JPH05285835A - 遊離砥粒噴射加工方法及びこの方法を用いて加工した流体軸受 - Google Patents
遊離砥粒噴射加工方法及びこの方法を用いて加工した流体軸受Info
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- JPH05285835A JPH05285835A JP8537992A JP8537992A JPH05285835A JP H05285835 A JPH05285835 A JP H05285835A JP 8537992 A JP8537992 A JP 8537992A JP 8537992 A JP8537992 A JP 8537992A JP H05285835 A JPH05285835 A JP H05285835A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】被加工物の表面に均一な表面構造、表面性状を
有する微細加工を効率よく施すことを目的とする。 【構成】被加工物２を感光性樹脂でマスクし、砥粒５が
気体６中に均一に分散した遊離砥粒噴流７を第１の噴射
ノズル４からマスク３上に高速噴射して被加工物２に加
工を施すとともに第２の噴射ノズル８から気体噴流９を
マスク３上に高速噴射して被加工物２を清浄、洗浄しよ
うとするものであり、流体軸受が例示されている。
有する微細加工を効率よく施すことを目的とする。 【構成】被加工物２を感光性樹脂でマスクし、砥粒５が
気体６中に均一に分散した遊離砥粒噴流７を第１の噴射
ノズル４からマスク３上に高速噴射して被加工物２に加
工を施すとともに第２の噴射ノズル８から気体噴流９を
マスク３上に高速噴射して被加工物２を清浄、洗浄しよ
うとするものであり、流体軸受が例示されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、噴射ノズルにより砥粒
が均一に分散した遊離砥粒噴流を高速噴射して被加工物
に加工を施すようにしたもので、特に被加工物の微細加
工に適用する遊離砥粒噴射加工方法及びこの方法を用い
て加工した流体軸受に関する。
が均一に分散した遊離砥粒噴流を高速噴射して被加工物
に加工を施すようにしたもので、特に被加工物の微細加
工に適用する遊離砥粒噴射加工方法及びこの方法を用い
て加工した流体軸受に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明の発明者は、平成２年９月５日に
出願した特願平２−２３３２４号「遊離複合砥粒噴射式
加工装置」を提案した。この提案は遊離砥粒の表面に多
数の微細砥粒を被覆した遊離砥粒と高圧の気体とからな
る固気２相流を被加工物に噴射してラップ仕上げやポリ
ッシング等の加工をするようにしたことにより、加工効
率を向上し、容易に鏡面仕上げが可能な加工装置に関し
てである。
出願した特願平２−２３３２４号「遊離複合砥粒噴射式
加工装置」を提案した。この提案は遊離砥粒の表面に多
数の微細砥粒を被覆した遊離砥粒と高圧の気体とからな
る固気２相流を被加工物に噴射してラップ仕上げやポリ
ッシング等の加工をするようにしたことにより、加工効
率を向上し、容易に鏡面仕上げが可能な加工装置に関し
てである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の遊離砥粒噴射
加工方法は、このような提案と同じ課題を解決するため
に提案されたもので、遊離砥粒噴射加工装置を用いた表
面加工方法であって、被加工物に衝突して反射する遊離
砥粒や被加工物に付着する遊離砥粒、塵埃、研削屑、そ
の他の異物を清浄、洗浄して被加工物に対する加工性能
を向上することを課題にしている。
加工方法は、このような提案と同じ課題を解決するため
に提案されたもので、遊離砥粒噴射加工装置を用いた表
面加工方法であって、被加工物に衝突して反射する遊離
砥粒や被加工物に付着する遊離砥粒、塵埃、研削屑、そ
の他の異物を清浄、洗浄して被加工物に対する加工性能
を向上することを課題にしている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】そのため本発明は、被加
工物を感光性樹脂でマスクし、砥粒が気体中に均一に分
散した遊離砥粒を第１の噴射ノズルからマスク上に高速
噴射して被加工物に加工を施すとともに、第２の噴射ノ
