rectangular borosilicate glass substrate. After being formed at once, a transparent electrode or the like is manufactured by dividing into a predetermined size.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、対向基板に対
する処理においても液晶駆動基板と同様なものがある
が、同じ液晶組立製造装置で処理しようとした場合、基
板のサイズや形状が異なっているため、基板の取り付け
台を変更する(取り替える)必要が生じる。このため、
生産性向上の観点から、液晶駆動用基板に対応した製造
装置と、対向基板に対応した製造装置とを別々に用意し
て処理を進めなければならないという問題が生じてい
る。これは、設備投資の増大、設備設置のためのクリー
ンルーム面積増大、設備メインテナンス工数増大等のコ
ストアップ要因となっている。
However, the processing of the opposite substrate is the same as that of the liquid crystal driving substrate. However, when processing is performed by the same liquid crystal assembling and manufacturing apparatus, the size and shape of the substrate are different. Then, it is necessary to change (replace) the mounting base of the substrate. For this reason,
From the viewpoint of improving productivity, there is a problem that a manufacturing apparatus corresponding to the liquid crystal driving substrate and a manufacturing apparatus corresponding to the counter substrate must be separately prepared and the processing must be advanced. This is a cause of cost increase such as an increase in capital investment, an increase in clean room area for installation of equipment, and an increase in man-hours for equipment maintenance.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明はこのような課題
を解決するために成された液晶表示装置の製造方法であ
る。すなわち、第1のサイズから成る透光性基板を、こ
の第1のサイズ以上の第2のサイズから成る透光性基台
に透光性接着剤を介して貼り合わせる工程と、透光性基
板の貼り合わされている透光性基台を所定の液晶組立装
置に取り付けて処理を施す工程と、透光性基板の貼り合
わされている透光性基台をダイシングシートに貼り付
け、透光性基板とともに透光性基台をフルカットダイシ
ングして、透光性基板の小片と該透光性基台の小片とが
貼り合わされた状態のチップ部材を形成する工程と、チ
ップ部材をダイシングシートから剥がし、このチップ部
材にシール剤を塗布して一方側とし、コモン剤を塗布し
た他方側の部材との重ね合わせを、透光性基板の小片を
他方側の部材と対向させるように行う工程と、チップ部
材と他方側の部材との間に液晶を封入し、熱処理して液
晶配向を行う工程とから成る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a method for manufacturing a liquid crystal display device which has been made to solve such problems. That is, a step of bonding a light-transmitting substrate having a first size to a light-transmitting base having a second size equal to or larger than the first size via a light-transmitting adhesive; Attaching the translucent base bonded to the predetermined liquid crystal assembling apparatus to perform processing, and applying the translucent base to which the translucent substrate is bonded to a dicing sheet, A step of performing full cut dicing of the light-transmitting base together with the step of forming a chip member in a state in which the small piece of the light-transmitting substrate and the small piece of the light-transmitting base are bonded to each other, and peeling the chip member from the dicing sheet A step of applying a sealant to the chip member to one side and superimposing the chip member on the other side with the common agent applied so that a small piece of the light-transmitting substrate faces the other side member; Between the tip member and the other member Sealing liquid crystal, comprising a step of performing a liquid crystal alignment by heat treatment.

【0007】本発明では、処理対象となる透光性基板
を、そのサイズ以上の透光性基台に貼り合わせているた
め、透光性基板の形状とサイズとが種々ある場合であっ
ても同じ液晶組立装置に仕掛けて処理できるようにな
る。
In the present invention, since the translucent substrate to be processed is bonded to a translucent base having a size larger than that size, even if the translucent substrate has various shapes and sizes. The same liquid crystal assembly device can be set up and processed.

【0008】また、ダイシングを行う際、透光性基板と
ともに透光性基台も切断することで、この透光性基台の
小片を透光性基板に対する冷却板として使用することも
できるようになる。
When dicing, the light-transmitting base is cut together with the light-transmitting substrate, so that a small piece of the light-transmitting base can be used as a cooling plate for the light-transmitting substrate. Become.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下に本発明の液晶表示装置の製
造方法における実施の形態を図に基づいて説明する。図
1〜図2は第1実施形態を説明する概略図である。第1
実施形態における液晶表示装置の製造方法では、カラー
フィルタ等を形成する対向基板として大型ガラス1を用
いている点に特徴がある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 and 2 are schematic diagrams illustrating a first embodiment. First
The method of manufacturing the liquid crystal display device according to the embodiment is characterized in that the large glass 1 is used as a counter substrate for forming a color filter and the like.

【0010】先ず、図1(a)に示すように、ほうけい
酸ガラス等から成る大型ガラス1の表面1aにカラーフ
ィルタやマイクロレンズアレイや透明電極等を形成す
る。大型ガラス1としては、例えば、縦横300(m
m)×350(mm)の四角形で、厚さ0.7mm〜
1.1mm程度のものを使用する。
First, as shown in FIG. 1A, a color filter, a microlens array, a transparent electrode and the like are formed on a surface 1a of a large glass 1 made of borosilicate glass or the like. As the large glass 1, for example, 300 (m)
m) x 350 (mm) square, 0.7mm thick
Use the one of about 1.1 mm.

【0011】次に、図1(b)に示すように、大型ガラ
ス1(図1(a)参照)を分割して、例えば6インチ角
のシートガラス1’にする。なお、この分割の際、後述
のラビング処理時のバフかす低減のためにシートガラス
1’の端部を面取りしておくことが望ましい。
Next, as shown in FIG. 1 (b), the large glass 1 (see FIG. 1 (a)) is divided into, for example, 6 inch square sheet glass 1 '. At the time of this division, it is desirable to chamfer the end portion of the sheet glass 1 'in order to reduce buff residue during rubbing processing described later.

【0012】次いで、図1(c)に示すように、シート
ガラス1’を透明接着剤3により基台ガラス2に貼り合
わせる処理を行う。透明接着剤3としては、後のアルコ
ール系溶液での洗浄や配向膜の熱処理(180℃、2時
間)でも変質せず高透過性で、紫外線による耐光性があ
り、シートガラス1’と基台ガラス2との間の熱膨張係
数差を吸収して熱処理や温度サイクルの際のストレスを
緩和でき、剥離やクラックの生じない例えばシリコーン
系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂(いずれも、
紫外線照射硬化型や熱硬化型、または紫外線照射+熱硬
化型)を用いる。
Next, as shown in FIG. 1C, a process of bonding the sheet glass 1 'to the base glass 2 with the transparent adhesive 3 is performed. The transparent adhesive 3 does not deteriorate even after washing with an alcohol-based solution or heat treatment of the alignment film (180 ° C., 2 hours). By absorbing the difference in the coefficient of thermal expansion between the glass 2 and the glass 2, stress during heat treatment and temperature cycling can be reduced, and for example, silicone resin, epoxy resin, acrylic resin (all of
An ultraviolet irradiation curing type, a thermosetting type, or an ultraviolet irradiation + thermosetting type) is used.

【0013】また、図1(d)に示すように、基台ガラ
ス2はシートガラス1’のサイズより大きく、しかもオ
リエンテーションフラット(以下、単にオリフラと言
う。)OF’が設けられ、全体としてウェーハ形状とな
っている。この基台ガラス2を例えば8インチ径のウェ
ーハ形状と同じ(例えば、液晶駆動基板を製造するため
の基板と同じ)にすることで、後の処理において、液晶
駆動基板を形成する際に使用するのと同じ製造装置(例
えば、液晶組立製造装置)を用いることができるように
なる。
As shown in FIG. 1 (d), the base glass 2 is larger than the size of the sheet glass 1 'and is provided with an orientation flat (hereinafter simply referred to as an orientation flat) OF'. It has a shape. By making the base glass 2 the same as, for example, an 8-inch diameter wafer shape (for example, the same as a substrate for manufacturing a liquid crystal drive substrate), it is used for forming a liquid crystal drive substrate in later processing. The same manufacturing apparatus (for example, a liquid crystal assembling manufacturing apparatus) can be used.

【0014】次に、この基台ガラス2上にシートガラス
1’を貼り合わせた状態で、シートガラス1’の表面1
aにポリイミドから成る配向膜を塗布して焼成し、ラビ
ング処理等の液晶配向処理を行う。ポリイミド配向膜は
例えば30〜50nm厚で塗布し、180℃2時間程度
焼成し、ラビング処理は基台ガラス2のオリフラOF’
を基準にして行われる。
Next, in a state where the sheet glass 1 'is stuck on the base glass 2, the surface 1 of the sheet glass 1' is
A liquid crystal alignment process such as a rubbing process is performed by applying and firing an alignment film made of polyimide on a. The polyimide alignment film is applied, for example, in a thickness of 30 to 50 nm, and baked at 180 ° C. for about 2 hours. The rubbing treatment is performed using the orientation flat OF ′ of the base glass 2.
Is performed on the basis of

【0015】次いで、図2(a)に示すように、シート
ガラス1’が貼り合わされた基台ガラス2をダイシング
シート4に貼り付け、ダイシングブレードBによってシ
ートガラス1’とともに基台ガラス2をフルカットダイ
シング(ダイシングシート4を30〜40μm程度切り
込む)する。
Next, as shown in FIG. 2 (a), the base glass 2 on which the sheet glass 1 'is bonded is stuck on a dicing sheet 4, and the base glass 2 is fully filled together with the sheet glass 1' by a dicing blade B. Cut dicing (cut the dicing sheet 4 by about 30 to 40 μm).