ズルから気体噴流をマスク上に高速噴射して被加工物を
清浄、洗浄するようにした。
工物を感光性樹脂でマスクし、砥粒が気体中に均一に分
散した遊離砥粒を第１の噴射ノズルからマスク上に高速
噴射して被加工物に加工を施すとともに、第２の噴射ノ
ズルから気体噴流をマスク上に高速噴射して被加工物を
清浄、洗浄するようにした。
【０００５】
【作用】従って、本発明では、被加工物を感光性樹脂で
マスクし、砥粒が気体中に均一に分散した遊離砥粒噴流
を第１の噴射ノズルからマスク上に高速噴射して被加工
物に加工を施すとともに、第２の噴射ノズルから気体噴
流をマスク上に高速噴射して被加工物を清浄、洗浄する
ことにより、被加工物に衝突して反射する遊離砥粒と噴
射ノズルから噴射した遊離砥粒との衝突を緩和すること
ができる。
マスクし、砥粒が気体中に均一に分散した遊離砥粒噴流
を第１の噴射ノズルからマスク上に高速噴射して被加工
物に加工を施すとともに、第２の噴射ノズルから気体噴
流をマスク上に高速噴射して被加工物を清浄、洗浄する
ことにより、被加工物に衝突して反射する遊離砥粒と噴
射ノズルから噴射した遊離砥粒との衝突を緩和すること
ができる。
【０００６】そして、被加工物に付着した遊離砥粒、塵
埃、研削屑、その他の異物を清浄、洗浄することによ
り、被加工物に傷をつけることが防止できる。また、被
加工物にラップ仕上げ、ポリッシング等の微細加工が容
易であり、良好な表面構造（寸法精度、表面粗度等）、
表面性状（加工歪層、クラッシュ層等）を得ることがで
きる。更に、被加工物に対する加工効率を高め、高品質
化、低コスト化を図ることができる。
埃、研削屑、その他の異物を清浄、洗浄することによ
り、被加工物に傷をつけることが防止できる。また、被
加工物にラップ仕上げ、ポリッシング等の微細加工が容
易であり、良好な表面構造（寸法精度、表面粗度等）、
表面性状（加工歪層、クラッシュ層等）を得ることがで
きる。更に、被加工物に対する加工効率を高め、高品質
化、低コスト化を図ることができる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面と共に詳述す
る。図１乃至図３は、本発明の遊離砥粒噴射加工装置と
被加工物及び該被加工物上のマスクとの関係を示した説
明図であって、図１はその平面図、図２は図１のＸ1 −
Ｘ2 線上における断面図、そして、図３は図１のＹ1 −
Ｙ2 線上における断面図である。
る。図１乃至図３は、本発明の遊離砥粒噴射加工装置と
被加工物及び該被加工物上のマスクとの関係を示した説
明図であって、図１はその平面図、図２は図１のＸ1 −
Ｘ2 線上における断面図、そして、図３は図１のＹ1 −
Ｙ2 線上における断面図である。
【０００８】まず、加工物装着台１は、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸の
３軸方向に移動可能に構成されている。また、Ｚ軸まわ
りに回転可能に構成されている。この加工物装着台１に
被加工物２を載置する。そして被加工物２の材料として
はＡｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＣを用いた。
３軸方向に移動可能に構成されている。また、Ｚ軸まわ
りに回転可能に構成されている。この加工物装着台１に
被加工物２を載置する。そして被加工物２の材料として
はＡｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＣを用いた。
【０００９】それから、被加工物２の加工面には、マス
ク３を被せたものを用いた。このマスク３の形状は、実
施例ではスパイラル溝付動圧スラスト気体軸受を例示し
た。また、マスク３の材料として感光性ポリウレタン樹
脂を用い、厚さ５０μｍ程度にスピンコートし、この気
体軸受のパターンが形成されるように紫外線照射して形
成することができる。
ク３を被せたものを用いた。このマスク３の形状は、実
施例ではスパイラル溝付動圧スラスト気体軸受を例示し
た。また、マスク３の材料として感光性ポリウレタン樹
脂を用い、厚さ５０μｍ程度にスピンコートし、この気
体軸受のパターンが形成されるように紫外線照射して形
成することができる。
【００１０】そこで、このスパイラル溝付動圧スラスト
気体軸受のマスク３の寸法は次の通りである。軸受内半
径（Ｒ1 ）７．５ｍｍ、軸受外半径（Ｒ2 ）１５ｍｍ、
軸受溝内半径９．４ｍｍ、溝数１６、流入角（α°）約
１５°、軸受外周部溝幅（Ｗ1 ）約３．５ｍｍ、軸受外
周部リッジ幅約２．３ｍｍである。
気体軸受のマスク３の寸法は次の通りである。軸受内半
径（Ｒ1 ）７．５ｍｍ、軸受外半径（Ｒ2 ）１５ｍｍ、
軸受溝内半径９．４ｍｍ、溝数１６、流入角（α°）約
１５°、軸受外周部溝幅（Ｗ1 ）約３．５ｍｍ、軸受外
周部リッジ幅約２．３ｍｍである。
【００１１】次に被加工物２を回転させ、このマスク３
上から第１の噴射ノズル４を用いて、砥粒５が気体６中
に均一に分散した遊離砥粒噴流７を被加工物２の表面に
向かって高速噴射する。そうするとマスク３に覆われて
いない被加工物２の表面には加工が施される。
上から第１の噴射ノズル４を用いて、砥粒５が気体６中
に均一に分散した遊離砥粒噴流７を被加工物２の表面に
向かって高速噴射する。そうするとマスク３に覆われて
いない被加工物２の表面には加工が施される。
【００１２】そして、砥粒５は実施例では、粒径約２μ
ｍのポリメチルメタクリレート等プラスチックの母粒子
と粒径約０．２μｍのダイヤモンド等研磨材の子粒子と
の複合砥粒を用いた。それから、気体６としては、圧力
として３〜６ｋｇ／ｃｍ2 の空気、ドライ窒素等の高圧
気体を用いた。
ｍのポリメチルメタクリレート等プラスチックの母粒子
と粒径約０．２μｍのダイヤモンド等研磨材の子粒子と
の複合砥粒を用いた。それから、気体６としては、圧力
として３〜６ｋｇ／ｃｍ2 の空気、ドライ窒素等の高圧
気体を用いた。
【００１３】更にまた、前記マスク３上から第２の噴射
ノズル８を使用して気体噴流９を被加工物２の表面に向
かって高速噴射する。そして、気体噴流９は圧力として
１〜６ｋｇ／ｃｍ2 の空気、ドライ窒素の高圧気体を用
いた。
ノズル８を使用して気体噴流９を被加工物２の表面に向
かって高速噴射する。そして、気体噴流９は圧力として
１〜６ｋｇ／ｃｍ2 の空気、ドライ窒素の高圧気体を用
いた。
【００１４】このようにして、第１の噴射ノズル４を用
いて遊離砥粒噴流７を、第２の噴射ノズル８を用いて気
体噴流９を同時に高速噴射して被加工物２の表面に加工
を施した。その後、マスク３を外すと実施例ではスパイ
ラル溝付動圧スラスト気体軸受が得られる。
いて遊離砥粒噴流７を、第２の噴射ノズル８を用いて気
体噴流９を同時に高速噴射して被加工物２の表面に加工
を施した。その後、マスク３を外すと実施例ではスパイ
ラル溝付動圧スラスト気体軸受が得られる。
【００１５】前記の第１の噴射ノズル４を用いて遊離砥
粒噴流７を生成する方法及びその装置は、本発明の発明
者が平成２年９月２５日に出願した特願平２−２５２０
１３号「均一な固気２相混合流生成方法及び粉体供給輸
送装置」に提案した技術を用いるとよい。
粒噴流７を生成する方法及びその装置は、本発明の発明
者が平成２年９月２５日に出願した特願平２−２５２０
１３号「均一な固気２相混合流生成方法及び粉体供給輸
送装置」に提案した技術を用いるとよい。
【００１６】この先願発明は、高圧気体の平行流を粉体
供給輸送管に流し、この粉体供給輸送管に垂直に固気２
相流吹き出し口を有する粉体供給円筒ノズルを設け、こ
のノズルの表面で前記平行流が加速される加速領域を形
成し、この加速領域で固気２相流吹き出し口より固気２
相流を吹き出させ、粉体を高圧気体で高速加速、攪拌す
るとともに、前記ノズルの下流域になるに従って粉体を
攪拌、分散させて、粉体が均一に攪拌された固気２相混
合流を生成する方法及びその装置である。この先願発明
の装置に、この実施例の第１の噴射ノズル４を装着して
遊離砥粒噴流７を被加工物２の表面に向かって高速噴射
させるとよい。
供給輸送管に流し、この粉体供給輸送管に垂直に固気２
相流吹き出し口を有する粉体供給円筒ノズルを設け、こ
のノズルの表面で前記平行流が加速される加速領域を形
成し、この加速領域で固気２相流吹き出し口より固気２
相流を吹き出させ、粉体を高圧気体で高速加速、攪拌す
るとともに、前記ノズルの下流域になるに従って粉体を
攪拌、分散させて、粉体が均一に攪拌された固気２相混
合流を生成する方法及びその装置である。この先願発明
の装置に、この実施例の第１の噴射ノズル４を装着して
遊離砥粒噴流７を被加工物２の表面に向かって高速噴射
させるとよい。
【００１７】次に、この噴射ノズル４及び８は断面が長
方形の噴口１０になっている。そして、この噴射ノズル
４及び８の噴口１０と被加工物２との寸法関係は、噴口