【0016】これによって、シートガラス1’の小片と
基台ガラス2の小片とが貼り合わされた状態のチップ部
材Cが多数形成されることになる。
As a result, a large number of chip members C in a state where the small pieces of the sheet glass 1 'and the small pieces of the base glass 2 are bonded to each other are formed.

【0017】次いで、ダイシングシート4よりチップ部
材Cをピックアップし、必要に応じて洗浄した後、図2
(b)に示すように、チップ部材Cを対向基板としてシ
ール剤を塗布し、他方側の基板であるTFT側チップ部
材10にコモン剤を塗布して重ね合わせ、シールキュア
を行った後、熱処理(110℃、30分)し、急冷して
液晶配向させる。その後、間に液晶(図示せず)を注入
して封止する。
Next, the chip member C is picked up from the dicing sheet 4 and, if necessary, is washed.
As shown in (b), a sealing agent is applied using the chip member C as an opposing substrate, and a common agent is applied to the TFT-side chip member 10 as the other substrate, which is superimposed, seal-cured, and then heat-treated. (110 ° C., 30 minutes), and rapidly cooled to align the liquid crystal. After that, a liquid crystal (not shown) is injected therebetween to seal.

【0018】そして、図2(c)に示すように、チップ
部材CとTFT側チップ部材10の各々に偏光フィルム
Hを貼り付け、フレキシブル配線Fを接続して液晶表示
装置を完成させる。
Then, as shown in FIG. 2C, a polarizing film H is attached to each of the chip member C and the TFT-side chip member 10, and the flexible wiring F is connected to complete the liquid crystal display device.

【0019】このようにして製造された液晶表示装置で
は、シートガラス1’を支持するための基台ガラス2も
シートガラス1’とともに分割し、そのままチップ部材
Cの構成要素としてTFT側チップ部材10と重ね合わ
せていることから、液晶表示装置として完成した後は、
チップ部材Cの冷却板としての役目を果たすことにな
る。
In the liquid crystal display device manufactured as described above, the base glass 2 for supporting the sheet glass 1 'is also divided with the sheet glass 1', and the TFT side chip member 10 is directly used as a component of the chip member C. After being completed as a liquid crystal display device,
The chip member C functions as a cooling plate.

【0020】なお、図1(a)〜(d)および図2
(a)〜(c)における液晶表示装置の製造では、主と
してカラーフィルタ等が形成される対向基板の製造にお
いて基台ガラス2を用い、それをシートガラス1’とと
もに分割、組み立てて冷却板として使用する例を示した
が、TFT側チップ部材10を形成する際にも同様な基
台ガラス2を用いて、それを分割、組み立てて冷却板と
して使用してもよい。
FIGS. 1A to 1D and FIG.
In the production of the liquid crystal display device in (a) to (c), the base glass 2 is mainly used in the production of the opposing substrate on which the color filters and the like are formed, and the base glass 2 is divided and assembled together with the sheet glass 1 ′ and used as a cooling plate. Although an example is shown, when the TFT side chip member 10 is formed, a similar base glass 2 may be used, divided and assembled to be used as a cooling plate.

【0021】図2(d)は、対向基板であるチップ部材
Cと液晶駆動基板であるTFT側チップ部材10との両
方に基台ガラス2を分割して成る冷却板が貼り合わされ
ている例である。このように、TFT側チップ部材10
に冷却板を貼り合わせたものを製造する場合には、TF
Tを形成する際に使用したウェーハ状のガラス基板(例
えば、8インチ径)と同じサイズの基台ガラス(例え
ば、8インチ径)を透明接着剤で貼り合わせるようにす
れば、貼り合わせた後の工程として、先に説明した対向
基板であるチップ部材Cの製造方法と同様な工程で処理
することが可能となる。
FIG. 2D shows an example in which a cooling plate formed by dividing the base glass 2 is bonded to both the chip member C as the opposing substrate and the TFT side chip member 10 as the liquid crystal driving substrate. is there. Thus, the TFT-side chip member 10
When manufacturing a product in which a cooling plate is attached to
If a base glass (for example, 8 inches in diameter) of the same size as the wafer-shaped glass substrate (for example, 8 inches in diameter) used when forming T is bonded with a transparent adhesive, after bonding As a step, it is possible to perform processing in the same step as the above-described method of manufacturing the chip member C as the opposing substrate.

【0022】次に、第2実施形態における液晶表示装置
の製造方法を図3の概略図に基づいて説明する。第2実
施形態は、主として対向基板を製造するためのガラス基
板としてウェーハ形状(以下、単にウェーハと言う。)
のものを使用する場合の例である。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to the second embodiment will be described with reference to the schematic diagram of FIG. The second embodiment mainly has a wafer shape (hereinafter simply referred to as a wafer) as a glass substrate for manufacturing a counter substrate.
This is an example in the case of using the above.

【0023】先ず、図3(a)に示すように、ガラス材
料から成るウェーハWの表面1aに所定の処理を施す。
ウェーハWから成る基板を用いて対向基板を製造するの
は、例えば、マイクロレンズアレイやマイクロプリズム
アレイを形成する場合である。このため、ガラス材料と
しては、例えば結晶化ガラス、アルミノけい酸ガラス、
ほうけい酸ガラス、石英ガラスを使用する。サイズは6
インチ径、0.8mm厚のものを使用する。
First, as shown in FIG. 3A, a predetermined process is performed on the surface 1a of the wafer W made of a glass material.
A counter substrate is manufactured using a substrate made of the wafer W, for example, when a microlens array or a microprism array is formed. Therefore, as a glass material, for example, crystallized glass, aluminosilicate glass,
Use borosilicate glass or quartz glass. Size is 6
Use an inch diameter, 0.8 mm thick one.

【0024】次いで、図3(b)に示すように、処理済
のウェーハWを透明接着剤3によって基台ガラス2へ貼
り合わせる処理を行う。透明接着剤3としては、第1実
施形態と同様に、後のアルコール系溶液での洗浄や配向
膜の熱処理(180℃、2時間)でも変質せず高透過率
で、紫外線による耐光性があり、シートガラス1’と基
台ガラス2との間の熱膨張係数差を吸収して熱処理や温
度サイクルの際のストレスを緩和でき、剥離やクラック
の生じない例えばシリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、
アクリル系樹脂(いずれも、紫外線照射硬化型や熱硬化
型、または紫外線照射+熱硬化型)を用いる。
Next, as shown in FIG. 3B, a process of bonding the processed wafer W to the base glass 2 with the transparent adhesive 3 is performed. As in the first embodiment, the transparent adhesive 3 has a high transmittance without being deteriorated even by subsequent washing with an alcohol-based solution or heat treatment of an alignment film (180 ° C., 2 hours), and has light resistance to ultraviolet rays. A thermal expansion coefficient between the sheet glass 1 'and the base glass 2 can be absorbed to relieve stress during heat treatment and temperature cycling.
Acrylic resin (all of which are UV-curable or thermosetting, or UV-irradiated + thermosetting) is used.

【0025】また、基台ガラス2はウェーハWのサイズ
より大きいウェーハ形状のものを使用する。例えば、こ
の基台ガラス2として8インチ径のウェーハ形状のもの
を用いる。これによって、後の処理において、液晶駆動
基板を形成する際に使用するのと同じ製造装置(例え
ば、液晶組立製造装置)を用いることができるようにな
る。
The base glass 2 has a wafer shape larger than the size of the wafer W. For example, a wafer having a diameter of 8 inches is used as the base glass 2. As a result, in the subsequent processing, the same manufacturing apparatus (for example, a liquid crystal assembling manufacturing apparatus) used when forming the liquid crystal driving substrate can be used.

【0026】さらに、本実施形態では、ウェーハWと基
台ガラス2との貼り合わせを、図3(c)または図3
(d)に示すような位置関係で行う。すなわち、図3
(c)に示す例では、ウェーハWの中心と基台ガラス2
の中心とを合わせるように貼り合わせたものであり、ま
た図3(d)に示す例では、ウェーハWのオリフラOF
と基台ガラス2のオリフラOF’とを合わせるように貼
り合わせたものである。いずれの貼り合わせであって
も、ウェーハWのオリフラOFの方向と基台ガラス2の
オリフラOF’の方向とが一致するような位置関係とし
ておく。
Further, in the present embodiment, the bonding of the wafer W and the base glass 2 is performed as shown in FIG.
This is performed in a positional relationship as shown in FIG. That is, FIG.
In the example shown in (c), the center of the wafer W and the base glass 2
3D. In the example shown in FIG. 3D, the orientation flat OF
And the orientation flat OF ′ of the base glass 2. Regardless of the bonding, a positional relationship is set such that the direction of the orientation flat OF of the wafer W and the direction of the orientation flat OF ′ of the base glass 2 match.