１０と被加工物２の回転中心１１を一致させ、これらの
いずれか一方または双方を矢印方向１２に回転させた場
合にマスク３上から見て、噴射ノズル４及び８の噴口１
０の回転幅寸法（Ｗ3 ）が前記被加工物２の回転幅寸法
（Ｗ4 ）より大きくなっている。
方形の噴口１０になっている。そして、この噴射ノズル
４及び８の噴口１０と被加工物２との寸法関係は、噴口
１０と被加工物２の回転中心１１を一致させ、これらの
いずれか一方または双方を矢印方向１２に回転させた場
合にマスク３上から見て、噴射ノズル４及び８の噴口１
０の回転幅寸法（Ｗ3 ）が前記被加工物２の回転幅寸法
（Ｗ4 ）より大きくなっている。
【００１８】このようにすることにより、これらの噴射
ノズル４及び８から均一な噴射圧力分布の遊離砥粒噴流
７及び気体噴流９をマスク３を被せた被加工物２の表面
に向かって同時に高速噴射して均一な表面構造、表面性
状の加工を施すことができる。
ノズル４及び８から均一な噴射圧力分布の遊離砥粒噴流
７及び気体噴流９をマスク３を被せた被加工物２の表面
に向かって同時に高速噴射して均一な表面構造、表面性
状の加工を施すことができる。
【００１９】更に、被加工物２及びマスク４に衝突して
反射する砥粒５と第１の噴射ノズル４から噴射した遊離
砥粒噴流７に含まれた砥粒５との衝突を第２の噴射ノズ
ル８から気体噴流９を高速噴射することにより軽減する
ことができる。従って、これらの砥粒５同志が相互に衝
突することもなく、円滑な加工を施し、加工効率を向上
させることができる。
反射する砥粒５と第１の噴射ノズル４から噴射した遊離
砥粒噴流７に含まれた砥粒５との衝突を第２の噴射ノズ
ル８から気体噴流９を高速噴射することにより軽減する
ことができる。従って、これらの砥粒５同志が相互に衝
突することもなく、円滑な加工を施し、加工効率を向上
させることができる。
【００２０】更にまた、被加工物２及びマスク３に付着
した砥粒５、研削屑、塵埃、その他の異物を第２の噴射
ノズル８から気体噴流９を高速噴射することにより、清
浄、洗浄することができる。従って、第１の噴射ノズル
４から遊離砥粒噴流７を被加工物２にに高速噴射して円
滑に加工を施し、加工効率を向上させることができる。
そして、被加工物２に付着した砥粒５、研削屑等を清
浄、洗浄することにより、被加工物２に傷を付けること
がなく鏡面仕上げをすることができる。
した砥粒５、研削屑、塵埃、その他の異物を第２の噴射
ノズル８から気体噴流９を高速噴射することにより、清
浄、洗浄することができる。従って、第１の噴射ノズル
４から遊離砥粒噴流７を被加工物２にに高速噴射して円
滑に加工を施し、加工効率を向上させることができる。
そして、被加工物２に付着した砥粒５、研削屑等を清
浄、洗浄することにより、被加工物２に傷を付けること
がなく鏡面仕上げをすることができる。
【００２１】このようにして例示したスパイラル溝付動
圧スラスト気体軸受の溝加工においては、溝深さ（ｄ）
を２μｍ程度、その表面粗さを０．０２μｍ程度に微細
加工することができる。また、マスク３に噴射圧力が均
一に当たるため、マスク３の傷みが従来より少なく、マ
スク３を長寿命化することができる。
圧スラスト気体軸受の溝加工においては、溝深さ（ｄ）
を２μｍ程度、その表面粗さを０．０２μｍ程度に微細
加工することができる。また、マスク３に噴射圧力が均
一に当たるため、マスク３の傷みが従来より少なく、マ
スク３を長寿命化することができる。
【００２２】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、被加工
物の表面に均一な表面構造、表面性状を有する微細加工
を施すことが可能となる。また、加工効率を向上させる
ことができる。従って、マイクロマシン分野のような微
細加工に適用することができる。
物の表面に均一な表面構造、表面性状を有する微細加工
を施すことが可能となる。また、加工効率を向上させる
ことができる。従って、マイクロマシン分野のような微
細加工に適用することができる。
【図１】 本発明の遊離砥粒噴射加工装置と被加工物及
び該被加工物上のマスクとの関係を示した説明図であっ
て、これはその平面図である。
び該被加工物上のマスクとの関係を示した説明図であっ
て、これはその平面図である。
【図２】 図１のＸ1 −Ｘ2 線上における断面図であ
る。
る。
【図３】 図１のＹ1 −Ｙ2 線上における断面図であ
る。
る。