【0027】このようにウェーハWと基台ガラス2とを
貼り合わせ後は、図2(a)〜(d)に示す第1実施形
態と同様な処理でチップ部材Cを形成して液晶表示装置
を完成させる。第2実施形態のようにウェーハWから成
る基板を用いても、液晶組立製造装置に対応したサイズ
の基台ガラス2を貼り合わせることで、共通の製造装置
を利用できるようになるとともに、この基台ガラス2を
ウェーハWとともに分割して、そのまま組み立てて液晶
表示装置とすることで、冷却板としても利用できるよう
になる。
After bonding the wafer W and the base glass 2 as described above, a chip member C is formed by the same processing as in the first embodiment shown in FIGS. To complete. Even when a substrate made of a wafer W is used as in the second embodiment, a common manufacturing apparatus can be used by bonding the base glass 2 having a size corresponding to the liquid crystal assembling and manufacturing apparatus. By dividing the base glass 2 together with the wafer W and assembling it as it is to form a liquid crystal display device, it can also be used as a cooling plate.

【0028】次に、第3実施形態における液晶表示装置
の製造方法を図4の概略図に基づいて説明する。第3実
施形態では、主としてシートガラス1’を支持する支持
リングRを用いている点に特徴がある。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to the third embodiment will be described with reference to the schematic diagram of FIG. The third embodiment is characterized in that a support ring R that mainly supports the sheet glass 1 ′ is used.

【0029】先ず、図4(a)に示すように、シートガ
ラス1’(大型ガラスを所定のサイズに分割したもの)
と支持リングRとを支持テープTを介して貼り付ける。
支持テープTとしては、紫外線照射硬化型の粘着層を高
耐熱性のベースフィルムに被着したものを使用する。ま
た、支持リングRは金属製や高耐熱性樹脂製のものを使
用する。そして、シートガラス1’を貼り付けた状態
で、少量(約20mJ/cm2 )の紫外線光を照射し、
シートガラス1’の付いていない支持テープTの露出部
分をわずかに硬化させ、べたつきを無くしておく。これ
は、後の処理(ラビング等)においてごみが付着するの
を防止するためである。なお、この時、シートガラス
1’領域も粘着力が低下しているが、後の処理でシート
ガラス1’が支持テープから剥離しない程度に接着して
いるようにすることがポイントである。
First, as shown in FIG. 4A, a sheet glass 1 '(large glass divided into a predetermined size)
And the support ring R are attached via the support tape T.
As the support tape T, a tape in which an ultraviolet irradiation-curable adhesive layer is adhered to a highly heat-resistant base film is used. The support ring R is made of a metal or a high heat-resistant resin. Then, a small amount (about 20 mJ / cm 2 ) of ultraviolet light is irradiated while the sheet glass 1 ′ is attached,
The exposed portion of the support tape T without the sheet glass 1 'is slightly hardened to eliminate stickiness. This is to prevent dust from adhering in later processing (rubbing or the like). At this time, the adhesive strength of the sheet glass 1 'region is also reduced, but the point is that the sheet glass 1' is adhered to such an extent that the sheet glass 1 'does not peel off from the support tape in the subsequent processing.

【0030】図4(b)は四角形のシートガラス1’が
支持テープTを介して支持リングRに貼り付けられた状
態を示す概略平面図である。支持リングRの外形はウェ
ーハ形状となっており(例えば、8インチ径)、オリフ
ラOF’を備えている。このように支持リングRをシー
トガラス1’に取り付けることで、後の処理では支持リ
ングRをウェーハと同様に扱って液晶組立装置へ仕掛け
ることができ、またこのオリフラOF’を基準としてシ
ートガラス1’を貼り付けることで、液晶組立装置内で
のシートガラス1’の方向性を正確に特定できるように
なる。
FIG. 4B is a schematic plan view showing a state in which the square sheet glass 1 ′ is attached to the support ring R via the support tape T. The outer shape of the support ring R has a wafer shape (for example, 8 inches in diameter), and includes an orientation flat OF ′. By attaching the support ring R to the sheet glass 1 'in this manner, in a later process, the support ring R can be handled in the same manner as a wafer and mounted on a liquid crystal assembling apparatus. By attaching ', the direction of the sheet glass 1' in the liquid crystal assembling apparatus can be accurately specified.

【0031】図4(c)はウェーハWから成る基板を用
いる場合を示しており、この場合には、ウェーハWのオ
リフラOFの方向と支持リングRのオリフラOF’の方
向とを一致させるようにして支持テープTにウェーハW
を貼り付けるようにする。
FIG. 4C shows a case in which a substrate made of a wafer W is used. In this case, the direction of the orientation flat OF of the wafer W and the direction of the orientation flat OF 'of the support ring R are matched. Wafer W on support tape T
To paste.

【0032】図4(b)、(c)いずれの基板を用いる
場合であっても、支持リングRを取り付けた後はシート
ガラス1’またはウェーハWの表面にポリイミドから成
る配向膜を塗布、焼成し、ラビング処理を行う。なお、
以下では、シートガラス1’を用いた場合を説明する
が、ウェーハWを用いた場合であっても同様である。
In either case of using the substrate shown in FIGS. 4B and 4C, after attaching the support ring R, an alignment film made of polyimide is applied to the surface of the sheet glass 1 'or the wafer W and baked. Then, a rubbing process is performed. In addition,
The case where the sheet glass 1 ′ is used will be described below, but the same applies to the case where the wafer W is used.

【0033】配向膜としてポリイミドを使用する場合に
は、低温キュア(100℃以下)タイプのものを使用す
る。また、ラビング処理は、支持リングRのオリフラO
F’を基準として行う。なお、配向膜としては、ポリイ
ミドの他に、SiO2 斜蒸着膜を用いてもよい。このS
iO2 斜蒸着膜を用いた場合にはラビング処理は不要で
ある。また、紫外線照射による配向処理を用いてもよ
い。これは偏光された紫外線をポリイミド等の配向膜に
照射して液晶配向させる処理で、ラビングバフによるラ
ビング処理がないのでごみ付着による不良が発生しない
というメリットがある。
When polyimide is used as the alignment film, a low-temperature cure (100 ° C. or lower) type is used. The rubbing treatment is performed by using the orientation flat O of the support ring R.
This is performed based on F ′. In addition, as the alignment film, a SiO 2 oblique deposition film may be used instead of polyimide. This S
The rubbing treatment is not required when an obliquely deposited iO 2 film is used. Further, an alignment treatment by ultraviolet irradiation may be used. This is a process of irradiating polarized ultraviolet light to an alignment film such as polyimide to align the liquid crystal, and there is no rubbing treatment by a rubbing buff, so that there is an advantage that a defect due to adhesion of dust does not occur.

【0034】シートガラス1’の表面に所定の処理を施
した後は、これを分割するためのラインに沿ってV溝
(例えば、0.1mm深さ)を入れるカットダイシング
を施す。そして、図4(d)に示すように、V溝を入れ
た表面をダイシングシート4に貼り付け、図4(b)、
(c)で示す支持テープTおよび支持リングRを除去す
る。なお、先に軽く紫外線を照射して硬化させているた
め、シートガラス1’から支持テープTを剥離除去しや
すい。
After performing a predetermined treatment on the surface of the sheet glass 1 ', cut dicing is performed to insert a V-groove (for example, 0.1 mm depth) along a line for dividing the surface. Then, as shown in FIG. 4D, the surface having the V-groove is attached to the dicing sheet 4, and as shown in FIG.
The support tape T and the support ring R shown in (c) are removed. Note that the support tape T is easily peeled and removed from the sheet glass 1 'because it is hardened by lightly irradiating ultraviolet rays first.

【0035】その後、シートガラス1’のV溝に沿って
裏面側からフルカットダイシングを行う。このフルカッ
トダイシングでは、ダイシングブレードBにてV溝の部
分まで切り込み、ダイシングシート4を切らないように
する。これによってダイシングシート4からのダスト
(粘着剤やベースフィルムのくず)発生を防止できるよ
うになる。このフルカットダイシングによって、複数の
チップ部材Cが形成されることになる。
Thereafter, full cut dicing is performed from the back side along the V-groove of the sheet glass 1 '. In this full cut dicing, the dicing blade B is cut to the V-groove portion so that the dicing sheet 4 is not cut. This makes it possible to prevent dust (adhesive and debris of the base film) from being generated from the dicing sheet 4. By this full-cut dicing, a plurality of chip members C are formed.

【0036】チップ部材Cを形成した後はアルコール系
の洗浄液によってチップ部材Cの洗浄を行い、ダイシン
グシート4からピックアップし、そのチップ部材Cにシ
ール剤を塗布して対向基板とし、他方側の基板であるT
FT側チップ部材にコモン剤を塗布して重ね合わせを行
い、液晶の封入、熱処理での液晶配向、偏光フィルムの
取り付けおよびフレキシブル配線の接続等を行って液晶
表示装置を完成させる。
After the chip member C is formed, the chip member C is washed with an alcohol-based cleaning liquid, picked up from the dicing sheet 4, and a sealing agent is applied to the chip member C to form a counter substrate. T
The liquid crystal display device is completed by applying a common agent to the FT-side chip member and superimposing the liquid crystal, enclosing the liquid crystal, orienting the liquid crystal by heat treatment, attaching a polarizing film, connecting flexible wiring, and the like.