１ 加工物装着台 ２ 被加工物 ３ マスク ４ 第１の噴射ノズル ５ 砥粒 ６ 気体 ７ 遊離砥粒噴流 ８ 第２の噴射ノズル ９ 気体噴流 １０ 噴口 １１ 回転中心 １２ 回転方向 Ｒ1 軸受内半径 Ｒ2 軸受外半径 Ｒ3 軸受溝半径 Ｗ1 軸受外周部溝幅 Ｗ2 軸受外周部リッジ幅 Ｗ3 噴口１０の回転幅寸法 Ｗ4 被加工物２の回転幅寸法 ｄ 軸受溝深さ α° 流入角（軸受外周部の接線方向と成す角）
Claims (5)
- 【請求項１】 被加工物を感光性樹脂でマスクし、砥粒
が気体中に均一に分散した遊離砥粒噴流を第１の噴射ノ
ズルから前記マスク上に高速噴射して前記被加工物に加
工を施すとともに、第２の噴射ノズルから気体噴流を前
記マスク上に高速噴射して前記被加工物を清浄、洗浄す
るようにしたことを特徴とする遊離砥粒噴射加工方法。 - 【請求項２】 前記砥粒がポリメチルメタクリレート等
プラスチックの母粒子とダイヤモンド等砥粒の子粒子と
の複合化砥粒からなることを特徴とする請求項１に記載
の遊離砥粒噴射加工方法。 - 【請求項３】 回転中心の一致した前記被加工物と前記
噴射ノズルとを相対的に回転させ、前記噴射ノズルの噴
口の回転幅が前記被加工物の加工表面の回転幅より大き
くしたことを特徴とする請求項１に記載の遊離砥粒噴射
加工方法。 - 【請求項４】 流体軸受の被加工面を感光性樹脂でマス
クし、砥粒が気体中に均一に分散した遊離砥粒噴流を第
１の噴射ノズルから前記マスク上に高速噴射して前記被
加工面に軸受溝を形成するとともに、第２の噴射ノズル
から気体噴流を前記マスク上に高速噴射して前記被加工
面を清浄、洗浄するようにしたことを特徴とする流体軸
受。 - 【請求項５】 請求項３に記載の遊離砥粒噴射加工方法
を用いて加工したことを特徴とする請求項４に記載の流
体軸受。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8537992A JPH05285835A (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 遊離砥粒噴射加工方法及びこの方法を用いて加工した流体軸受 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8537992A JPH05285835A (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 遊離砥粒噴射加工方法及びこの方法を用いて加工した流体軸受 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05285835A true JPH05285835A (ja) | 1993-11-02 |
Family
ID=13857100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8537992A Pending JPH05285835A (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 遊離砥粒噴射加工方法及びこの方法を用いて加工した流体軸受 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05285835A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200031774A (ko) * | 2018-09-17 | 2020-03-25 | 크루셜텍 (주) | 글라스 패턴 형성 디바이스 및 글라스 패턴 형성 방법 |
-
1992
- 1992-04-07 JP JP8537992A patent/JPH05285835A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200031774A (ko) * | 2018-09-17 | 2020-03-25 | 크루셜텍 (주) | 글라스 패턴 형성 디바이스 및 글라스 패턴 형성 방법 |
| WO2020060106A1 (ko) * | 2018-09-17 | 2020-03-26 | 크루셜텍(주) | 글라스 패턴 형성 디바이스 및 글라스 패턴 형성 방법 |
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