【0037】第3実施形態のように、シートガラス1’
やウェーハWにそのサイズより大きなウェーハ形状の支
持リングRを貼り付けるようにしても、液晶駆動基板と
の液晶組立装置の共通化を図ることが可能となり、生産
性を向上させることが可能となる。
As in the third embodiment, the sheet glass 1 '
When a support ring R having a wafer shape larger than the size of the support ring R is attached to the wafer W or the wafer W, the liquid crystal assembly apparatus can be shared with the liquid crystal drive substrate, and the productivity can be improved. .

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
装置の製造方法によれば次のような効果がある。すなわ
ち、透光性基板に対してそれ以上のサイズの透光性基台
を貼り合わせるようにしたことから、その後の工程にお
いては、透光性基板のサイズが異なるものでも同じ液晶
組立装置を利用することができるようになる。つまり、
透光性基台のサイズを液晶駆動基板を形成する際のウェ
ーハサイズと同じにしておくことで、配向膜形成、ラビ
ング処理、ダイシング等の液晶組立装置の基板保持部
(ウェーハ搭載台等)を共通化することができ、基板保
持部を取り替えることなく液晶組立装置を共有すること
ができ、製造時間の短縮化を図ることが可能となる。こ
れにより、液晶表示装置を生産性良く製造することが可
能となる。
As described above, according to the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, the following effects can be obtained. That is, since a light-transmitting base having a larger size is bonded to the light-transmitting substrate, the same liquid crystal assembling apparatus is used in subsequent steps even if the light-transmitting substrates have different sizes. Will be able to That is,
By setting the size of the translucent base to be the same as the wafer size when forming the liquid crystal driving substrate, the substrate holding part (wafer mounting base, etc.) of the liquid crystal assembly apparatus for forming the alignment film, rubbing, dicing, etc. The liquid crystal assembling apparatus can be shared without replacing the substrate holding unit, and the manufacturing time can be reduced. This makes it possible to manufacture a liquid crystal display device with high productivity.

【0039】また、透光性基板に貼り合わせた透光性基
台を一緒に分割して、組立てることで、この透光性基台
の小片を冷却板として利用することができ、液晶表示装
置の冷却効果を高めることができるとともに、別工程で
複雑な冷却機構を取り付ける必要が無くなって、大幅な
コストダウンおよび生産性向上を図ることが可能とな
る。
Further, by dividing and assembling the light-transmitting base bonded to the light-transmitting substrate, a small piece of the light-transmitting base can be used as a cooling plate. The cooling effect of the present invention can be enhanced, and there is no need to attach a complicated cooling mechanism in a separate step, so that significant cost reduction and productivity improvement can be achieved.

【0040】さらに、透光性基板および液晶駆動基板に
貼り合わせた透光性基台に偏光板を貼り合わせるので、
液晶層からの距離が遠くなってフォーカスぼけで偏光板
欠陥(微小ごみ、傷等)が軽減され、歩留り、品質向上
を図ることが可能となる。
Further, since the polarizing plate is bonded to the light-transmitting base and bonded to the light-transmitting substrate and the liquid crystal driving substrate,
As the distance from the liquid crystal layer increases, defects in the polarizing plate (fine dust, scratches, etc.) due to defocusing can be reduced, and the yield and quality can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施形態を説明する概略図(その1)であ
る。
FIG. 1 is a schematic diagram (part 1) for explaining a first embodiment;

【図2】第1実施形態を説明する概略図(その2)であ
る。
FIG. 2 is a schematic diagram (part 2) for explaining the first embodiment;

【図3】第2実施形態を説明する概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a second embodiment.

【図4】第3実施形態を説明する概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 大型ガラス 1’ シートガラス 2 基台ガ
ラス 3 透明接着剤 4 ダイシングシート 10 T
FT側チップ部材 B ダイシングブレード C チップ部材 F フ
レキシブル配線 H 偏光フィルム W ウェーハ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Large glass 1 'Sheet glass 2 Base glass 3 Transparent adhesive 4 Dicing sheet 10T
FT side chip member B Dicing blade C Chip member F Flexible wiring H Polarizing film W Wafer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1のサイズから成る透光性基板を該第
1のサイズ以上の第2のサイズから成る透光性基台に透
光性接着剤を介して貼り合わせる工程と、 前記透光性基板の貼り合わされている透光性基台を所定
の液晶組立装置に取り付けて処理を施す工程と、 前記透光性基板の貼り合わされている透光性基台をダイ
シングシートに貼り付け、該透光性基板とともに該透光
性基台をフルカットダイシングして、該透光性基板の小
片と該透光性基台の小片とが貼り合わされた状態のチッ
プ部材を形成する工程と、 前記チップ部材を前記ダイシングシートから剥がし、該
チップ部材にシール剤を塗布して一方側とし、コモン剤
を塗布した他方側の部材との重ね合わせを、前記透光性
基板の小片を該他方側の部材と対向させるように行う工
程と、 前記チップ部材と前記他方側の部材との間に液晶を封入
し、熱処理して液晶配向を行う工程とから成ることを特
徴とする液晶表示装置の製造方法。
A step of bonding a light-transmitting substrate having a first size to a light-transmitting base having a second size equal to or larger than the first size via a light-transmitting adhesive; Attaching a translucent base to which the light-transmitting substrate is attached to a predetermined liquid crystal assembling apparatus and performing a process; and pasting the translucent base to which the light-transmitting substrate is attached to a dicing sheet; Full-cut dicing the light-transmitting base together with the light-transmitting substrate to form a chip member in a state where the light-transmitting substrate and the light-transmitting base are bonded together. The chip member is peeled off from the dicing sheet, a sealing agent is applied to the chip member to make one side, and a small piece of the light-transmitting substrate is overlapped with the member on the other side to which a common agent is applied, and the other side A step of performing so as to face the member of Method of manufacturing a liquid crystal display device and a liquid crystal sealed between the members of the chip member other side, characterized in that it consists of a step for liquid crystal alignment by heat treatment.
【請求項2】 前記透光性接着剤は、紫外線照射硬化型
のシリコーン樹脂から成ることを特徴とする請求項1記
載の液晶表示装置の製造方法。
2. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein said translucent adhesive is made of an ultraviolet irradiation-curable silicone resin.
【請求項3】 前記透光性接着剤は、熱硬化型のシリコ
ーン樹脂から成ることを特徴とする請求項1記載の液晶
表示装置の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the translucent adhesive is made of a thermosetting silicone resin.
【請求項4】 第1のサイズから成る透光性基板の外側
に該第1のサイズ以上の第2のサイズから成る支持リン
グを所定の支持テープを介して貼り合わせる工程と、 前記透光性基板を前記支持リングとともに所定の液晶組
立装置に取り付けて処理を施す工程と、 前記透光性基板の処理面側にV溝を入れる工程と、 前記透光性基板の処理面をダイシングシートに貼り付け
た状態で、前記処理面と反対の面の前記V溝と対応する
位置をダイシングして該透光性基板の小片から成るチッ
プ部材を形成する工程と、 前記チップ部材を前記ダイシングシートから剥がし、該
チップ部材にシール剤を塗布して一方側とし、コモン剤
を塗布した他方側の部材との重ね合わせを行う工程と、 前記チップ部材と前記他方側の部材との間に液晶を封入
し、熱処理して液晶配向を行う工程とから成ることを特
徴とする液晶表示装置の製造方法。
4. A step of attaching a support ring having a second size equal to or larger than the first size to a outside of a light-transmitting substrate having a first size via a predetermined support tape; Attaching the substrate together with the support ring to a predetermined liquid crystal assembling apparatus to perform processing, forming a V-groove on the processing surface side of the light-transmitting substrate, and attaching the processing surface of the light-transmitting substrate to a dicing sheet Dicing a position corresponding to the V-groove on a surface opposite to the processing surface to form a chip member made of a small piece of the light-transmitting substrate; and peeling the chip member from the dicing sheet. A step of applying a sealant to the chip member to make it one side, and superimposing the chip member on the other member to which a common agent has been applied, and sealing a liquid crystal between the chip member and the other member. ,Heat treatment Method of manufacturing a liquid crystal display device characterized by comprising a step of performing a liquid crystal alignment Te.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006220757A (en) * 2005-02-08 2006-08-24 Asahi Glass Co Ltd Thin plate glass laminated body and manufacturing method of display device using the same body
US7491580B2 (en) 2004-05-25 2009-02-17 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing electro-optical device
JP2014182730A (en) * 2013-03-21 2014-09-29 Toppan Printing Co Ltd Manufacturing method for touch panel and manufacturing apparatus for touch panel

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